一種貼合系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種貼合系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]石墨烯是由單層碳原子構(gòu)成的六方蜂窩狀二維晶體。由于石墨烯具有優(yōu)異的電學(xué)、力學(xué)、熱學(xué)和光學(xué)特性，因此其在很多領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用，例如用于制造透明電極、以及更薄、開關(guān)速度更快的電子元件等。
[0003]為了制備石墨烯電子器件，首要的問題是制備出大尺寸、具有優(yōu)異電學(xué)性能的石墨烯薄膜，并轉(zhuǎn)移至合適的目標(biāo)基底上。目前，更加適用于工業(yè)化生產(chǎn)的制備石墨烯薄膜的方法是化學(xué)氣相沉積(CVD)，此方法是在高溫條件下在金屬襯底(如銅、鎳或銅鎳合金)的表面沉積碳原子得到具有二維結(jié)構(gòu)的石墨烯薄膜材料。非常薄(< 10um)的金屬襯底在高溫退火后變得非常柔軟，尤其是尺寸比較大的金屬襯底在外力作用下更容易變皺，然而在轉(zhuǎn)移石墨烯的過程中，避免不了對(duì)金屬襯底進(jìn)行移動(dòng)、翻轉(zhuǎn)，這很容易對(duì)石墨烯薄膜造成損傷。用厚的金屬襯底生長(zhǎng)石墨烯固然增加成本，因此怎樣無損的轉(zhuǎn)移大面積的石墨烯薄膜是迫切需要解決的問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的是提供一種可以將尺寸非常大、柔軟易褶皺的襯底上的薄膜與基底貼合在一起的貼合系統(tǒng)。
[0005]實(shí)現(xiàn)本實(shí)用新型目的的技術(shù)方案是:一種貼合系統(tǒng)，包括涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)、吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)、滾壓貼合機(jī)構(gòu)和位移驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)；所述涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)設(shè)置在吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和滾壓貼合機(jī)構(gòu)的上方；所述位移驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)和/或滾壓貼合機(jī)構(gòu)連接，并使吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)與滾壓貼合機(jī)構(gòu)之間的上下位置關(guān)系能夠互換；所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)位于滾壓貼合機(jī)構(gòu)的上方時(shí)，涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)對(duì)吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上的薄膜或者基底涂覆粘結(jié)劑；所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)位于滾壓貼合機(jī)構(gòu)的下方時(shí)，涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)對(duì)滾壓貼合機(jī)構(gòu)上的基底或者薄膜涂覆粘結(jié)劑。
[0006]所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括外框支架、吸附板、真空吸附裝置和翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置；所述外框支架內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置至少一個(gè)吸附板；所述吸附板上均勻設(shè)有多個(gè)吸附孔，所有吸附孔的內(nèi)部均連通至真空吸附裝置；所述翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)吸附板翻轉(zhuǎn)；所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)位于滾壓貼合機(jī)構(gòu)的上方時(shí)，涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)對(duì)吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的吸附板上的薄膜或者基底涂覆粘結(jié)劑。
[0007]所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的吸附板上設(shè)有滾軸，滾軸與外框支架轉(zhuǎn)動(dòng)連接的同時(shí)還與翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置聯(lián)接。
[0008]所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的吸附板的上下端面均設(shè)有吸附孔或者只有其中一面設(shè)有吸附孔。
[0009]所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的吸附板上的有吸附孔的孔徑為0.0Olmm?3mm。
[0010]所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的真空吸附裝置采用真空泵或者真空發(fā)生器或磁力真空吸附發(fā)生器。
[0011]所述涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)包括涂覆支架、涂覆頭和驅(qū)動(dòng)裝置；所述涂覆頭安裝在涂覆支架上，涂覆頭的數(shù)量與吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)的吸附板數(shù)量相同或者不相同；所述驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)涂覆支架移動(dòng)。
