配置成用于真空腔室隔振的設備以及具有該設備的系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領域】
[0001]本公開的實施例涉及配置成用于真空腔室隔振的設備以及具有該設備的系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]隔振可以用于不同領域，包括但不限于電子顯微學、磁共振成像、半導體處理和光學儀器。作為實例，應當以低振動水平維持例如在真空腔室或真空處理腔室內(nèi)的處理環(huán)境達長時間段?？墒褂谜婵绽踉谡婵涨皇一蛘婵仗幚砬皇覂?nèi)提供真空。然而，與真空栗相關聯(lián)的振動水平會限制它們在一些真空應用中的使用，例如，限制它們在半導體處理中的使用。因此，真空腔室應當與振動源(諸如，真空栗)隔振。
[0003]考慮到上述內(nèi)容，克服現(xiàn)有技術(shù)中至少一些問題的配置成用于真空腔室隔振的新設備以及具有該設備的系統(tǒng)是有益的。本公開尤其旨在提供實現(xiàn)真空腔室的改進的隔振和/或真空腔室的改進的減振的設備。
【實用新型內(nèi)容】
[0004]鑒于上述內(nèi)容，提供了配置成用于真空腔室隔振的設備以及具有該設備的系統(tǒng)。本公開的另外的方面、益處和特征從權(quán)利要求書、說明書和附圖來看是顯而易見的。
[0005]根據(jù)本公開的一方面，提供配置成用于真空腔室隔振的設備。所述設備包括:基部裝置，所述基部裝置具有第一側(cè)和第二側(cè)，其中，所述第一側(cè)和所述第二側(cè)是所述基部裝置的相反側(cè)；一個或多個第一柔性真空管線，所述一個或多個第一柔性真空管線具有連接至所述基部裝置的所述第一側(cè)的第一端部以及可連接至所述真空腔室的第二端部；連接裝置，所述連接裝置是可連接至所述真空腔室的，其中，所述連接裝置配置成相對于所述基部裝置是可移動的；以及一個或多個第二柔性真空管線，所述一個或多個第二柔性真空管線具有連接至所述基部裝置的所述第二側(cè)的第一端部以及連接至所述連接裝置的第二端部。
[0006]根據(jù)本公開的另一方面，提供系統(tǒng)。所述系統(tǒng)包括:真空腔室；配置成用于真空腔室隔振的設備，其中，所述設備連接至所述真空腔室；以及一個或多個真空栗，所述一個或多個真空栗連接至所述設備的基部裝置。所述設備包括:基部裝置，所述基部裝置具有第一側(cè)和第二側(cè)，其中，所述第一側(cè)和所述第二側(cè)是所述基部裝置的相反側(cè)；一個或多個第一柔性真空管線，所述一個或多個第一柔性真空管線具有連接至所述基部裝置的所述第一側(cè)的第一端部以及可連接至所述真空腔室的第二端部；連接裝置，所述連接裝置是可連接至所述真空腔室的，其中，所述連接裝置配置成相對于所述基部裝置是可移動的；以及一個或多個第二柔性真空管線，所述一個或多個第二柔性真空管線具有連接至所述基部裝置的所述第二側(cè)的第一端部以及被接至所述連接裝置的第二端部。
【附圖說明】
[0007]因此，為了詳細理解本公開的上述特征結(jié)構(gòu)的方式，上文簡要概述的本公開的更具體的描述可以參照實施例進行。附圖涉及本公開的實施例，并在下文中描述附圖:
[0008]圖1示出根據(jù)本文所述實施例的配置成用于真空腔室隔振的設備的示意圖；
[0009]圖2示出根據(jù)本文所述的另外的實施例的配置成用于真空腔室隔振的設備的示意圖；
[0010]圖3示出根據(jù)本文所述的另外的實施例的配置成用于真空腔室隔振的設備的示意圖；以及
[0011]圖4示出根據(jù)本文所述的另外的實施例的配置成用于真空腔室隔振的設備的示意圖。
【具體實施方式】
