本實(shí)用新型涉及電力系統(tǒng)輸配電技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種模塊化多電平換流器子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)。
背景技術(shù):
西門子公司提出的模塊化多電平換流器(MMC),采用模塊化設(shè)計(jì),通過調(diào)整子模塊的串聯(lián)個(gè)數(shù)可以實(shí)現(xiàn)電壓及功率等級(jí)的靈活變化,并且可以擴(kuò)展到任意電平輸出,減小了電磁干擾和輸出電壓的諧波含量,輸出電壓非常平滑且接近理想正弦波形,因此具有良好的應(yīng)用前景。
通常,模塊化多電平換流器子模塊由兩個(gè)開關(guān)管組成一個(gè)逆變半橋的結(jié)構(gòu),另外包括子模塊儲(chǔ)能電容器。但是現(xiàn)有技術(shù)中由于模塊化多電平換流器中子模塊個(gè)數(shù)較多,因此產(chǎn)生的總開關(guān)損耗相對(duì)較大。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)的不足提供一種模塊化多電平換流器子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),本模塊化多電平換流器子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)能夠有效降低多電平換流器的總開關(guān)損耗。
為實(shí)現(xiàn)上述技術(shù)目的,本實(shí)用新型采取的技術(shù)方案為:
一種模塊化多電平換流器子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),包括半橋逆變電路和電容C1,所述半橋逆變電路包括上半橋電路和下半橋電路,所述上半橋電路與下半橋電路連接,所述電容C1的一端與上半橋電路連接,所述電容C1的另一端與下半橋電路連接,所述上半橋電路包括上半橋開關(guān)管和晶體管MOSFET1,所述上半橋開關(guān)管與晶體管MOSFET1并聯(lián),所述下半橋電路包括下半橋開關(guān)管和晶體管MOSFET2,所述下半橋開關(guān)管與晶體管MOSFET2并聯(lián)。
作為本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)的技術(shù)方案,所述上半橋開關(guān)管為由晶體管IGBT1和與晶體管IGBT1反并聯(lián)的二極管D1組成,所述下半橋開關(guān)管為由晶體管IGBT2和與晶體管IGBT2反并聯(lián)的二極管D2組成。
作為本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)的技術(shù)方案,所述晶體管IGBT1的集電極分別與晶體管MOSFET1的漏極、二極管D1的陰極和電容C1的一端連接,所述晶體管IGBT1的發(fā)射極分別與晶體管MOSFET1的源極、二極管D1的陽(yáng)極、晶體管IGBT2的集電極、晶體管MOSFET2的漏極和二極管D2的陰極連接,所述晶體管IGBT2的發(fā)射極分別與晶體管MOSFET2的源極、二極管D2的陽(yáng)極和電容C1的另一端連接。
作為本實(shí)用新型進(jìn)一步改進(jìn)的技術(shù)方案,還包括IGBT1驅(qū)動(dòng)器、IGBT2驅(qū)動(dòng)器、MOSFET1驅(qū)動(dòng)器和MOSFET2驅(qū)動(dòng)器,所述IGBT1驅(qū)動(dòng)器與晶體管IGBT1連接,所述IGBT2驅(qū)動(dòng)器與晶體管IGBT2連接,MOSFET1驅(qū)動(dòng)器與晶體管MOSFET1連接,MOSFET2驅(qū)動(dòng)器與晶體管MOSFET2連接。
上半橋電路在開態(tài)時(shí),晶體管MOSFET1和晶體管IGBT1同時(shí)傳導(dǎo),由于晶體管IGBT1的導(dǎo)通電阻小,開態(tài)壓降小,因而傳導(dǎo)大部分的電流,而晶體管MOSFET1只傳導(dǎo)小部分的電流。然后IGBT1驅(qū)動(dòng)器控制晶體管IGBT1先關(guān)斷,負(fù)載電流被轉(zhuǎn)移到晶體管MOSFET1中;雖然晶體管IGBT1仍有尾巴電流,但是由于晶體管IGBT1和晶體管MOSFET1并聯(lián)傳導(dǎo),晶體管IGBT1的終端電壓保持在很低的值;因而晶體管IGBT1的關(guān)斷的損耗大大降低了;經(jīng)過一小段時(shí)間延遲后,MOSFET1驅(qū)動(dòng)器控制晶體管MOSFET1也關(guān)斷。晶體管IGBT1實(shí)現(xiàn)了零電流關(guān)斷軟開關(guān)模式。同理下半橋電路在開態(tài)時(shí),晶體管IGBT2實(shí)現(xiàn)了零電流關(guān)斷軟開關(guān)模式;因此本實(shí)用新型有效的降低了模塊化多電平換流器子模塊的開關(guān)損耗,從而能夠有效降低模塊化多電平換流器的總開關(guān)損耗。
