Oled顯示面板及其制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及OLED顯示面板的技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種OLED顯示面板及其制作方 法。
【背景技術(shù)】
[0002] 有機(jī)發(fā)光二極管0LED(0rganic Light-Emitting Diode)是主動(dòng)發(fā)光器件，具有高 對(duì)比度、廣視角、低功耗、響應(yīng)速度快、體積更薄以及可柔性化等特點(diǎn)，受到了越來(lái)越多的關(guān) 注，有望成為下一代主流平板顯示技術(shù)，是目前平板顯示技術(shù)中受到關(guān)注最多的技術(shù)之一。
[0003] 有源矩陣有機(jī)發(fā)光器件(Active Matrix Organic Lighting Emitting Display， AMOLED)，是利用薄膜晶體管(TFT)搭配電容存儲(chǔ)信號(hào)來(lái)控制OLED像素的亮度和灰階表現(xiàn)。 AMOLED具有可大尺寸化、較省電、高解析度、面板壽命較長(zhǎng)等特點(diǎn)，因此在顯示技術(shù)領(lǐng)域得 到了高度重視。
[0004] 如圖1所示，現(xiàn)有OLED顯示面板的結(jié)構(gòu)包括層疊設(shè)置在襯底基板100上的像素電路 層101、平坦化層102、陽(yáng)極電極層103、空穴注入層(HIL) 104、空穴傳輸層(HTL) 105、有機(jī)發(fā) 光層"1^)106、電子傳輸層化11)107、電子注入層化1〇108及陰極電極層109。像素電路層 101主要包括薄膜晶體管(TFT )、與TFT相連的電路(掃描線、數(shù)據(jù)線等）以及存儲(chǔ)電容器。陽(yáng) 極電極層103穿過(guò)平坦化層102后與像素電路層101中的驅(qū)動(dòng)TFT電性連接。
[0005] OLED顯示面板按照以下原理產(chǎn)生光:對(duì)像素電路層101施加電信號(hào)后，從陽(yáng)極電極 層103朝向有機(jī)發(fā)光層106注入的空穴移動(dòng)到有機(jī)發(fā)光層106,從陰極電極層109朝向有機(jī)發(fā) 光層106注入的電子也移動(dòng)到有機(jī)發(fā)光層106,空穴和電子在有機(jī)發(fā)光層106中結(jié)合以形成 激子，當(dāng)激子從激發(fā)態(tài)變化到基態(tài)時(shí)會(huì)發(fā)射光子，從而產(chǎn)生光。
[0006] 在OLED顯示面板的制作過(guò)程中，一般會(huì)利用蒸鍍掩膜板通過(guò)蒸鍍工藝，將已汽化 的有機(jī)材料蒸鍍到陽(yáng)極電極層上，在陽(yáng)極電極層上制作形成OLED器件的各有機(jī)功能層，形 成紅、綠、藍(lán)三色子像素。在蒸鍍有機(jī)材料層如HIL、HTL時(shí)，由于有機(jī)材料迀移率較大等特 性，容易發(fā)生相鄰像素之間出現(xiàn)橫向?qū)щ?，?dǎo)致出現(xiàn)關(guān)不斷現(xiàn)象（即點(diǎn)亮某一單色子像素 時(shí)，相鄰其他兩種顏色子像素也會(huì)微亮）。
