帶有頂針的升降裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及平板顯示器件的制備機(jī)臺，更確切地說，是涉及一種帶有頂針的升降裝置，主要用于減壓干燥設(shè)備中。
【背景技術(shù)】
[0002]在平板顯示器的TFT(thin film transistor，薄膜晶體二極管)陣列基板的制作過程中，例如在黃光等的光阻涂布工藝步驟中，光阻涂布完成后，需將TFT陣列基板傳送至減壓干燥腔體(VCD chamber)進(jìn)行減壓干燥制程，從而將光阻自身內(nèi)部吸附的大部份的溶劑去除，以便在后道工藝的預(yù)烘烤(Pre-bake)階段使其烘烤時(shí)間有效縮短，增加設(shè)備的產(chǎn)能。其中減壓干燥工藝的原理主要是，在一個(gè)相對密閉的腔體內(nèi)執(zhí)行持續(xù)抽真空動作，并利用腔體的真空環(huán)境，使光阻中的溶劑大量產(chǎn)生揮發(fā)效應(yīng)，以去除光阻之中的大部份非預(yù)期的溶劑，一旦當(dāng)抽真空程序完成后，還必須再通入氮?dú)鈦砥茐恼婵?，破真空程序完成后減壓干燥腔體打開，從而完成整個(gè)減壓干燥流程。
[0003]當(dāng)在進(jìn)行破真空程序時(shí)，當(dāng)在減壓干燥腔內(nèi)進(jìn)行真空與大氣處理過程中，由于氣體分子會發(fā)生劇烈運(yùn)動，導(dǎo)致該腔室內(nèi)的玻璃基板溫度發(fā)生急劇變化，此階段由于減壓干燥設(shè)備中用于支撐TFT陣列基板的升降臂上的頂針與TFT陣列基板會存在著一定的溫度差，進(jìn)而導(dǎo)致在TFT陣列基板上留下明顯的被業(yè)界稱之為頂針痕跡(Pin-Mura)，此頂針痕跡大部分是發(fā)生在平板顯示器件的顯示區(qū)域內(nèi)，從而造成產(chǎn)品不期望的顯示不良。即便僅僅從外觀上觀察，該痕跡都很難被許可接受。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]為解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題，本實(shí)用新型提供了一種帶有頂針的升降裝置，其特征在于，包括:
[0005]沿水平方向延伸的條狀升降臂；
[0006]設(shè)置在所述條狀升降臂的頂部的數(shù)個(gè)條狀卡槽；
[0007]安裝在每個(gè)所述卡槽內(nèi)的頂針，且所述頂針在所述卡槽內(nèi)可沿著所述升降臂的長度方向執(zhí)行往返移動；
[0008]連接于所述升降臂的底部的升降機(jī)構(gòu)，且所述升降機(jī)構(gòu)引導(dǎo)所述升降臂上下移動。
[0009]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，上述的帶有頂針的升降裝置中，所述升降機(jī)構(gòu)為沿垂直方向延伸的傳導(dǎo)桿，所述傳導(dǎo)桿引導(dǎo)所述升降臂上下移動。
[0010]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，上述的帶有頂針的升降裝置中，所述傳導(dǎo)桿穿插在一個(gè)支撐基座的柱塞孔中并引導(dǎo)所述升降臂上下移動。
[0011]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，上述的帶有頂針的升降裝置中，所述支撐基座的頂面設(shè)置有一個(gè)條狀槽體以適配性的容納所述升降臂，以及
[0012]在所述槽體的底部下方設(shè)置有位于所述支撐基座中的且在垂直方向上延伸的所述柱塞孔。
[0013]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，上述的帶有頂針的升降裝置中，在所述頂針中鑲嵌磁性物體并且還在所述卡槽的底部安置磁性物體，位于所述卡槽的底部安置的所述磁性物體吸附所述頂針，以將所述頂針以可移動方式的固持在所述卡槽中。
[0014]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，上述的帶有頂針的升降裝置中，所述頂針底部為圓柱形，并且所述頂針的圓柱形底部的直徑等于所述卡槽的寬度。
