制環(huán)境載體的底部表面之間的間隙能將清潔干燥空氣流引導(dǎo)穿過(guò)端口門(mén)和底部表面之間的密封件。
[0109]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境接口模塊限定通往清潔隧道的中入口或中間入口。
[0110]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境接口模塊位于清潔隧道的端部之間。
[0111]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境接口模塊包括可旋轉(zhuǎn)端口門(mén)，其可移動(dòng)到受控制環(huán)境接口模塊的內(nèi)部空間中，其中，端口門(mén)的旋轉(zhuǎn)允許受控制環(huán)境載體自動(dòng)以不同于所需的晶片堆疊定向的定向加載受控制環(huán)境載體。
[0112]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境接口模塊包括穿過(guò)式加載鎖。
[0113]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，在受控制環(huán)境載體打開(kāi)時(shí)，受控制環(huán)境載體的內(nèi)部氣氛與穿過(guò)式加載鎖的內(nèi)部氣氛連通。
[0114]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境接口模塊為穿過(guò)式模塊，其包括具有整體襯底支持件的端口門(mén)。
[0115]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，整體襯底支持件與端口門(mén)作為一個(gè)單元移動(dòng)。
[0116]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，內(nèi)部環(huán)境和處理工具的環(huán)境為公共環(huán)境，其延伸通過(guò)受控制環(huán)境接口模塊。
[0117]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，流體阻隔密封件相對(duì)于內(nèi)部環(huán)境的氣氛為加壓密封件。
[0118]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境載體包括用于保持內(nèi)部環(huán)境的殼體和用于密封性地封閉殼體的門(mén)，流體阻隔密封件包括通路，在門(mén)關(guān)閉時(shí)其形成在殼體和門(mén)之間的接口處。
[0119]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境載體和受控制環(huán)境接口模塊之間的接口包括流體端口，以獨(dú)立于內(nèi)部環(huán)境的氣氛而裝填流體阻隔密封件的流體。
[0120]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境載體和受控制環(huán)境接口模塊之間的接口包括流體端口，以獨(dú)立于內(nèi)部環(huán)境的氣氛從流體阻隔密封件排空流體。
[0121]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，流體端口構(gòu)造成在受控制環(huán)境載體和受控制環(huán)境接口模塊中的一個(gè)或多個(gè)栗吸到真空氣氛之前或與此分開(kāi)而從流體阻隔密封件自動(dòng)排空流體。
[0122]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底處理工具包括中心轉(zhuǎn)移腔室和處理模塊，處理模塊可連通地聯(lián)接到中心轉(zhuǎn)移腔室的一個(gè)或多個(gè)側(cè)部上，受控制環(huán)境接口模塊連接到中心轉(zhuǎn)移腔室上。
[0123]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，中心轉(zhuǎn)移腔室包括至少一個(gè)轉(zhuǎn)移機(jī)器人，以在受控制環(huán)境接口模塊和處理模塊之間轉(zhuǎn)移一個(gè)或多個(gè)襯底。
[0124]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，中心轉(zhuǎn)移腔室具有多邊形形狀。
[0125]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，中心轉(zhuǎn)移腔室包括多個(gè)轉(zhuǎn)移腔室，其聯(lián)接到彼此上。
[0126]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，多個(gè)轉(zhuǎn)移腔室至少通過(guò)受控制環(huán)境接口模塊而聯(lián)接到彼此上。
[0127]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，多個(gè)轉(zhuǎn)移腔室通過(guò)線性運(yùn)送隧道而聯(lián)接到彼此上。
[0128]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，受控制環(huán)境接口模塊設(shè)置在線性運(yùn)送隧道的一個(gè)或多個(gè)端部處。
[0129]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底處理工具包括自動(dòng)搬運(yùn)系統(tǒng)，其用于將受控制環(huán)境載體轉(zhuǎn)移到受控制環(huán)境接口模塊。
