一種顯示基板及顯示裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板及顯示裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]目前，顯示裝置的主體結(jié)構(gòu)包括顯示基板，如圖1所示，顯示基板包括相對設(shè)置的第一基板11和第二基板21 ;其中，第一基板11上設(shè)置有多個功能層。在第一基板11上形成功能層時，由于制作工藝的影響，易造成功能層的總厚度不均勻。
[0003]例如，在第一基板11上形成金屬功能層如柵線層時，首先采用磁控濺射的方式在第一基板11上沉積金屬薄膜，然后通過構(gòu)圖工藝形成柵線層，而對于大尺寸的顯示裝置的陣列基板(例如，尺寸大于等于32寸的顯示裝置)，通過磁控濺射的方式在第一基板11上沉積金屬薄膜時，所使用的金屬靶材通常由多個條狀靶材單元拼接而成，在第一基板11上沉積金屬薄膜時，第一基板11上與金屬靶材上相鄰的兩個條狀靶材單元的拼接區(qū)對應(yīng)的區(qū)域為第一區(qū)域，第一基板11上與金屬靶材上的非拼接區(qū)對應(yīng)的區(qū)域為第二區(qū)域。由于金屬靶材上相鄰的兩個條狀靶材單元的拼接區(qū)的成膜速度比金屬靶材上的非拼接區(qū)的成膜速度低，因而在進(jìn)行磁控濺射后，位于第一區(qū)域內(nèi)的金屬薄膜的厚度要小于位于第二區(qū)域內(nèi)的金屬薄膜的厚度，因此，通過構(gòu)圖工藝形成的柵線層中，位于第一區(qū)域內(nèi)的柵線層的厚度小于位于第二區(qū)域內(nèi)的柵線層的厚度。
[0004]由上可知，由于第一基板11上位于第一區(qū)域內(nèi)的柵線層的厚度小于位于第二區(qū)域內(nèi)的柵線層的厚度，因而在位于第一區(qū)域內(nèi)的其它功能層的厚度與位于第二區(qū)域內(nèi)的其它功能層的厚度相同的情況下，第一基板11上位于第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度比位于第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度薄，即造成第一基板11上的功能層的總厚度不均勻，即圖1中dl和d2不相同，使得將第一基板11與第二基板21對盒后形成的顯示基板的盒厚不均勻，導(dǎo)致顯示裝置的畫面顯示品質(zhì)降低。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]本實(shí)用新型的目的在于提供一種顯示基板及顯示裝置，用于解決因陣列基板的功能層的總厚度不均引起顯示基板的盒厚不均勻，導(dǎo)致顯示裝置的畫面顯示品質(zhì)降低的技術(shù)問題。
[0006]為了實(shí)現(xiàn)上述目的，本實(shí)用新型提供如下技術(shù)方案:
[0007]—方面，本實(shí)用新型提供一種顯示基板，一種顯示基板，包括相對設(shè)置的第一基板和第二基板，所述第一基板包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一基板上位于所述第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度比位于所述第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度??；
[0008]在所述第一基板與所述第二基板之間設(shè)有厚度補(bǔ)償層，所述厚度補(bǔ)償層與所述第一區(qū)域?qū)?yīng)，所述厚度補(bǔ)償層和所述第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與所述第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等。
[0009]另一方面，本實(shí)用新型提供一種顯示裝置，所述顯示裝置設(shè)置有如上述技術(shù)方案所述的顯示基板。
[0010]在本實(shí)用新型提供的顯示基板中，由于在第一基板與第二基板之間設(shè)置有厚度補(bǔ)償層，厚度補(bǔ)償層與第一區(qū)域?qū)?yīng)，且厚度補(bǔ)償層和第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等，因而將第一基板與第二基板對盒后，厚度補(bǔ)償層可以對顯示基板上與第一區(qū)域?qū)?yīng)的盒厚進(jìn)行補(bǔ)償，以使顯示基板上與第一區(qū)域?qū)?yīng)的盒厚和顯示基板上與第二區(qū)域?qū)?yīng)的盒厚相同，即使顯示基板的各個區(qū)域的盒厚相同，從而可以防止因位于第一基板上的功能層的總厚度不均勻而導(dǎo)致顯示基板的盒厚不均勻，進(jìn)而改善顯示裝置的畫面顯示品質(zhì)。
【附圖說明】
[0011]此處所說明的附圖用來提供對本實(shí)用新型的進(jìn)一步理解，構(gòu)成本實(shí)用新型的一部分，本實(shí)用新型的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本實(shí)用新型，并不構(gòu)成對本實(shí)用新型的不當(dāng)限定。在附圖中:
[0012]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的一種顯不基板的截面圖；
[0013]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種顯示基板的截面圖；
[0014]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種顯示基板的截面圖；
[0015]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的再一種顯示基板的截面圖；
[0016]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的又一種顯示基板的截面圖；
