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      清潔玻璃基材的方法_2

      文檔序號(hào):9583710閱讀:來(lái)源:國(guó)知局
      2的化,K,Fe,化和化。
      [0030] 在步驟e)之后,該玻璃基材的至少一個(gè)表面通常包含小于0. 02個(gè)顆粒/cm2,該顆 粒的有效直徑大于0.3微米。
      [0031] 應(yīng)理解,前面的一般性描述和W下的詳細(xì)描述都只是本發(fā)明的示例,用來(lái)提供理 解要求保護(hù)的本發(fā)明的性質(zhì)和特性的總體評(píng)述或框架。包括的附圖提供了對(duì)本發(fā)明的進(jìn)一 步理解,附圖被結(jié)合在本說(shuō)明書中并構(gòu)成說(shuō)明書的一部分。附圖舉例說(shuō)明了本發(fā)明的各種 實(shí)施方式,并與描述一起用來(lái)解釋本發(fā)明的原理和操作。
      [0032] 附圖簡(jiǎn)要說(shuō)明
      [0033] 圖1示意性地顯示根據(jù)本發(fā)明的一種實(shí)施方式的清潔玻璃基材產(chǎn)品的過(guò)程;
      [0034] 圖2是圖1的過(guò)程的示意正視圖;
      [0035] 圖3示意性地顯示根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施方式的移動(dòng)液體排放裝置來(lái)將液體施加到 玻璃基材的表面;
      [0036] 圖4是圖表,顯示在暴露于水性肥1溶液之后玻璃基材表面處的鋼離子和鐘離子 標(biāo)準(zhǔn)化強(qiáng)度隨時(shí)間的變化;和
      [0037] 圖5是一部分傳送裝置的橫截面視圖,其用來(lái)傳送玻璃基材通過(guò)圖1和2所示的 過(guò)程。 陽(yáng)0測(cè)詳細(xì)描述
      [0039] 下面詳細(xì)參考本發(fā)明的示例實(shí)施方式,運(yùn)些實(shí)施方式的例子在附圖中示出。只要 可能,在所有附圖中使用相同的附圖標(biāo)記來(lái)表示相同或類似的部分。
      [0040] 一種制造玻璃基材特別是制造適用于制造液晶或其它類型顯示器的薄玻璃基材 的示例過(guò)程可設(shè)及下述步驟:(i)形成薄玻璃帶(ribbon), (ii)將薄玻璃帶切割成單獨(dú)的 玻璃基材,(iii)除去非均勻的厚度的區(qū)域,例如"珠化eads)",其可在形成過(guò)程中沿著 薄玻璃帶的邊緣形成,(iv)將玻璃基材整形(sizing)到所需尺寸,(V)剝離可能已經(jīng)連接 到玻璃基材的任何保護(hù)膜,例如為了便于加工的保護(hù)膜,(Vi)研磨和拋光玻璃基材的邊緣 部分,例如除去非均勻的厚度區(qū)域剩余的邊緣部分,(Vii)洗涂玻璃基材,(Viii)檢查玻 璃基材,和(ix)封裝。每一個(gè)步驟都對(duì)玻璃基材上可能發(fā)現(xiàn)的污染物的類型、尺寸和性質(zhì) 有影響。雖然在整個(gè)制造過(guò)程中都采取措施來(lái)防止和控制污染,但正是預(yù)期清潔步驟除去 玻璃基材在制造時(shí)可能累積的全部污染物,并向玻璃基材提供滿足或超過(guò)消費(fèi)者預(yù)期的表 面質(zhì)量。因此,本文描述一種清潔玻璃基材的方法,其可用于從玻璃基材除去有機(jī)和無(wú)機(jī) 污染物。此外,本文所述的清潔過(guò)程可有助于除去玻璃基材的表面層中的不想要的離子, 該離子可能干擾后續(xù)地沉積在玻璃基材上的電子組件的操作。