[0130]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，處理工具包括裝備前端單元，其不同于受控制環(huán)境接口模塊。
[0131]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，提供一種密封襯底載體的方法。該方法包括提供具有內(nèi)部環(huán)境和用于封閉內(nèi)部環(huán)境的門(mén)的襯底載體殼體，在殼體和門(mén)之間的接口處提供流體阻隔密封件，其中，流體阻隔密封件圍繞門(mén)的外周延伸并且具有與內(nèi)部環(huán)境不同的氣氛。
[0132]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，方法進(jìn)一步包括提供第一密封件，其設(shè)置在內(nèi)部環(huán)境和流體阻隔密封件之間的接口處，以及提供第二密封件，其設(shè)置在流體阻隔密封件和殼體外部的氣氛之間的接口處。
[0133]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，方法進(jìn)一步包括提供中間密封件，其設(shè)置在第一密封件和流體阻隔密封件之間。
[0134]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底加載器模塊包括襯底載體與處理工具接口模塊，其具有至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口，襯底傳送通過(guò)至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口，并且至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口構(gòu)造成聯(lián)接到處理工具的真空環(huán)境和處理工具的氣氛環(huán)境中的一個(gè)或多個(gè)。襯底載體與處理工具接口模塊包括真空接口，其構(gòu)造成允許襯底載體的內(nèi)部環(huán)境通往處理工具的真空環(huán)境，并且氣氛接口構(gòu)造成允許襯底載體的內(nèi)部環(huán)境通往處理工具的氣氛環(huán)境。
[0135]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成排空或裝填位于襯底載體的門(mén)和襯底載體的殼體之間的襯底載體流體阻隔密封件。
[0136]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成排空或裝填襯底載體的內(nèi)部環(huán)境。
[0137]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊包括Z軸驅(qū)動(dòng)器，以使襯底載體的至少一部分沿橫向于襯底的轉(zhuǎn)移平面的方向移動(dòng)到襯底載體中，以及移動(dòng)出襯底載體。
[0138]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成分開(kāi)襯底載體的殼與襯底載體的門(mén)，以暴露連接到門(mén)上的襯底支架。
[0139]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成用于聯(lián)接到襯底處理工具的加載鎖上。
[0140]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成用于聯(lián)接到襯底處理工具的微環(huán)境。
[0141]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底處理工具包括其中具有氣氛環(huán)境的帶氣氛式處理腔室、其中具有真空環(huán)境且連接到帶氣氛式處理腔室上的真空處理腔室，以及襯底載體與處理工具接口模塊，襯底載體與處理工具接口模塊具有至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口，襯底傳送通過(guò)可關(guān)閉開(kāi)口，并且可關(guān)閉開(kāi)口構(gòu)造成聯(lián)接到帶氣氛式處理腔室和真空處理腔室中的一個(gè)或多個(gè)上。襯底載體與處理工具接口模塊包括真空接口和氣氛接口，真空接口構(gòu)造成允許襯底載體的內(nèi)部環(huán)境通往真空處理腔室的真空環(huán)境，氣氛接口構(gòu)造成允許襯底載體的內(nèi)部環(huán)境通往帶氣氛式處理腔室的氣氛環(huán)境。
[0142]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，真空處理腔室包括加載鎖，其中，襯底載體與處理工具接口模塊連接到加載鎖上。
[0143]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，帶氣氛式處理腔室包括微環(huán)境，其中，襯底載體與處理工具接口模塊連接到微環(huán)境。
[0144]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，真空處理腔室包括加載鎖，并且?guī)夥帐教幚砬皇野ㄎh(huán)境，其中，襯底載體與處理工具接口模塊連接到加載鎖和微環(huán)境兩者。
[0145]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成排空或裝填位于襯底載體的門(mén)和襯底載體的殼體之間的襯底載體流體阻隔密封件。
[0146]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成排空或裝填襯底載體的內(nèi)部環(huán)境。