附圖說明
圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖。
圖2為本實(shí)用新型的晶體管IGBT1電流示意圖、晶體管MOSFET1電流示意圖和晶體管IGBT1電壓示意圖。
圖3為含有本實(shí)用新型的子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)的模塊化多電平換流器的結(jié)構(gòu)示意圖。
具體實(shí)施方式
下面根據(jù)圖1和圖2對(duì)本實(shí)用新型的具體實(shí)施方式作出進(jìn)一步說明:
參見圖1,一種模塊化多電平換流器子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu),包括半橋逆變電路和電容C1,所述半橋逆變電路包括上半橋電路和下半橋電路,所述上半橋電路與下半橋電路連接,所述電容C1的一端與上半橋電路連接,所述電容C1的另一端與下半橋電路連接,所述上半橋電路包括上半橋開關(guān)管和晶體管MOSFET1,所述上半橋開關(guān)管與晶體管MOSFET1并聯(lián),所述下半橋電路包括下半橋開關(guān)管和晶體管MOSFET2,所述下半橋開關(guān)管與晶體管MOSFET2并聯(lián)。
本實(shí)施例中,所述上半橋開關(guān)管為由晶體管IGBT1和與晶體管IGBT1反并聯(lián)的二極管D1組成,所述下半橋開關(guān)管為由晶體管IGBT2和與晶體管IGBT2反并聯(lián)的二極管D2組成。
本實(shí)施例中,所述晶體管IGBT1的集電極分別與晶體管MOSFET1的漏極、二極管D1的陰極和電容C1的一端連接,所述晶體管IGBT1的發(fā)射極分別與晶體管MOSFET1的源極、二極管D1的陽(yáng)極、晶體管IGBT2的集電極、晶體管MOSFET2的漏極和二極管D2的陰極連接,所述晶體管IGBT2的發(fā)射極分別與晶體管MOSFET2的源極、二極管D2的陽(yáng)極和電容C1的另一端連接。
本實(shí)施例中,還包括IGBT1驅(qū)動(dòng)器、IGBT2驅(qū)動(dòng)器、MOSFET1驅(qū)動(dòng)器和MOSFET2驅(qū)動(dòng)器,所述IGBT1驅(qū)動(dòng)器與晶體管IGBT1連接,所述IGBT2驅(qū)動(dòng)器與晶體管IGBT2連接,MOSFET1驅(qū)動(dòng)器與晶體管MOSFET1連接,MOSFET2驅(qū)動(dòng)器與晶體管MOSFET2連接。
本實(shí)施例中,晶體管MOSFET1和晶體管MOSFET2均為金屬氧化物半導(dǎo)體場(chǎng)效應(yīng)晶體管,晶體管IGBT1和晶體管IGBT2均為絕緣柵雙極型晶體管,電容C1為儲(chǔ)能電容器。
需要在此說明的是,上半橋開關(guān)管中的晶體管IGBT1與其并聯(lián)的晶體管MOSFET1共用一個(gè)二極管D1;下半橋開關(guān)管中的晶體管IGBT2與其并聯(lián)的晶體管MOSFET2共用一個(gè)二極管D2。
具體地,上半橋開關(guān)管中的晶體管IGBT1和晶體管MOSFET1并聯(lián)起來。在開態(tài)時(shí),晶體管IGBT1和晶體管MOSFET1同時(shí)傳導(dǎo),由于晶體管IGBT1的導(dǎo)通電阻小,開態(tài)壓降小,因而傳導(dǎo)大部分的電流,而晶體管MOSFET1只傳導(dǎo)小部分的電流。然后晶體管IGBT1先關(guān)斷,負(fù)載電流被轉(zhuǎn)移到晶體管MOSFET1中。雖然晶體管IGBT1仍有尾巴電流,但是由于晶體管IGBT1和晶體管MOSFET1并聯(lián)傳導(dǎo),晶體管IGBT1的終端電壓保持在很低的值。因而晶體管IGBT1的關(guān)斷損耗大大降低了。經(jīng)過一小段時(shí)間延遲后,晶體管MOSFET1也關(guān)斷。晶體管IGBT1實(shí)現(xiàn)了零電流關(guān)斷軟開關(guān)模式。
具體地,下半橋開關(guān)管中的晶體管IGBT2和晶體管MOSFET2并聯(lián)起來。在開態(tài)時(shí),晶體管IGBT2和晶體管MOSFET2同時(shí)傳導(dǎo),由于晶體管IGBT2的導(dǎo)通電阻小,開態(tài)壓降小,因而傳導(dǎo)大部分的電流,而晶體管MOSFET2只傳導(dǎo)小部分的電流。然后晶體管IGBT2先關(guān)斷,負(fù)載電流被轉(zhuǎn)移到晶體管MOSFET2中,雖然晶體管IGBT2仍有尾巴電流,但是由于晶體管IGBT2和晶體管MOSFET2并聯(lián)傳導(dǎo),晶體管IGBT2的終端電壓保持在很低的值。因而晶體管IGBT2的關(guān)斷損耗大大降低了。經(jīng)過一小段時(shí)間延遲后,晶體管MOSFET2也關(guān)斷。晶體管IGBT2實(shí)現(xiàn)了零電流關(guān)斷軟開關(guān)模式。