[0015]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，上述的帶有頂針的升降裝置中，所述頂針頂部為圓柱形，并且所述頂針的圓柱形頂部的半徑小于所述頂針的圓柱形底部的半徑。
[0016]作為一個(gè)優(yōu)選的實(shí)施例，上述的帶有頂針的升降裝置中，在所述頂針中鑲嵌的所述磁性物體與在所述卡槽的底部安置的所述磁性物體的磁極性相反。
【附圖說明】
[0017]閱讀以下詳細(xì)說明并參照以下附圖之后，本實(shí)用新型的特征和優(yōu)勢將顯而易見:
[0018]圖1是用于減壓干燥設(shè)備的升降臂的鳥瞰圖。
[0019]圖2是TFT陣列基板承載在升降臂上的示意圖。
[0020]圖3是本實(shí)用新型提供的升降臂的立體圖。
[0021]圖4是采用本實(shí)用新型的升降臂與采用現(xiàn)有技術(shù)的升降臂的頂針痕跡對比圖。
【具體實(shí)施方式】
[0022]參見圖1，為了簡便起見并未完整的體現(xiàn)整個(gè)減壓干燥設(shè)備，但是圖1中示范性的展示了減壓干燥設(shè)備的一個(gè)升降臂(lifter bar)103局部示意圖。減壓干燥設(shè)備的一個(gè)金屬支撐基座100上形成有長條狀的容納槽體101，而金屬基座100中還設(shè)置有一些位于槽體101底部的未標(biāo)注的柱塞孔，每個(gè)柱塞孔中均可用來安置一個(gè)柱狀的傳導(dǎo)桿102，傳導(dǎo)桿102沿垂直于槽體101底部的垂直方向延伸，而且各個(gè)傳導(dǎo)桿102的一端固定在長條狀的升降臂103的底面。傳導(dǎo)桿102可以在槽體101底部的柱塞孔中在垂直方向上自由上下運(yùn)動，以此帶動升降臂103的上下移動，升降臂103的長度方向與條狀槽體1I的長度方向保持一致，并且升降臂103的整個(gè)垂直投影剛好落在該長條狀的槽體101中，以便當(dāng)升降臂103下降到最大程度時(shí)，升降臂103恰好對準(zhǔn)槽體101與其重合并相適配的容納在槽體101之中。
[0023]參見圖2，當(dāng)移動機(jī)械手Robot按照預(yù)定的作業(yè)程序，將TFT陣列基板200傳送至減壓干燥設(shè)備的干燥腔體時(shí)，該干燥腔體(VCD chamber)中的升降臂(lifter bar) 103會垂直上升來迎合并承載起TFT陣列基板200，當(dāng)移動機(jī)械手Robot移走后，干燥腔體中的升降臂103連同被其承載的TFT陣列基板200—起下降，直至降至干燥腔體的底部，此時(shí)干燥腔體的閉鎖構(gòu)件將會按照預(yù)定程序關(guān)閉來隔絕外部環(huán)境，并開始執(zhí)行真空減壓干燥程序及破真空程序。當(dāng)所有的程序完成后該干燥腔體會重新打開，將升降臂103連同TFT陣列基板200—起上升至預(yù)定的定位位置后，移動機(jī)械手Robot會再次將該干燥腔中的TFT陣列基板200取走，并傳送至整個(gè)工藝流程中的下一個(gè)工序的設(shè)備，以便繼續(xù)完成后續(xù)的流程作業(yè)。
[0024]但是，在當(dāng)前的主流技術(shù)中，因?yàn)楦稍锴惑w中的升降臂103頂面上的用于支撐起TFT陣列基板200的若干示范性的頂針(support pin) 103a、103b、103c完全是固定在升降臂103上，也就是說這些頂針103a?103c近乎與升降臂103是一體化結(jié)構(gòu)，在現(xiàn)有設(shè)備中并不能按照旨意而人為的自由移動頂針。本領(lǐng)域的技術(shù)人員都知道，TFT陣列基板200上設(shè)置有多個(gè)陣列排布的顯示單元250，在顯示單元250之間存在非顯示單元，如此一來，在執(zhí)行減壓干燥及破真空的程序過程中，因?yàn)門FT陣列基板200會與升降臂103上的若干頂針103a?103c直接接觸，由于支撐TFT陣列基板200的頂針103a?103c與TFT陣列基板200存在著一定的溫度差，進(jìn)一步誘使TFT陣列基板200上與頂針103a?103c接觸的那些點(diǎn)或區(qū)域產(chǎn)生頂針痕跡，一旦這些點(diǎn)或區(qū)域落在用