全彩有機(jī)發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及有機(jī)發(fā)光二極管技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種全彩有機(jī)發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]有機(jī)發(fā)光二極管(OLED)具有主動發(fā)光，對比度高，能薄型化，響應(yīng)速度快等諸多優(yōu)點(diǎn)，被公認(rèn)是顯示器的主力軍。全彩化的效果一直是OLED顯示器發(fā)展成功與否的關(guān)鍵。目前全彩化OLED的制作方法以紅綠藍(lán)三色并列獨(dú)立發(fā)光法、白光加彩色濾光片法、色轉(zhuǎn)換法三種方式為主。其中紅藍(lán)綠三色并列獨(dú)立發(fā)光法最有潛力，實(shí)際應(yīng)用最多，其制造方法是在基板上蒸鍍?nèi)簿褪羌t綠藍(lán)像素，在蒸鍍紅綠藍(lán)其中的一組有機(jī)材料時，利用高精度掩模板將另外兩個顏色的像素遮蔽，每一個顏色都有相對應(yīng)的一套高精度掩模板，依序完成蒸鍍。
[0003]圖1示出了現(xiàn)有技術(shù)中的一種全彩OLED結(jié)構(gòu)，其是以紅綠藍(lán)三色并列獨(dú)立發(fā)光，結(jié)合作為微腔調(diào)整層的空穴注入層，得到全彩化的發(fā)光。如圖1所示，該OLED結(jié)構(gòu)由下至上包括玻璃襯底P、反射陽極2'、第一空穴注入層3'、藍(lán)光空穴注入層4-1'、綠光空穴注入層4-2'、紅光空穴注入層4-3'、空穴傳輸層5'、藍(lán)光發(fā)光層6-1'、綠光發(fā)光層6-2'、紅光發(fā)光層6-3,、電子傳輸層7,、電子注入層8,、、半透明陰極9,。所述的藍(lán)光空穴注入層4-1'、綠光空穴注入層4-2'、紅光空穴注入層4-3'其材料相同，之所以將其稱之為相應(yīng)顏色的空穴注入層，是因?yàn)樗鼈兎謩e與藍(lán)光發(fā)光層6-1,、綠光發(fā)光層6-2,、紅光發(fā)光層6-3'相對應(yīng)，作為微腔調(diào)整層，使OLED發(fā)出全彩的光。
[0004]上述結(jié)構(gòu)在制備上存在困難，由于制備藍(lán)光空穴注入層4-1'、綠光空穴注入層4-2'、紅光空穴注入層4-3'和藍(lán)光發(fā)光層6-1'、綠光發(fā)光層6-2'、紅光發(fā)光層6-3'中的每一次都需要用一次高精度遮擋掩模，總共需要六次高精度遮擋掩模工藝，而每采用一次掩模都需要一套高精度掩模板，且需要高精度對位等工藝，增大了工藝成本，并且該結(jié)構(gòu)增大了混色的機(jī)率，因此高精度掩模板的減少使用是迫切需要解決的技術(shù)問題。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的在于提出一種全彩有機(jī)發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)及其制造方法，能夠減少高精度掩模板的使用，降低成本，并且得到全彩效果好的發(fā)光。
[0006]為達(dá)此目的，本發(fā)明采用以下技術(shù)方案:
[0007]—種全彩有機(jī)發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)，包括:玻璃襯底；反射陽極，設(shè)置于所述玻璃襯底上；微共振腔調(diào)整層，設(shè)置于所述反射陽極上；空穴傳輸層，設(shè)置于所述微共振腔調(diào)整層上；發(fā)光層，設(shè)置于所述空穴傳輸層上；所述發(fā)光層包括設(shè)置在所述空穴傳輸層上的紅光和綠光混合發(fā)光層，以及設(shè)置在所述空穴傳輸層上的藍(lán)光發(fā)光層，所述藍(lán)光發(fā)光層的一部分覆蓋所述紅光和綠光混合發(fā)光層。
[0008]其中，所述紅光和綠光混合發(fā)光層為單層結(jié)構(gòu)，包括同時蒸鍍的綠光和紅光發(fā)光材料。
[0009]其中，蒸鍍的綠光和紅光發(fā)光材料是在主體發(fā)光材料中摻雜1-12%的紅光磷光材料和3-12%的綠光磷光材料。
[0010]其中，所述紅光和綠光混合發(fā)光層為雙層結(jié)構(gòu)，包括蒸鍍的紅光發(fā)光材料層以及蒸鍍在所述紅光發(fā)光材料層之上的綠光發(fā)光材料層。
[0011]其中，所述紅光發(fā)光材料層的厚度為所述綠光發(fā)光材料層厚度的兩倍。
[0012]其中，所述紅光發(fā)光材料層的厚度為2.5-10nm，所述綠光發(fā)光材料層的厚度為5_10nmo