需要在此說明的是,晶體管MOSFET1的開關(guān)狀態(tài)是由MOSFET1驅(qū)動(dòng)器獨(dú)立驅(qū)動(dòng)控制的,晶體管MOSFET2的開關(guān)狀態(tài)是由MOSFET2驅(qū)動(dòng)器獨(dú)立驅(qū)動(dòng)控制的,晶體管IGBT1的開關(guān)狀態(tài)是由IGBT1驅(qū)動(dòng)器獨(dú)立驅(qū)動(dòng)控制的,晶體管IGBT2的開關(guān)狀態(tài)是由IGBT2驅(qū)動(dòng)器獨(dú)立驅(qū)動(dòng)控制的。MOSFET1驅(qū)動(dòng)器和IGBT1驅(qū)動(dòng)器使晶體管MOSFET1和晶體管IGBT1同時(shí)導(dǎo)通,而晶體管MOSFET1在晶體管IGBT1關(guān)斷之后延遲一小段時(shí)間后再關(guān)斷。MOSFET2驅(qū)動(dòng)器和IGBT2驅(qū)動(dòng)器使晶體管MOSFET2和晶體管IGBT2同時(shí)導(dǎo)通,而晶體管MOSFET2在晶體管IGBT2關(guān)斷之后延遲一小段時(shí)間后再關(guān)斷。
參見圖2,本實(shí)用新型的實(shí)施例根據(jù)晶體管IGBT1與晶體管MOSFET1關(guān)斷時(shí)間的不同可以定義不同的運(yùn)行狀態(tài);當(dāng)交流電壓Usm的電壓為正向時(shí),上半橋電路導(dǎo)通,下半橋電路斷路:
狀態(tài)1:圖2表示的T0~T1時(shí)刻運(yùn)行狀態(tài);
具體地,在T0時(shí)刻,IGBT1驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)晶體管IGBT1, MOSFET1驅(qū)動(dòng)器驅(qū)動(dòng)晶體管MOSFET1,晶體管IGBT1和晶體管MOSFET1同時(shí)被導(dǎo)通, 由于晶體管IGBT1的導(dǎo)通電阻小,開態(tài)壓降小,因而傳導(dǎo)大部分的電流,而晶體管MOSFET1只傳導(dǎo)一小部分的電流。
狀態(tài)2:圖2表示的T1~T2時(shí)刻運(yùn)行狀態(tài);
具體地,在T1時(shí)刻,晶體管MOSFET1保持開通而晶體管IGBT1關(guān)斷,晶體管IGBT1的電流IIGBT開始下降,晶體管MOSFET1的電流IMOSFET上升,經(jīng)過一段時(shí)間的關(guān)斷,晶體管IGBT1的電流IIGBT變得很小,晶體管MOSFET1的電流IMOSFET幾乎上升到等于總電流,對(duì)晶體管IGBT1而言,由于晶體管MOSFET1開通,晶體管IGBT1是零電壓無(wú)損關(guān)斷。
狀態(tài)3:圖2表示的T2時(shí)刻運(yùn)行狀態(tài);
具體地,在T2時(shí)刻,晶體管MOSFET1關(guān)斷,晶體管IGBT1的兩端電壓UIGBT開始上升,晶體管IGBT1的電壓UIGBT此時(shí)等于電容C1電壓UC,如果驅(qū)動(dòng)足夠的話,晶體管MOSFET1的關(guān)斷損耗可以忽略。晶體管MOSFET1和晶體管IGBT1均維持關(guān)斷直到另一個(gè)開關(guān)周期開始。
晶體管IGBT2與晶體管MOSFET2關(guān)斷時(shí)間的不同也可以定義不同的運(yùn)行狀態(tài),當(dāng)交流電壓Usm的電壓為反向時(shí),上半橋電路斷路,下半橋電路導(dǎo)通,下半橋電路開始工作,下半橋電路中的晶體管MOSFET2和晶體管IGBT2的運(yùn)行狀態(tài)同理上半橋電路中的晶體管MOSFET1和晶體管IGBT1的運(yùn)行狀態(tài)。從晶體管IGBT1和晶體管MOSFET1的運(yùn)行狀態(tài)和晶體管IGBT2與晶體管MOSFET2的整體運(yùn)行狀態(tài)可以看出,本實(shí)施例有效的降低了模塊化多電平換流器子模塊的開關(guān)損耗。
參見圖3,圖3是模塊化多電平換流器的結(jié)構(gòu),其中每個(gè)子模塊SM1到SMN都由圖1所示的模塊化多電平換流器子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)組成,本實(shí)用新型的子模塊拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)有效的降低了模塊化多電平換流器子模塊的開關(guān)損耗,因此圖3的模塊化多電平換流器的總開關(guān)損耗也會(huì)大大降低。
本實(shí)用新型的保護(hù)范圍包括但不限于以上實(shí)施方式,本實(shí)用新型的保護(hù)范圍以權(quán)利要求書為準(zhǔn),任何對(duì)本技術(shù)做出的本領(lǐng)域的技術(shù)人員容易想到的替換、變形、改進(jìn)均落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。