運(yùn)種離子可包含形成一部分 玻璃組合物的離子。 陽(yáng)041] 可受益于本文所述的方法的玻璃基材的厚度可為約100微米-約3mm,例如約100 微米-約Irnm,或約100微米-約500微米。然而,在一些實(shí)施方式中,玻璃基材的厚度可 薄于約100微米,例如約50微米-約100微米。玻璃基材可為平坦的玻璃板,其具有基本 上平行的主表面。玻璃板的一個(gè)主表面的面積可為小于1平方米(m2)-約12平方米。然 而,本文所述的方法可特別適用于下述玻璃基材,其單一表面積(玻璃基材的長(zhǎng)度乘W寬 度)等于或大于4平方米,例如是約4平方米-約12平方米。應(yīng)理解,本文所述的方法不 受限于玻璃基材的尺寸??赏ㄟ^(guò)任意合適的用于生產(chǎn)玻璃板的方法來(lái)形成玻璃基材,包括 但不限于浮法、上拉法和下拉法和狹縫拉制法,運(yùn)些方法是本技術(shù)領(lǐng)域所公知的且在運(yùn)里 不再進(jìn)一步描述。
      [0042] 由本文所述的方法得到的玻璃基材可用于任何種類的下游工藝,但尤其良好地適 用于制造電子裝置。例如,由本文所述的方法得到的玻璃基材可用于制造視覺(jué)顯示面板, 其可用于液晶顯示器化CD)或發(fā)光二極管(例如有機(jī)發(fā)光二極管,OLED)顯示器。運(yùn)樣的 視覺(jué)顯示面板可用于各種電子設(shè)備,包括但不限于移動(dòng)通信設(shè)備(如手機(jī)),便攜式計(jì)算 機(jī)(如平板電腦、筆記本電腦和手提電腦),臺(tái)式電腦,電視機(jī),甚至可W覆蓋墻的全部或 一部分的大尺寸顯示器。
      [0043] 下面的步驟(如圖1和2所述)描述根據(jù)本發(fā)明的清潔玻璃基材的示例過(guò)程90。 在第一步驟100中,使用利用移動(dòng)液體排放裝置200的清潔液體,可除去大顆粒(尺寸大 于約1微米)和有機(jī)污染物。移動(dòng)液體排放裝置200的主要作用是使用通過(guò)清潔液體204 貼著玻璃基材表面撞擊形成的力,從玻璃基材202的表面除去大玻璃顆粒。圖2描述在過(guò) 程90中沿著傳送方向206傳送多個(gè)玻璃基材202。通常,運(yùn)種大玻璃顆粒是之前的切割過(guò) 程的結(jié)果,其中將大玻璃基材切割成更小的玻璃基材。參考圖3,可通過(guò)噴嘴207將力賦予 清潔液體噴涂來(lái)增加水的流速,也可將機(jī)械擺動(dòng)作用賦予包含噴嘴的噴嘴桿208。例如,可 通過(guò)電機(jī)和杠桿、齒輪、傳動(dòng)鏈等(未顯示)將機(jī)械擺動(dòng)作用賦予噴嘴桿,其向噴嘴桿提供 往復(fù)式角運(yùn)動(dòng),從而噴嘴桿繞著軸線210旋轉(zhuǎn)。例如,噴嘴桿208可通過(guò)相對(duì)于玻璃基材 的平面垂直的方向W約±5度-約±90度,約±10度-約±80度,或約±15度-約 ±60度的弧度擺動(dòng)。在一些實(shí)施方式中,清潔液體204可為水,例如去離子水。移動(dòng)液體 排放裝置200還可將臭氧化的去離子水用作清潔液體204,運(yùn)有助于除去有機(jī)污染物。臭 氧化的去離子水值I化)的氧化電勢(shì)較高,因此將設(shè)置在玻璃基材表面上的有機(jī)材料轉(zhuǎn)化成 c〇2,H2〇等。如本文所使用,di〇3表示包含臭氧的去離子值I)水(即臭氧化的水),例如其 中在使用之前通過(guò)DI水鼓入臭氧。在一些實(shí)施方式中,可將洗涂劑與水(例如DI水或 di〇3)組合使用,且可在水之前和之后或與水同時(shí)使用。在其它實(shí)施方式中,可使用洗涂劑 替代水。
