本發(fā)明涉及一種用于使帶電粒子偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)板以及一種用于使帶電粒子偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)設(shè)備。

背景技術(shù)：
已知通過電場和/或磁場來使移動的帶電粒子偏轉(zhuǎn)。同樣已知通過將電壓施加到導(dǎo)電板上來生成電場。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：
本發(fā)明的任務(wù)在于，提供一種改進(jìn)的用于使帶電粒子偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)板。該任務(wù)通過根據(jù)本發(fā)明的偏轉(zhuǎn)板來解決。本發(fā)明的另一任務(wù)在于，提供一種改進(jìn)的用于使帶電粒子偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)設(shè)備。該任務(wù)通過根據(jù)本發(fā)明的偏轉(zhuǎn)設(shè)備來解決。根據(jù)本發(fā)明的用于使帶電粒子偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)板具有凹進(jìn)部，所述偏轉(zhuǎn)板被構(gòu)造為金屬涂覆的電路板并且所述凹進(jìn)部被構(gòu)造在金屬涂層中。有利地，該偏轉(zhuǎn)板相較于沒有凹進(jìn)部的偏轉(zhuǎn)板生成具有改善的空間分布的電場。在該偏轉(zhuǎn)板的一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，該偏轉(zhuǎn)板被構(gòu)造為基本上平坦的板。有利地，該偏轉(zhuǎn)板于是可以簡單且低成本地制造。尤其是，該偏轉(zhuǎn)板有利地可以被制造為電路板，例如印刷電路板。在該偏轉(zhuǎn)板的一種實(shí)施方式中，該凹進(jìn)部被構(gòu)造為孔洞。有利地，由此由該偏轉(zhuǎn)板生成的電場在孔洞的區(qū)域中被減弱。在該偏轉(zhuǎn)板的另一種實(shí)施方式中，該凹進(jìn)部被構(gòu)造為槽縫。有利地，該凹進(jìn)部的該構(gòu)造也導(dǎo)致通過該偏轉(zhuǎn)板產(chǎn)生的電場在該凹進(jìn)部的區(qū)域中的減弱。合乎目的的是，該凹進(jìn)部居中地布置在該偏轉(zhuǎn)板中。有利地，通過該偏轉(zhuǎn)板產(chǎn)生的電場的空間分布于是具有更平坦的分布。在該偏轉(zhuǎn)板的一種合乎目的的實(shí)施方式中，該偏轉(zhuǎn)板具有導(dǎo)電材料，尤其是金屬。有利地，該偏轉(zhuǎn)板于是可以被充電到一電勢。根據(jù)本發(fā)明的用于使帶電粒子偏轉(zhuǎn)的偏轉(zhuǎn)設(shè)備具有上述類型的第一偏轉(zhuǎn)板。有利地，可以利用該偏轉(zhuǎn)設(shè)備來使粒子射束的帶電粒子偏轉(zhuǎn)。由于有利地構(gòu)造的偏轉(zhuǎn)板，可以使用該偏轉(zhuǎn)設(shè)備來選擇性地使來自帶電粒子的相繼束的射束的各個(gè)粒子束偏轉(zhuǎn)。在該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，該偏轉(zhuǎn)設(shè)備具有上述類型的第二偏轉(zhuǎn)板。有利地，在該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的偏轉(zhuǎn)板之間于是可以生成電勢差。在該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的一種特別優(yōu)選的實(shí)施方式中，偏轉(zhuǎn)板被構(gòu)造為基本上平坦的板。在此，第一偏轉(zhuǎn)板和第二偏轉(zhuǎn)板垂直于第二空間方向定向。此外，第一偏轉(zhuǎn)板和第二偏轉(zhuǎn)板在第二空間方向上彼此間隔。有利地，在該偏轉(zhuǎn)設(shè)備中，電場的指向第二空間方向的分量在垂直于第二空間方向的空間方向上近似矩形地伸展。在該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的一種改進(jìn)方案中，該偏轉(zhuǎn)設(shè)備具有第三偏轉(zhuǎn)板和第四偏轉(zhuǎn)板。在此，第三偏轉(zhuǎn)板相對于第一偏轉(zhuǎn)板在垂直于第二空間方向的第三空間方向上偏移。此外，第四偏轉(zhuǎn)板相對于第二偏轉(zhuǎn)板在第三空間方向上偏移。有利地，于是可以在第三偏轉(zhuǎn)板與第四偏轉(zhuǎn)板之間施加與在第一偏轉(zhuǎn)與第二偏轉(zhuǎn)板之間不同的電勢差。在該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的一種優(yōu)選的實(shí)施方式中，該偏轉(zhuǎn)設(shè)備構(gòu)造為使在第三空間方向上移動的帶電粒子朝第二空間方向偏轉(zhuǎn)。有利地，該偏轉(zhuǎn)設(shè)備于是可以被用于使來自粒子射束的各個(gè)粒子或粒子束選擇性地偏轉(zhuǎn)。附圖說明本發(fā)明的上面所描述的特性、特征和優(yōu)點(diǎn)以及其實(shí)現(xiàn)的方式和方法結(jié)合以下的對實(shí)施例的描述而能夠更清楚且更明白地理解，所述實(shí)施例結(jié)合附圖更詳細(xì)地予以闡明。在這里：圖1示出微粒治療儀器的示意圖；圖2示出偏轉(zhuǎn)設(shè)備的示意圖；圖3示出該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的板對的第一剖面；圖4示出該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的板對的俯視圖；圖5示出該偏轉(zhuǎn)設(shè)備的板對的第二剖面；以及圖6示出該板對之內(nèi)的場強(qiáng)分布的曲線圖。具體實(shí)施方式圖1以極為示意性的圖示出作為偏轉(zhuǎn)設(shè)備的示范性應(yīng)用的微粒治療儀器100。然而，偏轉(zhuǎn)設(shè)備也可以使用在多個(gè)其他應(yīng)用領(lǐng)域中。本發(fā)明絕對不限于微粒治...