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      一種調(diào)控半導(dǎo)體量子阱材料Rashba和Dresselhaus自旋軌道耦合比值的方法

      文檔序號:8458392閱讀:539來源:國知局
      一種調(diào)控半導(dǎo)體量子阱材料Rashba和Dresselhaus自旋軌道耦合比值的方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001] 本發(fā)明涉及半導(dǎo)體自旋電子學(xué)領(lǐng)域,具體涉及一種調(diào)控半導(dǎo)體量子阱材料Rashba 和Dresselhaus自旋軌道親合比值的方法。
      【背景技術(shù)】
      [0002] 由于自旋電子學(xué)器件具有低能耗、高集成度、高數(shù)據(jù)處理速度等優(yōu)點(diǎn),因此成為 當(dāng)前的研宄熱點(diǎn)。實(shí)現(xiàn)自旋電子學(xué)器件的必要條件是體系中高度的自旋極化和自旋狀 態(tài)的有效控制。自旋軌道耦合提供了一種調(diào)控自旋軌道耦合的全電學(xué)的方法,從而成為 自旋電子學(xué)的一個重要的研宄內(nèi)容。自旋軌道耦合根據(jù)其起源的不同,可以分成兩種, 一種是Dresselhaus自旋軌道親合,它是由體反演不對稱(bulk inversion asymmetry, ΒΙΑ)引起的,另一種是Rashba自旋軌道親合,由結(jié)構(gòu)反演不對稱(structure inversion asymmetry,SIA)引起的。這兩種自旋軌道親合會發(fā)生相互作用,從而導(dǎo)致各向異性自旋分 裂。此外,當(dāng)這兩種自旋軌道耦合強(qiáng)度相等時,自旋弛豫就會被抑制,自旋電子的壽命將大 大延長,這對于設(shè)計和實(shí)現(xiàn)自旋電子學(xué)器件具有十分重要的意義。因此,有效的調(diào)控Rashba 和Dresselhaus自旋軌道親合的比值就顯得十分重要。
      [0003] 目前,有文獻(xiàn)報道,可以通過改變量子阱的勢皇層中調(diào)制摻雜的位置,或者通過臺 階量子講結(jié)構(gòu)來調(diào)控Rashba和Dresselhaus自旋軌道親合的比值。然而,這兩種方法成本 較高,難度較大,且難以實(shí)現(xiàn)連續(xù)調(diào)控。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0004] 有鑒于此,本發(fā)明的目的是提出一種調(diào)控半導(dǎo)體量子阱材料Rashba和 Dresselhaus自旋軌道親合比值的方法,能夠簡便快捷且有效的調(diào)控半導(dǎo)體量子講Rashba 和Dresselhaus自旋軌道親合比值。
      [0005] 本發(fā)明米用以下方案實(shí)現(xiàn):一種調(diào)控半導(dǎo)體量子講材料Rashba和Dresselhaus自 旋軌道耦合比值的方法,包括以下步驟:
      [0006] 步驟Sl :選擇符合條件的半導(dǎo)體量子阱材料;
      [0007] 步驟S2 :用一束能量高于步驟Sl中所述半導(dǎo)體量子阱材料帶隙的光照射所述 半導(dǎo)體量子阱材料,同時改變所述半導(dǎo)體量子阱材料的溫度,測量半導(dǎo)體量子阱材料的 Rashba和Dresselhaus自旋軌道親合比值。
      [0008] 進(jìn)一步地,步驟Sl中所述的條件為:半導(dǎo)體量子阱材料為單晶結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體量子 阱材料沒有進(jìn)行摻雜、半導(dǎo)體量子阱材料的阱寬的量級為幾個納米到幾十納米、半導(dǎo)體量 子阱材料的帶階分布屬于I型結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體量子阱材料的激子束縛能高于6meV并且半導(dǎo)體 量子阱材料的內(nèi)建電場大于7kV/cm。
      [0009] 進(jìn)一步地,所述步驟S2中用以照射半導(dǎo)體量子阱材料的光的功率大于4mW/cm2。
      [0010] 進(jìn)一步地,所述步驟S2具體包括以下步驟:
      [0011] 步驟S21 :將照射用的光波長調(diào)到所述半導(dǎo)體量子阱材料激子效應(yīng)較強(qiáng)的波長位 置;
      [0012] 步驟S22 :改變半導(dǎo)體量子阱材料的溫度為預(yù)設(shè)溫度值,分別測得所述半導(dǎo)體量 子講材料的Isia和Ibia,計算該溫度下Rashba和Dresselhaus自旋軌道親合的比值I SIA/IBIA; 其中,Isia為所述半導(dǎo)體量子阱材料Rashba自旋軌道耦合引起的光電流,IBIA為由半導(dǎo)體量 子講Dresselhaus自旋軌道親合引起的光電流;
      [0013] 步驟S23 :改變預(yù)設(shè)溫度值,返回步驟S22。
      [0014] 進(jìn)一步地,所述步驟S22與步驟S23中,預(yù)設(shè)溫度值范圍為400K-0K。