[0007] AMOLED顯示面板具有兩種結(jié)構(gòu)，一種是底發(fā)光結(jié)構(gòu)，僅僅朝底部基板發(fā)射光，另一 種是頂發(fā)光結(jié)構(gòu)，朝頂部非基板側(cè)發(fā)射光。由于用于控制各個(gè)像素的TFT布置在有機(jī)發(fā)光器 件下面，所以頂發(fā)光OLED結(jié)構(gòu)具有更大的開(kāi)口率，越來(lái)越多的OLED面板采用頂發(fā)光結(jié)構(gòu)。然 而在頂發(fā)光OLED面板中，陰極通常由Mg、Ag等金屬形成，為了保證出光率，要求陰極透光率 較高，因此陰極一般比較薄，頂發(fā)光OLED面板的陰極厚度通常只有25Q~300人，陰極偏薄時(shí) 電阻偏大，會(huì)造成IR壓降（即陰極的電阻導(dǎo)致的電壓降），不利于制作大尺寸AM0LED;而陰極 的膜厚加厚時(shí)又會(huì)影響透過(guò)率，尤其會(huì)降低藍(lán)光器件的發(fā)光效率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008] 本發(fā)明的目的在于提供一種OLED顯示面板及其制作方法，以緩解OLED公共層的有 機(jī)材料橫向?qū)щ妼?dǎo)致的單色關(guān)不斷現(xiàn)象，以及降低陰極阻抗。
[0009]本發(fā)明實(shí)施例提供一種OLED顯示面板，包括：
[0010]像素，每個(gè)所述像素包括三個(gè)子像素；
[0011] 平坦化層；
[0012] 陽(yáng)極電極層，形成在該平坦化層上，該陽(yáng)極電極層包括相互間隔的多個(gè)陽(yáng)極電極， 每個(gè)陽(yáng)極電極與一個(gè)子像素對(duì)應(yīng)；
[0013] 像素限定層，形成在該平坦化層上并位于每個(gè)子像素的周?chē)?br>[0014]隔離柱體層，形成在該像素限定層上，該隔離柱體層包括相互間隔的多個(gè)隔離柱 體，該隔離柱體形成在該像素限定層的上表面且位于相鄰子像素之間，相鄰子像素之間設(shè) 置的隔離柱體數(shù)量為至少兩個(gè)，相鄰隔離柱體之間形成凹槽；
[0015] OLED公共層，形成在該隔離柱體層上并覆蓋該隔離柱體層、該像素限定層和該陽(yáng) 極電極層；
[0016] 陰極輔助層，形成在該OLED公共層上，該陰極輔助層包括多個(gè)輔助導(dǎo)電條，該輔助 導(dǎo)電條嵌入該OLED公共層內(nèi)且分別與相鄰隔離柱體之間的凹槽相對(duì)應(yīng)設(shè)置；
[0017] 陰極電極層，形成在該OLED公共層上并與該陰極輔助層電連接；
[0018] 有機(jī)發(fā)光層，形成在該陽(yáng)極電極層與該陰極電極層之間。
[0019] 進(jìn)一步地，每個(gè)子像素的四側(cè)均分別設(shè)置有至少兩個(gè)隔離柱體。
[0020] 進(jìn)一步地，每個(gè)子像素的相對(duì)兩側(cè)分別設(shè)置有至少兩個(gè)隔離柱體，每個(gè)子像素的 另外相對(duì)兩側(cè)未設(shè)置隔離柱體。
[0021] 進(jìn)一步地，該輔助導(dǎo)電條在橫向和豎向上與相鄰隔離柱體之間的凹槽對(duì)應(yīng)設(shè)置而 形成相互交連的網(wǎng)格狀。
[0022] 進(jìn)一步地，該輔助導(dǎo)電條僅在橫向或豎向上與相鄰隔離柱體之間的凹槽對(duì)應(yīng)設(shè) 置。
[0023] 進(jìn)一步地，各個(gè)隔離柱體在每個(gè)子像素的周?chē)情g隔設(shè)置的。
[0024] 進(jìn)一步地，該像素限定層同時(shí)覆蓋該平坦化層和每個(gè)陽(yáng)極電極的四周邊緣部分， 該像素限定層在與每個(gè)陽(yáng)極電極中部相對(duì)應(yīng)的位置形成有凹口，該有機(jī)發(fā)光層形成在該像 素限定層的對(duì)應(yīng)凹口中。
[0025]進(jìn)一步地，該OLED公共層包括空穴注入層、空穴傳輸層、電子傳輸層和電子注入 層，其中該空穴注入層和該空穴傳輸層依次形成在該隔離柱體層上，該有機(jī)發(fā)光層形成在 該空穴傳輸層上，該電子傳輸層和該電子注入層依次形成在該有機(jī)發(fā)光層上。
[0026]本發(fā)明實(shí)施例還提供一種OLED顯示面板的制作方法，該制作方法用于制作上述的 OLED顯示面板，并包括如下步驟：