[0012]現(xiàn)在將詳細參照本公開的各種實施例，這些實施例的一個或多個示例在附圖中例示出。在對附圖的以下描述中，相同的參考數(shù)字是指相同的部件。一般來說，僅描述相對于單獨實施例的差異。每個示例以解釋本公開的方式來提供，并且示例不意味著限制本公開。另外，例示或描述為一個實施例的部分的特征可以用于其他實施例或與其他實施例結(jié)合，從而產(chǎn)生另一實施例。預期的是，本說明書包括這樣的修改和變型。
[0013]雖然本公開的實施例是參照作為振動源的真空栗進行描述的，但應當理解，本公開不限于此。本公開中的設備能夠用來減小或衰減其他源(包括但不限于諸如電源之類的電氣裝置)的振動。
[0014]真空栗可用于生產(chǎn)和研究栗送應用。然而，與真空栗(諸如，低溫栗和渦輪栗)相關聯(lián)的振動水平會限制它們在一些真空應用中的使用，例如，限制它們在半導體處理中的使用。作為示例，壓力管振動可能導致管之間異相推拉對抗(out-of-phase push-pullfight)，從而導致例如30至100毫米范圍內(nèi)的X、Y和Z振動。對于高分辨率能力以及高靈敏度具有增加的需求，這涉及對機械擾動的易感受性。作為示例，在一些真空應用中，甚至低水平的激勵振動也會成為問題。
[0015]本公開提供配置成用于真空腔室隔振的設備，所述設備減小或補償傳遞至真空腔室的振動。所述設備包括:基部裝置，所述基部裝置具有第一側(cè)和第二側(cè)，其中，所述第一側(cè)和所述第二側(cè)是所述基部裝置的相反側(cè)；一個或多個第一柔性真空管線，所述一個或多個第一柔性真空管線具有連接至所述基部裝置的所述第一側(cè)的第一端部以及可連接至所述真空腔室的第二端部；連接裝置，所述連接裝置是可連接至所述真空腔室的，其中，所述連接裝置配置成相對于所述基部裝置是可移動的；以及一個或多個第二柔性真空管線，所述一個或多個第二柔性真空管線具有連接至所述基部裝置的所述第二側(cè)的第一端部以及連接至所述連接裝置的第二端部?？商峁┛蛇B接至所述基部裝置的一個或多個真空栗。
[0016]真空栗可以與真空腔室分開，并且能夠固定在經(jīng)由一個或多個第一柔性腔室管線被連接至真空腔室的基部裝置上。當真空栗是活動的時候，真空吸引生成第一力，該第一力嘗試拖動固定在基部裝置上的真空栗，并且收縮一個或多個第一柔性真空管線。為了避免一個或多個第一柔性真空管線的收縮，可將一個或多個第二柔性真空管線安裝在基部裝置的相反側(cè)上。一個或多個第二柔性真空管線中的真空吸引生成第二力，該第二力作用在一個或多個第二柔性真空管線上。第一力和第二力是基本相等的，并指向相反方向。具有安裝于其上的一個或多個第二柔性真空管線的連接裝置承受第二力，并且將第二力推向真空腔室。結(jié)果，真空腔室的振動水平可降低。
[0017]根據(jù)可與本文所述的其他實施例組合的一些實施例，配置成用于真空腔室隔振的設備可以提供lOOnm或更低的振動水平，具體而言，50nm或更低，更具體而言，10nm或更低。作為示例，當前實施例的設備可以提供2nm或更低的振動水平。根據(jù)可與本文所述的其他實施例組合的一些實施例，設備配置成用于減小或衰減具有以下頻率的振動:500Hz或更低的頻率，具體而言，300Hz或更低的頻率，更具體而言，200Hz或更低的頻率。作為示例，當前實施例的設備可減少或衰減具有在0.5Hz至180Hz的范圍內(nèi)的頻率的振動。如貫穿本申請所用，隔振還可稱為振動抑制、振動抵消、振動穩(wěn)定、振動衰減、或振動固定。
[0018]當設計振動靈敏型技術(shù)時，可使用所謂的“通用”振動準則。從20世紀80年代早期起，若干通用振動準則就已經(jīng)在使用，尤其是由微電子和光電子行業(yè)和研究領域使用。氣動隔振的引入以及計量學和納米技術(shù)的需要已導致了 “通用”振動準則的修改。最初開發(fā)出VC準則用于半導體行業(yè)，但是VC準則在各種各樣的技術(shù)應用中都見其應用。NIST-Α準則是為計量學而開發(fā)的，但是已在納米技術(shù)領域流行。
[0019]圖1示出根據(jù)