      [0044] 再次參考圖1和2,雖然移動(dòng)液體排放裝置200表示通過(guò)強(qiáng)力除去大顆粒的機(jī) 械裝置,但在圖1和2中概括稱作步驟110的第二步驟中,于子步驟IlOa中可使用化學(xué) 溶液來(lái)從玻璃基材表面舉起顆粒。根據(jù)一些實(shí)施方式,可將玻璃基材暴露于第一堿溶液 212,例如SCl溶液。SCl是高抑(〉10)NH40H和&〇2(氨氧化錠和過(guò)氧化氨)在水中的溶液 ((NH40H:H202:H20)。可與第一堿溶液一起使用超聲攬拌,來(lái)輔助從玻璃基材表面舉起顆粒。 例如,可將超聲傳感器固定到設(shè)置在玻璃基材上方或下方的噴嘴214,其中超聲傳感器用 來(lái)在第一堿溶液排出噴嘴時(shí)向第一堿溶液引入超聲能量(即,振蕩)。用于超聲能量的合適 的頻率可為約20曲Z-約200曲Z。可使用多于一個(gè)噴嘴214來(lái)排放第一堿溶液212。
      [0045] 通過(guò)實(shí)施根切(undercutting)作用增強(qiáng)顆粒除去特別是除去粘附的玻璃微粒, 其中施加的化學(xué)溶液稍稍蝕刻玻璃表面和顆粒之間的邊界。根切作用有助于破壞玻璃基材 表面和微粒之間的范德華力,并將顆粒從玻璃表面舉起,然后需要移動(dòng)顆粒遠(yuǎn)離玻璃基材 來(lái)避免再次沉積(再次污染)。如果第一堿溶液包含SC1,SCl溶液的混合物比例W體積計(jì)可 為約1:1:5-約1:2:80 (例如,W體積計(jì)1份畑40H比1份&〇2比5份H2〇)。例如,上述范圍 之內(nèi)的合適的混合物比例范圍包括但不限于1:1:5, 1:2:20, 1:2:40,和1:2:80, 1:2:200或 它們之間的任意范圍。因此,合適的范圍可包含約1:1:5-約1:2:40,約1:1:5-約1:2:40, 和約1:2:20-約1:2:80的范圍。例如,已顯示約1:2:40的混合物比例對(duì)于顆粒除去是特 別有效的。第一堿溶液在玻璃基材表面上的暴露時(shí)間可根據(jù)粘附的玻璃顆粒的尺寸和數(shù)目 而變化。典型的暴露時(shí)間可為約1分鐘-約30分鐘。存在過(guò)氧化氨還可提供氧化電勢(shì),其 可有助于除去有機(jī)污染物(通常有效地用于除去輕度污染的有機(jī)材料)。第一堿溶液212 的溫度可為約25°C-約80°C,例如,約40°C-約75°C。可將例如刷子(未顯示)的機(jī)械 輔助與第一堿溶液組合使用來(lái)洗擦玻璃基材表面。
      [0046] 在步驟110的第二子步驟11化中,可使用作為液體排放物從噴嘴218施加到玻 璃基材的合適的淋洗液體216來(lái)淋洗玻璃基材,W確保子步驟IlOa中從玻璃基材表面舉起 的顆粒被除去遠(yuǎn)離玻璃基材表面,從而防止顆粒再次沉積到玻璃基材表面上。淋洗液體216 可為去離子水。
      [0047] 還參考圖1和2,在概括稱作步驟120的第S步驟中,除去尺寸小于約1微米的 亞微米尺寸的顆粒。為了有效地除去亞微米尺寸的顆粒,必須減少亞微米尺寸的顆粒和玻 璃基材之間的邊界層。運(yùn)通過(guò)將玻璃基材表面暴露于來(lái)自噴嘴222的第二堿溶液220的液 體排放來(lái)實(shí)現(xiàn),如由第一子步驟120a所示。液體排放可任選地與第二堿溶液的兆聲波攬 拌結(jié)合。例如,合適的第二堿溶液可包含SCI
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