電子設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及二極管、晶體管等電子設(shè)備中的電極的形成，更詳細(xì)而言，涉及具有利用涂布法形成的電極圖案的電子設(shè)備的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]電子電路的小型化逐年進(jìn)展，與之相伴，電極的微細(xì)布線化也正在進(jìn)展。在如此進(jìn)行微細(xì)布線化的電極的制作中，通常采用光刻法。
[0003]然而，在采用了光刻工藝的提離或濕式蝕刻中，在抗蝕劑涂布、干燥、曝光、顯影及膜的蝕刻等中，使用大量的溶劑或化學(xué)藥品、電力，因此對(duì)地球環(huán)境帶來(lái)大的負(fù)荷。
[0004]對(duì)此，近年來(lái)，作為希望設(shè)備投資的負(fù)擔(dān)輕、可大量生產(chǎn)、低成本的優(yōu)點(diǎn)的方法，變?yōu)檫M(jìn)行使用了印刷的電極形成。與光刻法相比，印刷法中使用原材料或化學(xué)藥品是少量的，因此作為有利于地球環(huán)境的綠色創(chuàng)新領(lǐng)域的技術(shù)而受到期待。印刷法中，希望能進(jìn)一步應(yīng)對(duì)少量多品種的印刷技術(shù)。
[0005]作為利用印刷法形成電極圖案的具體方法，有噴墨方式、凸版印刷、凹版印刷、噴霧印刷、狹縫涂布法、網(wǎng)板印刷等各種方法。其中，對(duì)微細(xì)布線有效的印刷方法是噴墨方式、凸版印刷以及凹版印刷。
[0006]然而，凸版印刷和凹版印刷中，從使用版這一方面來(lái)看，按需應(yīng)變性差。對(duì)此，可以認(rèn)為，不需要版的噴墨方式的按需應(yīng)變性優(yōu)良。
[0007]但是，當(dāng)以噴墨方式進(jìn)行微細(xì)布線時(shí)，是否能使著墨至基板的油墨無(wú)論如何都不擴(kuò)展地確實(shí)地形成于指定位置成為重點(diǎn)。
[0008]圖4、5中示出利用噴墨方式在基板上進(jìn)行了微細(xì)布線時(shí)的概念圖。圖4(a)、圖5(a)表示油墨剛滴下之后的狀態(tài)，圖4(b)、圖5(b)表示溶劑蒸發(fā)時(shí)的狀態(tài)，圖4(c)、圖5(c)表示干燥后的油墨的狀態(tài)。
[0009]圖4中，基板11對(duì)油墨15的潤(rùn)濕性高，因此線寬會(huì)擴(kuò)大至設(shè)定寬度d以上。另一方面，圖5中，基板21對(duì)油墨25的疏液性高，因此油墨25不會(huì)定影而是移動(dòng)至基板的端部，線寬也變窄。
[0010]如此，在噴墨方式中，發(fā)生因基板的潤(rùn)濕性導(dǎo)致油墨的線寬變化的現(xiàn)象。
[0011]作為上述現(xiàn)象的對(duì)策，例如專利文獻(xiàn)I中記載了如下內(nèi)容:通過(guò)向潤(rùn)濕性控制層照射紫外線而使表面能量變化，從而控制油墨擴(kuò)展的范圍。
[0012]另外，專利文獻(xiàn)2中記載了如下內(nèi)容:為了控制油墨的擴(kuò)展范圍，利用通過(guò)將油墨滴至凸起區(qū)域來(lái)引起比平滑面更疏水的行為的現(xiàn)象。
[0013]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0014]專利文獻(xiàn)
[0015]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2007-150246號(hào)公報(bào)
[0016]專利文獻(xiàn)2:日本特開(kāi)2004-141856號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0017]發(fā)明要解決的技術(shù)問(wèn)題
[0018]然而，上述專利文獻(xiàn)I中記載的方法中，需要形成與紫外線能量發(fā)生反應(yīng)、發(fā)生潤(rùn)濕性變化的特殊的控制層，另外，當(dāng)將上述控制層用作有機(jī)晶體管的柵極絕緣膜時(shí)，有在絕緣性或晶體管特性方面產(chǎn)生問(wèn)題的可能性。
[0019]另一方面，上述專利文獻(xiàn)2中記載的方法中，需要在基板上形成用于控制潤(rùn)濕性的凹凸層，為了高精度地形成這樣的凹凸必須使用光刻技術(shù)。
[0020]因此，優(yōu)選能以簡(jiǎn)單的結(jié)構(gòu)容易地按需應(yīng)變形成高精細(xì)的電極圖案的方法。
[0021]本發(fā)明是為了解決上述技術(shù)問(wèn)題而作出的，其目的在于提供具有能按需應(yīng)變、能高精細(xì)且簡(jiǎn)便地形成的電極圖案的電子設(shè)備的制造方法。
[0022]用于解決技術(shù)問(wèn)題的手段
[0023]本發(fā)明的電子設(shè)備的制造方法是在基板上具有由不同于上述基板的材質(zhì)構(gòu)成且持有高于上述基板的表面能量、電極圖案形狀的第一層和在上述第一層的上表面利用導(dǎo)電性納米油墨形成的第二層的電子設(shè)備的制造方法，其特征在于，利用氣幕方式激光CVD法形成上述第一層。
[0024]通過(guò)使用氣幕方式激光CVD法，可容易地構(gòu)成高精細(xì)的電極圖案。
