刻蝕裝置及其使用方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示器件的制造領(lǐng)域，具體涉及一種刻蝕裝置和一種該刻蝕裝置的使用方法。
【背景技術(shù)】
[0002]陣列基板制造過程，主要分為清洗、成膜、曝光顯影、刻蝕、剝離五大工藝。其中刻蝕工藝分為干法刻蝕和濕法刻蝕，濕法刻蝕被廣泛用于金屬薄膜及氧化物薄膜的刻蝕。濕法刻蝕工藝主要是指采用化學(xué)藥液對(duì)刻蝕物進(jìn)行去除的一種技術(shù)。對(duì)待刻蝕的基板進(jìn)行濕法刻蝕時(shí)，通過化學(xué)藥液與刻蝕物發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，把未被光刻膠覆蓋的薄膜進(jìn)行去除，從而實(shí)現(xiàn)電極圖案化。
[0003]濕法刻蝕設(shè)備通常是利用酸性刻蝕液體通過噴嘴把刻蝕液噴淋到待刻蝕基板表面，與基板表面的膜層發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而達(dá)到刻蝕的目的。然而，實(shí)際生產(chǎn)過程當(dāng)中，噴淋和揮發(fā)出的刻蝕液液滴會(huì)附著在刻蝕設(shè)備的蓋板上，附著在刻蝕設(shè)備蓋板上的刻蝕液液滴逐漸累積，形成越來越大的刻蝕液液滴，最終滴落在待刻蝕基板上，導(dǎo)致刻蝕不均，嚴(yán)重影響產(chǎn)品的良率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的目的在于提供一種刻蝕裝置和一種該刻蝕裝置的使用方法，以防止刻蝕過程中刻蝕液滴滴落在基板上。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供一種刻蝕裝置，包括刻蝕腔室，其中，所述刻蝕裝置還包括設(shè)置在所述刻蝕腔室內(nèi)的液滴去除組件，所述液滴去除組件用于去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴。
[0006]優(yōu)選地，所述刻蝕腔室的頂部形成有維護(hù)入口，所述刻蝕裝置包括蓋板，所述蓋板覆蓋在所述維護(hù)入口上，以形成為所述刻蝕腔室的頂壁的至少一部分，所述液滴去除組件設(shè)置在所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上。
[0007]優(yōu)選地，所述液滴去除組件包括刷片，所述刷片能夠在刻蝕開始前或刻蝕結(jié)束后沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面與所述蓋板發(fā)生相對(duì)移動(dòng)，以使得所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上的液滴被刷落至所述刻蝕腔室內(nèi)。
[0008]優(yōu)選地，所述液滴去除組件還包括至少一個(gè)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述蓋板的朝向刻蝕腔室的表面上，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括主動(dòng)輪、從動(dòng)輪、套在所述主動(dòng)輪和所述從動(dòng)輪上的皮帶，所述液滴去除組件還包括用于驅(qū)動(dòng)所述主動(dòng)輪轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)，所述刷片設(shè)置在所述皮帶上，所述刷片的長(zhǎng)度方向與所述皮帶的延伸方向相交叉。
[0009]優(yōu)選地，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)還包括安裝件，所述安裝件可拆卸地設(shè)置在所述皮帶上，所述刷片固定在所述安裝件上。
[0010]優(yōu)選地，所述液滴去除組件包括兩個(gè)間隔設(shè)置的所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述刷片的兩端分別設(shè)置在兩個(gè)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的安裝件上。
[0011]優(yōu)選地，所述刻蝕裝置還包括基板檢測(cè)器件和控制器，所述基板檢測(cè)器件用于檢測(cè)基板位置，當(dāng)所述基板檢測(cè)器件檢測(cè)到所述基板位于所述刻蝕腔室外部時(shí)，該基板檢測(cè)器件能夠向所述控制器發(fā)送開始信號(hào)，所述控制器根據(jù)所述開始信號(hào)控制所述電機(jī)開始運(yùn)行。
[0012]優(yōu)選地，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)能夠帶動(dòng)所述刷片在第一預(yù)定位置和第二預(yù)定位置之間移動(dòng)，所述液滴去除組件還包括用于檢測(cè)所述刷片的位置的刷片檢測(cè)器件，當(dāng)所述刷片檢測(cè)器件檢測(cè)到所述刷片移動(dòng)至所述第一預(yù)定位置或第二預(yù)定位置時(shí)，能夠向所述控制器發(fā)送停止信號(hào)，所述控制器根據(jù)該停止信號(hào)控制所述電機(jī)停止運(yùn)行。
[0013]優(yōu)選地，所述位置檢測(cè)器件包括設(shè)置在所述第一預(yù)定位置的第一傳感器和設(shè)置在所述第二預(yù)定位置的第二傳感器，當(dāng)所述第一傳感器檢測(cè)到所述刷片到達(dá)所述第一預(yù)定位置時(shí)，所述第一傳感器能夠向所述控制器發(fā)送停止信號(hào)，當(dāng)所述第二傳感器檢測(cè)到所述刷片到達(dá)所述第二預(yù)定位置時(shí)，所述第二傳感器能夠向所述控制器發(fā)送停止信號(hào)。
[0014]優(yōu)選地，所述刻蝕裝置還包括傳輸組件，用于將所述基板輸入至所述刻蝕腔室中的預(yù)定區(qū)域，所述第一預(yù)定位置和所述第二預(yù)定位置所限定的區(qū)域的正投影至少覆蓋所述預(yù)定區(qū)域的正投影。
[0015]相應(yīng)地，本發(fā)明還提供一種刻蝕裝置的使用方法，所述刻蝕裝置為本發(fā)明提供的上述刻蝕裝置，所述使用方法包括:
[0016]利用所述液滴去除組件去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴。
[0017]優(yōu)選地，所述刻蝕腔室的頂部形成有維護(hù)入口，所述刻蝕裝置包括蓋板，所述蓋板覆蓋在所述維護(hù)入口上，以形成為所述刻蝕腔室的頂壁的至少一部分，所述液滴去除組件設(shè)置在所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上，利用所述液滴去除組件去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴的步驟包括:
[0018]利用液滴去除組件去除所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上的液滴。
[0019]優(yōu)選地，所述液滴去除組件包括刷片，利用液滴去除組件去除所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面上的液滴的步驟包括:
[0020]在刻蝕開始前或刻蝕結(jié)束后，控制所述刷片沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面與所述蓋板發(fā)生相對(duì)移動(dòng)，以使得所述蓋板上的液滴被刷落至所述刻蝕腔室內(nèi)。
[0021]優(yōu)選地，所述液滴去除組件還包括至少一個(gè)傳動(dòng)機(jī)構(gòu)，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)設(shè)置在所述蓋板的朝向刻蝕腔室的表面上，所述傳動(dòng)機(jī)構(gòu)包括主動(dòng)輪、從動(dòng)輪、套在所述主動(dòng)輪和所述從動(dòng)輪上的皮帶，所述液滴去除組件還包括用于驅(qū)動(dòng)所述主動(dòng)輪轉(zhuǎn)動(dòng)的電機(jī)，所述刷片設(shè)置在所述皮帶上，所述刷片的長(zhǎng)度方向與所述皮帶的延伸方向相交叉，
[0022]控制所述刷片沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面與所述蓋板發(fā)生相對(duì)移動(dòng)的步驟包括:
[0023]控制所述電機(jī)運(yùn)行，以帶動(dòng)刷片沿所述蓋板的朝向所述刻蝕腔室的表面移動(dòng)。
[0024]優(yōu)選地，所述刻蝕裝置還包括基板檢測(cè)器件和控制器，控制所述電機(jī)運(yùn)行的步驟包括:
[0025]利用所述基板檢測(cè)器件檢測(cè)基板的位置，當(dāng)所述基板檢測(cè)檢測(cè)器件檢測(cè)到基板位于所述刻蝕腔室外部時(shí)，向所述控制器發(fā)送開始信號(hào)；
[0026]利用所述控制器根據(jù)所述開始信號(hào)控制所述電機(jī)開始運(yùn)行。
[0027]優(yōu)選地，所述液滴去除組件還包括用于檢測(cè)所述刷片的位置的刷片檢測(cè)器件，所述使用方法還包括:
[0028]利用所述刷片檢測(cè)器件檢測(cè)所述刷片的位置，當(dāng)所述刷片檢測(cè)器件檢測(cè)到所述刷片移動(dòng)至所述第一預(yù)定位置或第二預(yù)定位置時(shí)，向所述控制器發(fā)送停止信號(hào)；
[0029]利用所述控制器根據(jù)所述控制信號(hào)控制所述電機(jī)停止運(yùn)行。
[0030]在本發(fā)明中，所述刻蝕腔內(nèi)設(shè)置有液滴去除組件，可以將附著在刻蝕腔室頂壁上的液滴去除，從而減少了液滴滴落在基板表面的情況發(fā)生，進(jìn)而改善了刻蝕效果，保證了產(chǎn)品的質(zhì)量。
【附圖說明】
[0031]附圖是用來提供對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面的【具體實(shí)施方式】一起用于解釋本發(fā)明，但并不構(gòu)成對(duì)本發(fā)明的限制。在附圖中:
[0032]圖1是本發(fā)明的實(shí)施例中刻蝕裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0033]圖2是本發(fā)明的實(shí)施例中液滴去除組件的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0034]圖3是本發(fā)明的實(shí)施例中傳動(dòng)機(jī)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0035]其中，附圖標(biāo)記為:1、噴淋單元；11、噴淋管；12、噴嘴；2、亥Ij蝕腔室；3、基板；4、傳輸組件；5、供液管路；6、回收管路；7、供液泵；8、儲(chǔ)液罐；9、蓋板；10、液滴去除組件；101、刷片;102、電機(jī)；103、傳動(dòng)軸；105、傳動(dòng)機(jī)構(gòu);105a、主動(dòng)輪;105b、從動(dòng)輪;105c、皮帶；105d、安裝件；106、第一傳感器；107、第二傳感器。
【具體實(shí)施方式】
[0036]以下結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】進(jìn)行詳細(xì)說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處所描述的【具體實(shí)施方式】?jī)H用于說明和解釋本發(fā)明，并不用于限制本發(fā)明。
[0037]作為本發(fā)明的一個(gè)方面，提供一種刻蝕裝置，包括刻蝕腔室，所述刻蝕裝置還包括設(shè)置在所述刻蝕腔室內(nèi)的液滴去除組件，所述液滴去除組件用于去除附著在所述刻蝕腔室頂壁上的液滴。
[0038]本發(fā)明的刻蝕裝置尤其適用于濕法刻蝕中，濕法刻蝕過程中，刻蝕液噴淋或揮發(fā)后會(huì)在刻蝕腔室的頂壁附著一層液滴，當(dāng)液滴聚集變大到一定程度后，會(huì)從頂壁上滴落。
[0039]在本發(fā)明中，所述刻蝕腔內(nèi)設(shè)置有液滴去除組件10，可以將附著在刻蝕腔室頂壁上的液滴去除，從而減少了液滴滴落在基板表面的情況發(fā)生，減少了滴落的液滴對(duì)刻蝕效果的影響，進(jìn)而保證了產(chǎn)品的質(zhì)量。
[0040]為了便于對(duì)刻蝕腔室的清理和維