[0147]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成形成穿過(guò)式加載鎖，穿過(guò)式加載鎖連接到真空處理腔室和帶氣氛式處理腔室上，襯底載體與處理工具接口模塊具有設(shè)置在至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口中的一個(gè)下方的襯底支持?jǐn)R架。
[0148]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成使得襯底通過(guò)穿過(guò)式加載鎖從帶氣氛式處理腔室運(yùn)送到真空處理腔室中，并且使得襯底離開(kāi)而進(jìn)入聯(lián)接到襯底載體與處理工具接口模塊上的襯底載體的真空環(huán)境中。
[0149]根據(jù)公開(kāi)的實(shí)施例的一個(gè)或多方面，帶氣氛式處理腔室是裝備前端模塊，其具有連接到真空處理腔室上的背部、與背部相反的BOLTS接口和在BOLTS接口和背部之間延伸的側(cè)部，襯底載體與處理工具接口模塊聯(lián)接到背部、側(cè)部和BOLTS接口中的一個(gè)上。
[0150]應(yīng)當(dāng)理解，前述描述僅說(shuō)明公開(kāi)的實(shí)施例的各方面。本領(lǐng)域技術(shù)人員可想出各種備選方案和修改，而不偏離公開(kāi)的實(shí)施例的各方面。因此，公開(kāi)的實(shí)施例的各方面意于包含落在所附權(quán)利要求的范圍內(nèi)的所有這樣的備選方案、修改和變化。另外，實(shí)際上相互不同的從屬權(quán)利要求或獨(dú)立權(quán)利要求中敘述的不同的特征不表示不可有利地利用這些特征的組合，這種組合仍然在本發(fā)明的各方面的范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種襯底運(yùn)送系統(tǒng)，包括: 載體，其具有 殼體，其形成內(nèi)部環(huán)境，所述內(nèi)部環(huán)境具有開(kāi)口，以保持至少一個(gè)襯底，以及 門(mén)，其用于使所述開(kāi)口與外部氣氛密封開(kāi)，其中，在被密封時(shí)，所述內(nèi)部環(huán)境構(gòu)造成保持其中的內(nèi)部氣氛，所述殼體包括流體貯存器，其在所述內(nèi)部環(huán)境外部且構(gòu)造成容納流體，從而在所述流體貯存器中形成與所述內(nèi)部氣氛不同的氣氛，以形成流體阻隔密封件，其使所述內(nèi)部環(huán)境與所述載體外部的環(huán)境密封開(kāi)。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述流體貯存器構(gòu)造成在所述第一環(huán)境被破壞時(shí)將流體釋放到所述內(nèi)部環(huán)境中。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述襯底運(yùn)送系統(tǒng)進(jìn)一步包括真空腔室，所述真空腔室具有載體接口，所述載體接口構(gòu)造成支持所述載體，以在所述真空腔室中運(yùn)送所述至少一個(gè)襯底。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，通過(guò)所述內(nèi)部環(huán)境和所述真空腔室之間的動(dòng)態(tài)壓力平衡而釋放所述門(mén)。5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述真空腔室包括至少一個(gè)可密封開(kāi)口，以將所述真空腔室聯(lián)接到至少一個(gè)襯底處理模塊上。6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述載體接口包括冗余密封組件，其包括位于第一平面上的第一密封件和位于第二平面上的第二密封件，其中，所述第一平面和所述第二平面基本彼此垂直。7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述襯底運(yùn)送系統(tǒng)進(jìn)一步包括將所述門(mén)保持到所述殼體上的被動(dòng)門(mén)鎖，其中，所述載體接口構(gòu)造成釋放所述被動(dòng)門(mén)鎖。8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述載體接口包括吹掃端口，其構(gòu)造成吹掃在所述門(mén)和所述載體接口之間的空間和在所述門(mén)和所述殼體之間的密封件中的至少一個(gè)。9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述載體接口是被動(dòng)接口。10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述殼體和門(mén)中的至少一個(gè)包括冗余密封組件，所述冗余密封組件包括圍繞所述開(kāi)口的外周而設(shè)置的至少一個(gè)真空密封件和至少一個(gè)流體貯存器密封件。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述冗余密封組件的至少一個(gè)真空密封件包括位于第一平面上的第一密封件和位于第二平面上的第二密封件，其中，所述第一平面和所述第二平面彼此不同。12.根據(jù)權(quán)利要求10所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述冗余密封組件的密封件中的各個(gè)與所述殼體和門(mén)中的至少一個(gè)中的凹陷密封表面匹配。13.