[0025]另外，本發(fā)明的另一形態(tài)的電子設(shè)備的制造方法是在基板上具有由不同于上述基板的材質(zhì)構(gòu)成且持有低于上述基板的表面能量的基底層、在上述基底層的上表面由不同于上述基底層的材質(zhì)構(gòu)成且持有高于上述基底層的表面能量、電極圖案形狀的第一層、以及在上述第一層的上表面利用導(dǎo)電性納米油墨形成的第二層的電子設(shè)備的制造方法，其特征在于，利用氣幕方式激光CVD法形成上述第一層。
[0026]當(dāng)基板的表面能量與第一層的表面能量為同等程度或大于第一層的表面能量時(shí)，通過(guò)這樣使基板與第一層之間介有表面能量低于基板的基底層、且使用氣幕方式激光CVD法，能與上述的情況相同地形成高精細(xì)的電極圖案。
[0027]對(duì)上述第一層來(lái)說(shuō)，作為持有高于上述基板或上述基底層的表面能量的表面能量的材質(zhì)，是利用金屬或者其氧化物或氮化物中的任一種或兩種以上的混合物、或有機(jī)化合物形成的。
[0028]發(fā)明效果
[0029]根據(jù)本發(fā)明，能在不使用真空腔室或光刻法的情況下、以簡(jiǎn)便的方法制造按需應(yīng)變地形成有高精細(xì)的電極圖案的電子設(shè)備。
【附圖說(shuō)明】
[0030]圖1是表示本發(fā)明的電子設(shè)備的電極圖案結(jié)構(gòu)的一個(gè)形態(tài)的概念截面圖。
[0031]圖2是表示本發(fā)明的電子設(shè)備的電極圖案結(jié)構(gòu)的另一形態(tài)的概念截面圖。
[0032]圖3是用于說(shuō)明圖1的電極圖案的形成過(guò)程的概念截面圖，(a)表示油墨剛滴下之后的狀態(tài)，(b)表示溶劑蒸發(fā)時(shí)的狀態(tài)，(C)表示干燥后的油墨的狀態(tài)。
[0033]圖4是利用噴墨方式在潤(rùn)濕性高的基板上進(jìn)行了微細(xì)布線時(shí)的概念截面圖，(a)表示油墨剛滴下之后的狀態(tài)，(b)表示溶劑蒸發(fā)時(shí)的狀態(tài)，(c)表示干燥后的油墨的狀態(tài)。
[0034]圖5是利用噴墨方式在疏液性高的基板上進(jìn)行了微細(xì)布線時(shí)的概念截面圖，(a)表示油墨剛滴下之后的狀態(tài)，(b)表示溶劑蒸發(fā)時(shí)的狀態(tài)，(c)表示干燥后的油墨的狀態(tài)。
[0035]圖6表示氣幕方式激光CVD裝置的概念圖。
【具體實(shí)施方式】
[0036]以下，參照附圖對(duì)本發(fā)明進(jìn)行詳細(xì)說(shuō)明。
[0037]本發(fā)明的電子設(shè)備的制造方法是在基板上具有由不同于上述基板的材質(zhì)構(gòu)成且持有高于上述基板的表面能量、電極圖案形狀的第一層和在上述第一層的上表面利用導(dǎo)電性納米油墨形成的第二層的電子設(shè)備的制造方法。并且，特征在于利用氣幕方式激光CVD法形成上述第一層。
[0038]圖1示出本發(fā)明的電子設(shè)備的上述形態(tài)電極圖案結(jié)構(gòu)的概念圖。如圖1所示，本發(fā)明的電子設(shè)備中，在基板I上形成有第一層2和第二層3。對(duì)第一層2來(lái)說(shuō)，材質(zhì)不同于基板1，持有高于基板I的表面能量，形成為電極圖案形狀。并且，第二層3是利用導(dǎo)電性納米油墨形成的。
[0039]圖3示出用于說(shuō)明圖1所示的電極圖案的形成過(guò)程的概念圖。首先，在基板I上，以電極圖案形狀預(yù)先形成持有高于基板I的表面能量的第一層2。由此，在基板I與第一層2之間形成表面能量不同的邊界面。然后，當(dāng)剛將導(dǎo)電性納米油墨5滴至第一層2上之后，油墨會(huì)按照溢出第一層2的寬度、使一部分也接觸于基板I表面的方式擴(kuò)展(參照?qǐng)D3(a))。之后，當(dāng)油墨的溶劑蒸發(fā)，則導(dǎo)電性納米油墨5自組織地僅聚集地滯留在表面能量高的第一層2的上表面，導(dǎo)電性納米油墨進(jìn)一步的擴(kuò)展得到抑制(參照?qǐng)D3(b))。當(dāng)在此狀態(tài)下使導(dǎo)電性納米油墨干燥，則僅在第一層2的上表面形成由導(dǎo)電性納米油墨5干燥而生成的第二層3，從而能以與第一層2大致同等的寬度形成微細(xì)的電極圖案。
[0040]另外，本發(fā)明的另一形態(tài)的電子設(shè)備的制造方法是在基板上具有由不同于上述基板的材質(zhì)構(gòu)成且持有低于上述基板的表面能量的基底層、在上述基底層的上表面由不同于上述基底層的材質(zhì)構(gòu)成且持有高于上述基底層的表面能量、電極圖案形狀的第一層、以及在上述第一層的上表面利用導(dǎo)電性納米油墨形成的第二層的電子設(shè)備的制造方法。并且，該方法的特征也在于利用氣幕方式激光CVD法形成上述第一層。
[0041]圖2示出本發(fā)明的電子設(shè)備的上述形態(tài)的電極圖案結(jié)構(gòu)的概念圖。圖2中，在基板I與第一層2之間形成有基底層4。對(duì)于基底層4來(lái)說(shuō)，材質(zhì)不同于基板1，持有低于基板I的表面能量。然后，對(duì)于基底層4的上表面的第一層2來(lái)說(shuō)，材質(zhì)不同于基底層4，