[0027] 在該平坦化層上制作形成該陽(yáng)極電極層；
[0028] 在該平坦化層上制作形成該像素限定層；
[0029] 在該像素限定層上制作形成該隔離柱體層；
[0030] 在該隔離柱體層上制作形成該OLED公共層和該有機(jī)發(fā)光層；
[0031 ]在該OLED公共層上制作形成該陰極輔助層；
[0032] 在該OLED公共層和該陰極輔助層上制作形成該陰極電極層。
[0033] 本實(shí)施例提供的OLED顯示面板及其制作方法，通過(guò)在相鄰子像素之間形成多個(gè)隔 離柱體，相鄰隔離柱體之間形成凹槽，在隔離柱體上形成OLED公共層時(shí)，延長(zhǎng)了 OLED公共層 在非有效發(fā)光區(qū)域（即相鄰子像素之間的區(qū)域）的長(zhǎng)度，達(dá)到增大OLED公共層電阻的作用， 能夠有效的緩解OLED公共層的有機(jī)材料橫向?qū)щ妼?dǎo)致的單色關(guān)不斷現(xiàn)象，使得OLED公共層 的材料選擇范圍更廣。另外在與相鄰隔離柱體之間的凹槽相對(duì)應(yīng)的位置形成陰極輔助層， 通過(guò)陰極輔助層與陰極電極層電連接，陰極輔助層可作為陰極的輔助導(dǎo)電連線，可提高陰 極的導(dǎo)電性，在解決單色關(guān)不斷的同時(shí)使陰極更好的覆蓋和有效的降低陰極阻抗，可以提 高器件效率和利于大尺寸AMOLED制備。
【附圖說(shuō)明】
[0034]圖1為現(xiàn)有OLED顯不面板的結(jié)構(gòu)不意圖。
[0035]圖2為本發(fā)明實(shí)施例中OLED顯示面板的制作方法的流程圖。
[0036]圖3為本發(fā)明實(shí)施例中OLED顯示面板的截面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0037]圖4a為本發(fā)明實(shí)施例中OLED顯示面板的隔離柱體設(shè)置在相鄰子像素之間的平面 示意圖之一。
[0038]圖4b為本發(fā)明實(shí)施例中OLED顯示面板的隔離柱體設(shè)置在相鄰子像素之間的平面 示意圖之二。
[0039]圖5a為本發(fā)明實(shí)施例中OLED顯示面板的隔離柱體與輔助導(dǎo)電條設(shè)置在相鄰子像 素之間的平面示意圖之一。
[0040] 圖5b為本發(fā)明實(shí)施例中OLED顯示面板的隔離柱體與輔助導(dǎo)電條設(shè)置在相鄰子像 素之間的平面示意圖之二。
【具體實(shí)施方式】
[0041] 為更進(jìn)一步闡述本發(fā)明為達(dá)成預(yù)定發(fā)明目的所采取的技術(shù)方式及功效，以下結(jié)合 附圖及實(shí)施例，對(duì)本發(fā)明的【具體實(shí)施方式】、結(jié)構(gòu)、特征及其功效，詳細(xì)說(shuō)明如后。
[0042]本發(fā)明實(shí)施例提供一種OLED顯示面板的制作方法，請(qǐng)參圖2至圖3,該制作方法包 括如下步驟：
[0043] Sll:在平坦化層201上制作形成陽(yáng)極電極層202;
[0044]在步驟Sll中，在平坦化層201的上表面制作陽(yáng)極電極層202,具體可在平坦化層 201上先通過(guò)磁控濺射等方法沉積一層導(dǎo)電材料層，然后通過(guò)光刻工藝對(duì)該導(dǎo)電材料層進(jìn) 行蝕刻圖形化以形成陽(yáng)極電極層202。陽(yáng)極電極層202包括相互間隔的多個(gè)陽(yáng)極電極202a， 每個(gè)陽(yáng)極電極202a與OLED顯示面板上的一個(gè)子像素（sub-pixel)對(duì)應(yīng)，OLED顯示面板的每 個(gè)像素(pixel)例如包括紅(R)、綠(G)、藍(lán)(B)三個(gè)子像素。