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述流體貯存器容納壓力高于所述內(nèi)部氣氛的壓力的氣體。14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述流體貯存器容納壓力高于大氣壓力的氣體。15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述內(nèi)部氣氛處于低于大氣壓力的壓力。16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述載體的殼體構(gòu)造成支持真空內(nèi)部環(huán)境。17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述殼體包括流體貯存器通道，其與所述流體貯存器處于連通，使得所述流體阻隔密封件設(shè)置在所述至少一個(gè)真空密封件的外側(cè)，并且至少一個(gè)流體貯存器密封件圍繞所述流體貯存器通道的外周設(shè)置。18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述流體貯存器構(gòu)造成在所述至少一個(gè)真空密封件被破壞時(shí)，通過(guò)所述流體貯存器通道將流體釋放到所述內(nèi)部環(huán)境中。19.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述門(mén)利用所述內(nèi)部環(huán)境的真空力密封到所述殼體上。20.根據(jù)權(quán)利要求1所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述襯底運(yùn)送系統(tǒng)進(jìn)一步包括被動(dòng)門(mén)鎖，其構(gòu)造成在失去所述真空力時(shí)，將所述門(mén)固持到所述殼體。21.根據(jù)權(quán)利要求20所述的襯底運(yùn)送系統(tǒng)，其特征在于，所述被動(dòng)門(mén)鎖包括球鎖銷和球鎖栓。22.—種襯底運(yùn)送器，包括: 殼體，其形成內(nèi)部環(huán)境，以將至少一個(gè)襯底容納在第一氣氛中，所述殼體包括 通往所述內(nèi)部環(huán)境的開(kāi)口， 流體貯存器，其形成流體阻隔密封件，所述流體阻隔密封件具有與所述第一氣氛不同且在所述第一氣氛外部的第二氣氛， 構(gòu)造成關(guān)閉所述開(kāi)口的門(mén)，在所述開(kāi)口關(guān)閉時(shí)，所述殼體構(gòu)造成在所述內(nèi)部環(huán)境內(nèi)保持所述第一氣氛，以及 設(shè)置在所述殼體和所述門(mén)中的至少一個(gè)上的冗余密封組件，所述冗余密封組件包括圍繞所述開(kāi)口的外周設(shè)置的至少第一密封件，以及至少第二密封件，其中，所述第二密封件設(shè)置在所述第一密封件和所述流體阻隔密封件之間。23.根據(jù)權(quán)利要求22所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述殼體包括流體貯存器通道，其與所述流體貯存器處于連通，并且設(shè)置在所述第一密封件的外側(cè)，所述襯底運(yùn)送器進(jìn)一步包括圍繞所述流體貯存器通道的外周設(shè)置在外側(cè)的流體貯存器密封件。24.根據(jù)權(quán)利要求22所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述流體貯存器構(gòu)造成在所述第一密封件和所述第二密封件中的一個(gè)或多個(gè)被破壞時(shí)，通過(guò)所述流體貯存器通道將流體釋放到所述內(nèi)部環(huán)境中。25.根據(jù)權(quán)利要求22所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述門(mén)利用所述內(nèi)部環(huán)境的真空力密封到所述殼體上。26.根據(jù)權(quán)利要求22所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述襯底運(yùn)送器包括被動(dòng)門(mén)鎖，其構(gòu)造成在失去所述真空力時(shí)，將所述門(mén)固持到所述殼體上。27.根據(jù)權(quán)利要求26所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述被動(dòng)門(mén)鎖包括球鎖銷和球鎖栓。28.根據(jù)權(quán)利要求26所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述被動(dòng)門(mén)鎖構(gòu)造成被動(dòng)地釋放。29.根據(jù)權(quán)利要求22所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述門(mén)構(gòu)造成支持所述至少一個(gè)襯底。30.一種襯底運(yùn)送器，包括: 殼體，其具有 內(nèi)部環(huán)境，其構(gòu)造成在第一氣氛中保持至少一個(gè)襯底，所述第一氣氛對(duì)于襯底處理氣氛是公共的， 用于密封所述內(nèi)部環(huán)境的門(mén)，以及 在所述門(mén)和所述殼體之間的流體阻隔密封件，所述流體阻隔密封件具有與所述第一氣氛不同且與所述第一氣氛隔開(kāi)的第二氣氛，其中，外部密封件將所述流體阻隔密封件與所述殼體外部的外部氣氛隔開(kāi)，而內(nèi)部密封件則將所述流體阻隔密封件與所述第一氣氛隔開(kāi)，使得在所述流體阻隔密封件和所述第一氣氛之間存在空隙。31.根據(jù)權(quán)利要求30所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述襯底運(yùn)送器進(jìn)一步包括中間密封件，其構(gòu)造成將所述流體阻隔密封件與所述內(nèi)部密封件隔開(kāi)。