      [0015] 與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn)。
      [0016] 1、本發(fā)明提供的這種調(diào)控半導(dǎo)體量子講Rashba和Dresselhaus自旋軌道親合比 值的方法,十分簡單易行,成本低廉,有利于日后推廣應(yīng)用。
      [0017] 2、本發(fā)明提供的這種調(diào)控Rashba和DresseIhaus自旋軌道親合比值的方法,調(diào)控 效果明顯,調(diào)控范圍較大,并且較容易實(shí)現(xiàn)連續(xù)調(diào)控。
      【附圖說明】
      [0018] 圖1為本發(fā)明的實(shí)施例中一個半導(dǎo)體量子阱樣品的結(jié)構(gòu)示意圖。
      [0019] 圖2為本發(fā)明的實(shí)施例中測量半導(dǎo)體量子阱Rashba和Dresselhaus自旋軌道耦 合比值的測試系統(tǒng)示意圖。
      [0020] 圖3為本發(fā)明的實(shí)施例中測量半導(dǎo)體量子阱Rashba和Dresselhaus自旋軌道耦 合比值的樣品和光路分布示意圖,其中圖3(a)為測量半導(dǎo)體量子阱Rashba自旋軌道耦合 的樣品和光路分布示意圖,圖3(b)為測量半導(dǎo)體量子阱Dresselhaus自旋軌道耦合的樣品 和光路分布不意圖。
      [0021] 圖4為本發(fā)明的實(shí)施例中的半導(dǎo)體量子阱樣品對應(yīng)于量子阱第一重空穴子帶到 第一電子子帶躍迀的Rashba和Dresselhaus自旋軌道親合比值隨溫度的變化曲線。
      [0022] [主要組件符號說明]
      [0023] 圖1中,1為(001)面半絕緣GaAs襯底,2為200納米(nm)的GaAs緩沖層,3為 5〇nm 的 Ala3Gaa7As 勢皇層,4 為 IOnmIntll5Gaa85As 勢講層,5 為 IOnm 的 Ala3Gaa7As 勢皇層, 勢阱層4和勢皇層5重復(fù)10個周期,6為50nm的Ala3Gaa7As勢皇層,7為IOnmGaAs蓋層。
      [0024] 圖2中,201為超連續(xù)白光激光器,202為斬波器,203為單色儀,204為起偏器,205 為光彈性調(diào)制器,206為低溫恒溫器,207為半導(dǎo)體量子阱樣品,208為電流前置放大器,209 和210均為兩臺鎖相放大器。
      [0025] 圖3中,31為入射激發(fā)光,32為樣品的法線方向,33為待測半導(dǎo)體量子阱樣品,34 為打在樣品上光斑,35為樣品上的銦電極,36為由Rashba自旋軌道耦合誘導(dǎo)的光電流I SIA, 37為由Dresselhaus自旋軌道親合誘導(dǎo)的光電流IBIA。
      [0026] 圖4中,矩形符號41表不實(shí)驗(yàn)測得的半導(dǎo)體量子講IHlE躍迀的Rashba和 Dresselhaus自旋軌道親合比值,豎直走向的短線42表示測量誤差。
      【具體實(shí)施方式】
      [0027] 下面結(jié)合附圖及實(shí)施例對本發(fā)明做進(jìn)一步說明。
      [0028] 本實(shí)施例提供了一種調(diào)控半導(dǎo)體量子講材料Rashba和Dresselhaus自旋軌道親 合比值的方法,包括以下步驟:
      [0029] 步驟Sl :選擇符合條件的半導(dǎo)體量子阱材料;
      [0030] 步驟S2 :用一束能量高于步驟Sl中所述半導(dǎo)體量子阱材料帶隙的光照射所述 半導(dǎo)體量子阱材料,同時改變所述半導(dǎo)體量子阱材料的溫度,測量半導(dǎo)體量子阱材料的 Rashba和Dresselhaus自旋軌道親合比值。
      [0031] 在本實(shí)施例中,步驟Sl中所述的條件為:半導(dǎo)體量子阱材料為單晶結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體 量子阱材料沒有進(jìn)行摻雜、半導(dǎo)體量子阱材料的阱寬的量級為幾個納米到幾十納米、半導(dǎo) 體量子阱材料的帶階分布屬于I型結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體量子阱材料的激子束縛能高于6meV并且半 導(dǎo)體量子阱材料的內(nèi)建電場大于7kV/cm。
      [0032] 在本實(shí)施例中,所述步驟S2中用以照射半導(dǎo)體量子阱材料的光的功率大于4mW/ cm2。
      [0033] 在本實(shí)施例中,所述步驟S2具體包括以下步驟:
      [0034] 步驟S21 :將照射用的光波長調(diào)到所述半導(dǎo)體量子阱材料激子效應(yīng)較強(qiáng)的波長位 置;
      [0035] 步驟S22 :改變半導(dǎo)體量子阱材料的溫度為預(yù)設(shè)溫度值,分別測得所述半導(dǎo)體量 子講材料的Isia和Ibia,計算該溫度下Rashba和Dresselhaus自旋軌道親合的比值I S
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