一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有的顯示面板如圖1所示，包括顯示區(qū)域101以及位于顯示區(qū)域101周邊的電路綁定區(qū)域102。每個顯示區(qū)域101包括由柵線11和數(shù)據(jù)線12交叉形成的多個顯示單元，每個顯示單元對應(yīng)設(shè)置有一個薄膜晶體管13，薄膜晶體管13包括柵極G、源極S和漏極D，其中，柵極G和柵線11連接，源極S和數(shù)據(jù)線12連接，當柵線11和數(shù)據(jù)線12同時輸入電信號時，該薄膜晶體管13打開，控制使得對應(yīng)的顯示單元顯示不同的灰階。而電路綁定區(qū)域102主要通過PFC (Flexible Printed Circuit board，柔性線路板)等向柵線11、數(shù)據(jù)線12等輸出控制信號。
[0003]—般的，電路綁定區(qū)域的線路較多，難免會有交叉。示例的，如圖2所示，一條第一連接線21和三條第二連接線22交叉設(shè)置，則在交叉位置處第一連接線21和第二連接線22會形成電容，影響信號的傳輸。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]本發(fā)明的實施例提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，所述顯示基板上的第一連接線和第二連接線之間形成有半導體層，減小第一連接線和第二連接線的電容。
[0005]為達到上述目的，本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:
[0006]—方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示基板，所述顯示基板包括襯底基板以及依次形成在所述襯底基板上的第一導電層、絕緣層、第二導電層，其中，所述顯示基板劃分為顯示區(qū)域以及電路綁定區(qū)域，所述第一導電層包括位于所述電路綁定區(qū)域的第一連接線，所述第二導電層包括位于所述電路綁定區(qū)域的第二連接線，所述第一連接線和所述第二連接線交叉設(shè)置；所述顯示基板還包括位于所述第一導電層和所述第二導電層之間的半導體層，所述半導體層包括至少位于所述第一連接線和所述第二連接線交叉位置處的半導體圖案。
[0007]可選的，所述半導體圖案為圓形或橢圓形。
[0008]可選的，所述半導體層位于所述絕緣層和所述第二導電層之間。
[0009]可選的，沿所述第二連接線的方向，所述半導體圖案伸出于所述第一連接線。
[0010]可選的，沿所述第一連接線的方向，所述半導體圖案伸出于所述第二連接線。
[0011]可選的，一個所述半導體圖案對應(yīng)多個所述交叉位置。
[0012]可選的，所述第一導電層還包括位于所述顯示區(qū)域的柵線，所述第二導電層還包括位于所述顯示區(qū)域的數(shù)據(jù)線，所述半導體層還包括位于所述顯示區(qū)域的有源層圖案。
[0013]另一方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示基板的制作方法，包括:
[0014]在襯底基板上形成第一導電層，所述第一導電層包括位于電路綁定區(qū)域的第一連接線；
[0015]在所述襯底基板上形成絕緣層，所述絕緣層覆蓋所述電路綁定區(qū)域的第一連接線；
[0016]在所述襯底基板上形成半導體層，所述半導體層包括位于所述電路綁定區(qū)域的半導體圖案，每一所述半導體圖案與至少一條所述第一連接線有交疊；
[0017]在所述襯底基板上形成第二導電層，所述第二導電層包括位于所述電路綁定區(qū)域的第二連接線，所述第二連接線與所述第一連接線交叉設(shè)置，所述半導體圖案至少位于所述第一連接線和所述第二連接線的交叉位置處。
[0018]可選的，所述第一導電層還包括位于所述顯示區(qū)域的柵線，所述第二導電層還包括位于所述顯示區(qū)域的數(shù)據(jù)線，所述半導體層還包括位于所述顯示區(qū)域的有源層圖案，所述絕緣層還覆蓋所述顯示區(qū)域的柵線。
[0019]另一方面，本發(fā)明實施例提供了一種顯示裝置，包括本發(fā)明實施例提供的任一顯不基板。
[0020]本發(fā)明的實施例提供一種顯示基板及其制作方法、顯示裝置，在電路綁定區(qū)域，第一連接線和第二連接線之間還形成有半導體圖案，第一連接線和半導體圖案形成第一電容，第二連接線和半導體圖案形成第二電容，則第一電容和第二電容并聯(lián)，其電容值小于第一連接線和第二連接線直接形成電容的電容值，從而可以減少第一連接線和第二連接線的信號干擾。
【附圖說明】
[0021]為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0022]圖1為現(xiàn)有的顯不面板不意圖；
[0023]圖2為現(xiàn)有的顯示面板電路綁定區(qū)域示意圖；
[0024]圖3為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖；
[0025]圖4為圖3所不顯不基板的截面圖；
[0026]圖5為本發(fā)明實施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖；
[0027]圖6為圖5所不顯不基板的截面圖；
[0028]圖7為本發(fā)明實施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖；
[0029]圖8為圖7所不顯不基板的截面圖；
[0030]圖9為本發(fā)明實施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖；
[0031]圖10為圖9所不顯不基板的截面圖；
[0032]圖11為本發(fā)明實施例提供的另一種顯示基板的電路綁定區(qū)域示意圖；
[0033]圖12為本發(fā)明實施例提供的一種顯示基板的制作方法示意圖。
[0034]附圖標記:
[0035]11-柵線；12_數(shù)據(jù)線；13_薄膜晶體管；20_襯底基板；21_第一連接線；22_第二連接線；23_絕緣層；24_半導體圖案；101_顯示區(qū)域；102_電路綁定區(qū)域。
【具體實施方式】
[0036]下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0037]需要說明的是，在本發(fā)明的描述中，需要理解的是，術(shù)語“上”、“下”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系，僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述，而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作，因此不能理解為對本發(fā)明的限制。
[0038]在本發(fā)明所有實施例中，需要闡明“層”和“圖案”的定義，以及之間的關(guān)系。其中，“層”是指利用某一種材料在基板上利用沉積或其他工藝制作出的一層薄膜，若在整個制作過程當中該薄膜還需構(gòu)圖工藝，則構(gòu)圖工藝后稱為“層”。經(jīng)過構(gòu)圖工藝后的“層”中包含至少一個“圖案”。
[0039]示例的，沉積形成金屬薄膜，經(jīng)構(gòu)圖后形成源漏金屬層，源漏金屬層包括源極和漏極，其中源極和漏極即為圖案。
[0040]所謂“構(gòu)圖工藝”一般是將薄膜形成包含至少一個圖案的層的工藝；而構(gòu)圖工藝通常包含:在薄膜上涂膠，利用掩膜板對所述光刻膠進行曝光，再利用顯影液將需去除的光刻膠沖蝕掉，再