32.根據(jù)權(quán)利要求30所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述流體阻隔密封件包括不同于所述內(nèi)部環(huán)境且連接到所述殼體上的流體貯存器，以及流體通道。33.根據(jù)權(quán)利要求32所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述流體通道將所述流體貯存器連接到所述殼體和所述門(mén)之間的接口上。34.根據(jù)權(quán)利要求30所述的襯底運(yùn)送器，其特征在于，所述流體阻隔密封件是設(shè)置在所述外部氣氛和所述第一氣氛之間的加壓密封件。35.一種襯底處理工具，包括: 帶氣氛式處理腔室，其在其中具有氣氛環(huán)境； 真空處理腔室，其在其中具有真空環(huán)境，并且連接到所述帶氣氛式處理腔室上；以及 襯底載體與處理工具接口模塊，其具有至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口，襯底傳送通過(guò)所述至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口，并且所述至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口構(gòu)造成聯(lián)接到所述帶氣氛式處理腔室和真空處理腔室中的一個(gè)或多個(gè)上，所述襯底載體與處理工具接口模塊包括 真空接口，其構(gòu)造成允許襯底載體的內(nèi)部環(huán)境通往所述真空處理腔室的真空環(huán)境，以及 氣氛接口，其構(gòu)造成允許所述襯底載體的內(nèi)部環(huán)境通往所述帶氣氛式處理腔室的氣氛環(huán)境。36.根據(jù)權(quán)利要求35所述的襯底處理工具，其特征在于，所述真空處理腔室包括加載鎖，其中，所述襯底載體與處理工具接口模塊連接到所述加載鎖上。37.根據(jù)權(quán)利要求35所述的襯底處理工具，其特征在于，所述帶氣氛式處理腔室包括微環(huán)境，其中，所述襯底載體與處理工具接口模塊連接到所述微環(huán)境上。38.根據(jù)權(quán)利要求35所述的襯底處理工具，其特征在于，所述真空處理腔室包括加載鎖，并且所述帶氣氛式處理腔室包括微環(huán)境，其中，所述襯底載體與處理工具接口模塊連接到所述加載鎖和所述微環(huán)境兩者上。39.根據(jù)權(quán)利要求35所述的襯底處理工具，其特征在于，所述襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成排空或裝填位于所述襯底載體的門(mén)和所述襯底載體的殼體之間的襯底載體流體阻隔密封件。40.根據(jù)權(quán)利要求35所述的襯底處理工具，其特征在于，所述襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成排空或裝填所述襯底載體的內(nèi)部環(huán)境。41.根據(jù)權(quán)利要求35所述的襯底處理工具，其特征在于，所述襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成形成連接到所述真空處理腔室和所述帶氣氛式處理腔室上的穿過(guò)式加載鎖，所述襯底載體與處理工具接口模塊具有設(shè)置在所述至少一個(gè)可關(guān)閉開(kāi)口中的一個(gè)下方的襯底支持?jǐn)R架。42.根據(jù)權(quán)利要求41所述的襯底處理工具，其特征在于，所述襯底載體與處理工具接口模塊構(gòu)造成使得襯底通過(guò)所述穿過(guò)式加載鎖從所述帶氣氛式處理腔室運(yùn)送到所述真空處理腔室中，以及使襯底離開(kāi)而進(jìn)入聯(lián)接到所述襯底載體與處理工具接口模塊上的襯底載體的真空環(huán)境中。43.根據(jù)權(quán)利要求35所述的襯底處理工具，其特征在于，所述帶氣氛式處理腔室是裝備前端模塊，其具有連接到所述真空處理腔室上的背部、與所述背部相反的BOLTS接口，以及在所述BOLTS接口和所述背部之間延伸的側(cè)部，所述襯底載體與處理工具接口模塊聯(lián)接到所述背部、所述側(cè)部和所述BOLTS接口中的一個(gè)上。
【專利摘要】襯底運(yùn)送系統(tǒng)包括：載體，其具有殼體以及門(mén)，殼體形成內(nèi)部環(huán)境，內(nèi)部環(huán)境具有開(kāi)口，以保持至少一個(gè)襯底，門(mén)用于將開(kāi)口與外部氣氛密封開(kāi)，其中在被密封時(shí)，內(nèi)部環(huán)境構(gòu)造成保持其中的內(nèi)部氣氛，殼體包括流體貯存器，其在內(nèi)部環(huán)境的外部且構(gòu)造成容納流體，從而在流體貯存器中形成與內(nèi)部氣氛不同的氣氛，以形成流體阻隔密封件，其將內(nèi)部環(huán)境與載體外部的環(huán)境密封開(kāi)。
【IPC分類】H01L21/67, H01L21/673, H01L21/677
【公開(kāi)號(hào)】CN105431933
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480017533
【發(fā)明人】D.巴布斯, R.T.卡夫尼, R.C.梅, K.A.馬查克
【申請(qǐng)人】布魯克斯自動(dòng)化公司
【公開(kāi)日】2016年3月23日
【申請(qǐng)日】2014年1月22日
【公告號(hào)】EP2948980A2, US20140202921, WO2014116681A2, WO2014116681A3, WO2014116681A4