[0013]其中，所述微共振腔調(diào)整層包括第一空穴注入層與設(shè)置在所述第一空穴注入層上的第二空穴注入層，所述第二空穴注入層包括，藍(lán)光空穴注入層，設(shè)置在所述第一空穴注入層上；紅光空穴注入層和綠光空穴注入層，設(shè)置在所述藍(lán)光空穴注入層上，并且彼此間隔一定距離，所述藍(lán)光空穴注入層的厚度、紅光空穴注入層的厚度和綠光空穴注入層的厚度之間滿足一定比例。
[0014]其中，所述藍(lán)光空穴注入層的厚度、紅光空穴注入層的厚度和綠光空穴注入層的厚度的比例為3:2:1。
[0015]其中，所述藍(lán)光空穴注入層的厚度為750nm，紅光空穴注入層的厚度為500nm，所述綠光空穴注入層的厚度為250nm。
[0016]其中，還包括電子傳輸層，設(shè)置于所述發(fā)光層上；電子注入層，設(shè)置于所述電子傳輸層上；半透明陰極層，置于所述電子注入層上。
[0017]本發(fā)明還提供了一種全彩有機(jī)發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)的制造方法，包括以下步驟:提供一玻璃襯底；在所述玻璃襯底上形成反射陽極；在所述反射陽極上形成微共振腔調(diào)整層；在所述微共振腔調(diào)整層上形成空穴傳輸層；在所述空穴傳輸層上形成發(fā)光層，形成所述發(fā)光層的步驟包括采用蒸鍍工藝配合高精度掩模板在所述空穴傳輸層上形成紅光和綠光混合發(fā)光層，采用蒸鍍工藝配合全開口掩模板在所述空穴傳輸層上和所述紅光和綠光混合發(fā)光層上形成藍(lán)光發(fā)光層。
[0018]其中，形成紅光和綠光混合發(fā)光層包括采用高精度掩模板在所述空穴傳輸層上蒸鍍摻雜1-12%的紅光磷光材料和3-12%的綠光磷光材料的主體發(fā)光材料。
[0019]其中，形成紅光和綠光混合發(fā)光層包括，以高精度掩模板在所述空穴傳輸層上蒸鍍紅光發(fā)光材料層，采用同一套高精度掩模板在所述紅光發(fā)光材料層之上蒸鍍綠光發(fā)光材料層。
[0020]其中，所述紅光發(fā)光材料層的厚度為所述綠光發(fā)光材料層厚度的兩倍。
[0021]其中，所述紅光發(fā)光材料層的厚度為2.5-10nm，所述綠光發(fā)光材料層的厚度為5_10nmo
[0022]其中，形成微共振腔調(diào)整層的步驟包括形成第一空穴注入層，在所述第一空穴注入層上形成第二空穴注入層，形成第二空穴注入層的方法是采用蒸鍍工藝配合一套全開口掩模板形成藍(lán)光空穴注入層，采用蒸鍍工藝配合高精度掩模板在所述藍(lán)光空穴注入層上分別形成間隔一定距離的紅光空穴注入層和綠光空穴注入層，并且使所述藍(lán)光空穴注入層的厚度、紅光空穴注入層的厚度和綠光空穴注入層的厚度之間滿足一定比例。
[0023]其中，所述藍(lán)光空穴注入層的厚度、紅光空穴注入層的厚度和綠光空穴注入層的厚度的比例為3:2:1。
[0024]其中，所述藍(lán)光空穴注入層的厚度為750nm，紅光空穴注入層的厚度為500nm，所述綠光空穴注入層的厚度為250nm。
[0025]其中，還包括在所述發(fā)光層上形成電子傳輸層；在所述電子傳輸層上形成電子注入層；在所述電子注入層上形成半透明陰極層。
[0026]本發(fā)明提出的一種全彩有機(jī)發(fā)光二極管結(jié)構(gòu)及其制造方法，只需要三次高精度遮擋掩模就能得到全彩發(fā)光，減小混色的機(jī)率，減少掩模的使用，降低成本。
【附圖說明】
[0027]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中OLED的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0028]圖2為實(shí)施例一中OLED的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0029]圖3為實(shí)施例二中OLED的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0030]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0031]I'、1、玻璃襯底；2'、2、反射陽極；3'、3、第一空穴注入層；4-1'、4_1、藍(lán)光空穴注入層；4-2'、4-2、綠光空穴注入層；4-3'、4-3、紅光空穴注入層；5'、5、空穴傳輸層、6-Γ、6-1藍(lán)光發(fā)光層；6-2、紅光與綠光發(fā)光層；6-2'、6_2_1、綠光發(fā)光層；6_3 ' ,6-2-2紅光發(fā)光層；7'、7電子傳輸層；8'、8電子注入層；9'、9、半透明陰極。
【具體實(shí)施方式】
[0032]下面結(jié)合附圖和實(shí)施例對本發(fā)明