[0012]所述涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)的涂覆頭為針頭結(jié)構(gòu)或者噴頭結(jié)構(gòu)或者毛刷結(jié)構(gòu)或者滾輪結(jié)構(gòu)或者拉桿結(jié)構(gòu)。
[0013]所述滾壓貼合機(jī)構(gòu)包括滾壓臺(tái)面以及設(shè)置在滾壓臺(tái)面上的滾輪；所述吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)位于滾壓貼合機(jī)構(gòu)的下方時(shí)，涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)對(duì)滾壓貼合機(jī)構(gòu)的滾壓臺(tái)面上的基底或者薄膜進(jìn)行涂覆粘結(jié)劑。
[0014]所述滾壓貼合機(jī)構(gòu)的滾輪的外表面包裹有軟質(zhì)材料。
[0015]采用了上述技術(shù)方案，本實(shí)用新型具有以下的有益效果:(1)本實(shí)用新型可以將尺寸非常大、很柔軟易褶皺襯底上的薄膜與目標(biāo)基底貼合在一起，比如將尺寸非常大的生長(zhǎng)有石墨烯的金屬襯底(> 7寸)與目標(biāo)基底貼合在一起，自動(dòng)化程度更高，對(duì)柔軟的金屬襯底造成的褶皺更少，顯著提高了工作效率，非常適合工業(yè)化生產(chǎn)。
[0016](2)本實(shí)用新型的吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)可以將面積非常大、襯底柔軟的薄膜無褶皺的翻轉(zhuǎn)過來，避免了薄膜在移動(dòng)翻轉(zhuǎn)和貼合的過程中出現(xiàn)的缺陷，以至于影響到產(chǎn)品的外觀和性能，大大提尚了良率。
[0017](3)本實(shí)用新型自動(dòng)化程度提高，降低了對(duì)人工操作的依賴性，一次性轉(zhuǎn)移薄膜的面積更大，大幅度提高了生產(chǎn)效率。
[0018](4)本實(shí)用新型的滾壓貼合機(jī)構(gòu)的滾輪的外表面包裹有軟質(zhì)材料，這種結(jié)構(gòu)能夠有效保護(hù)石墨烯薄膜，防止貼合時(shí)的壓力損壞石墨烯薄膜。
【附圖說明】
[0019]為了使本實(shí)用新型的內(nèi)容更容易被清楚地理解，下面根據(jù)具體實(shí)施例并結(jié)合附圖，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說明，其中
[0020]圖1為本實(shí)用新型的涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)對(duì)吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上的薄膜或者基底涂覆粘結(jié)劑時(shí)的不意圖。
[0021]圖2為圖1的俯視圖。
[0022]圖3為本實(shí)用新型的涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)對(duì)滾壓貼合機(jī)構(gòu)上的基底或者薄膜涂覆粘結(jié)劑時(shí)的不意圖。
[0023]附圖中的標(biāo)號(hào)為:
[0024]涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)1、涂覆支架11、涂覆頭12、吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2、外框支架21、吸附板22、滾壓貼合機(jī)構(gòu)3、滾壓臺(tái)面31、滾輪32。
【具體實(shí)施方式】
[0025](實(shí)施例1)
[0026]見圖1至圖3，本實(shí)施例的貼合系統(tǒng)，包括涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)1、吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2、滾壓貼合機(jī)構(gòu)3和位移驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)。
[0027]涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)I設(shè)置在吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2和滾壓貼合機(jī)構(gòu)3的上方。位移驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2和/或滾壓貼合機(jī)構(gòu)3連接，并使吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2與滾壓貼合機(jī)構(gòu)3之間的上下位置關(guān)系能夠互換。吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2位于滾壓貼合機(jī)構(gòu)3的上方時(shí)，涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)I對(duì)吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2上的薄膜或者基底涂覆粘結(jié)劑。吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2位于滾壓貼合機(jī)構(gòu)3的下方時(shí)，涂覆粘結(jié)劑機(jī)構(gòu)I對(duì)滾壓貼合機(jī)構(gòu)3上的基底或者薄膜涂覆粘結(jié)劑。
[0028]吸附翻轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)2包括外框支架21、吸附板22、真空吸附裝置和翻轉(zhuǎn)驅(qū)動(dòng)裝置。外框支架21內(nèi)轉(zhuǎn)動(dòng)設(shè)置至少一個(gè)吸附板22。吸附板22上均勻設(shè)有多個(gè)吸附孔，所有吸附孔的內(nèi)部均連通至真空吸附裝置。吸附板22的上下端面均設(shè)有吸附孔或者只有其中一面設(shè)有吸附孔。吸附板22上的有吸附孔的孔徑為0.0Olmm?3mm，優(yōu)選0.0Olmm?1mm。真空吸附