[0017]圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種顯示基板的制作方法；
[0018]圖7為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種顯示基板的制作方法；
[0019]圖8為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的再一種顯示基板的制作方法；
[0020]圖9為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的又一種顯示基板的制作方法。
[0021]附圖標(biāo)記:
[0022]11-第一基板，12-柵線，
[0023]13-公共電極層，14-隔墊物枕墊，
[0024]15-鈍化層，16-像素電極層，
[0025]21-第二基板，22-黑矩陣層，
[0026]23-隔墊物，30-厚度補(bǔ)償層，
[0027]31-第一補(bǔ)償層，32-第二補(bǔ)償層。
【具體實(shí)施方式】
[0028]為了進(jìn)一步說明本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示基板及顯示裝置，下面結(jié)合說明書附圖進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0029]請參閱圖2，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示基板包括相對設(shè)置的第一基板11和第二基板21，第一基板11包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，第一基板11上位于第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度比位于第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度薄；在第一基板11與第二基板21之間設(shè)有厚度補(bǔ)償層30，厚度補(bǔ)償層30與第一區(qū)域?qū)?yīng)，厚度補(bǔ)償層30和第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等。
[0030]在本實(shí)用新型實(shí)施例提供的顯示基板中，由于在第一基板11與第二基板21之間設(shè)置有厚度補(bǔ)償層30，厚度補(bǔ)償層30與第一區(qū)域?qū)?yīng)，且厚度補(bǔ)償層30和第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度與第二區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度相等，即圖2、圖3和圖4中d2和d3相等，因而將第一基板11與第二基板21對盒后，厚度補(bǔ)償層30可以對顯示基板上與第一區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域和顯示基板上與第二區(qū)域?qū)?yīng)的區(qū)域之間的盒厚差進(jìn)行補(bǔ)償，以使顯示基板上與第一區(qū)域?qū)?yīng)的盒厚和顯示基板上與第二區(qū)域?qū)?yīng)的盒厚相同，即使顯示基板的各個區(qū)域的盒厚相同，從而可以防止因位于第一基板11上的金屬功能層的厚度不均勻而導(dǎo)致顯示基板的盒厚不均勻，進(jìn)而改善顯示裝置的畫面顯示品質(zhì)。
[0031]值得指出的是，為了進(jìn)一步對顯示基板的各個區(qū)域的盒厚進(jìn)行控制，在第一基板11上和第二基板21上分別對應(yīng)形成功能層后，還可以在第一基板11的上方或/和第二基板21的上方設(shè)置平坦化層，以使將第一基板11與第二基板21對盒后形成的顯示基板的各個區(qū)域的盒厚均勻，從而進(jìn)一步對顯示基板的各個區(qū)域的盒厚進(jìn)行控制，改善顯示裝置的畫面顯不品質(zhì)。
[0032]在上述實(shí)施例中，厚度補(bǔ)償層30可以設(shè)置在第一基板11上，也可以設(shè)置在第二基板21上，也可以同時在第一基板11和第二基板21上分別進(jìn)行設(shè)置，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，示例性列舉了以下幾種方式:
[0033]方式一，請參閱圖2，第一基板11上依次疊加設(shè)置有圖形化的公共電極層13和柵線層，厚度補(bǔ)償層30位于第一區(qū)域內(nèi)的柵線12與第一基板11之間，厚度補(bǔ)償層30與公共電極層13同層設(shè)置但互不相連。在第一基板11上的第一區(qū)域內(nèi)設(shè)置與公共電極層13同層但不相連的厚度補(bǔ)償層30，以對第一基板11上的第一區(qū)域內(nèi)的功能層的總厚度進(jìn)行補(bǔ)償，使圖2中的d3與d2相等，將第一基板11和第二基板21對盒后，顯示基板的各個區(qū)域的盒厚相同，從而改善顯示裝置的畫面顯示品質(zhì)。
[0034]另外，將厚度補(bǔ)償層30與公共電極層13同層設(shè)置，當(dāng)制作陣列基板時，在第一基板11上沉積公共電極薄膜層后，通過一次構(gòu)圖工藝即可同時形成厚度補(bǔ)償層30和公共電極層13，與單獨(dú)在第一基板11上形成厚度補(bǔ)償層30相比，可以減少制作陣列基板的工藝步驟和掩膜板的使用數(shù)量，從而節(jié)約了時間，并節(jié)省了成本。再者，厚度補(bǔ)償層30與公共電極層13不相連，因而，厚度補(bǔ)償層30不會對在公共電極層13上傳遞的信號產(chǎn)生影響和干擾。
[0035]值得一提的是，請繼續(xù)參閱圖2，在方式一中，厚度補(bǔ)償層30位于第一區(qū)域內(nèi)的柵線12與第一基板11之間，且厚度補(bǔ)償層30與柵線12接觸。如此設(shè)計，可以減小