本發(fā)明涉及電路板領(lǐng)域,尤其涉及一種剛撓結(jié)合板及其制作方法。
背景技術(shù):
目前,剛撓結(jié)合板多采用增層的方式形成,即先形成內(nèi)層軟板,之后再在內(nèi)層軟板兩側(cè)形成硬板材料,并暴露出部分內(nèi)層軟板,從而形成剛撓結(jié)合板。然而,因電路板一般為多個(gè)電路板單元連片制作,制作完成后才將多個(gè)電路板單元分割成單個(gè)的電路板,這種方法就造成了剛撓結(jié)合版的內(nèi)層的不良會(huì)累積到整個(gè)電路板,例如,即使知道內(nèi)層軟板中的多個(gè)電路板單元中有部分為不良品,也要在這些不良品兩側(cè)形成硬板材料,并要對(duì)這些不良品對(duì)應(yīng)的硬板材料進(jìn)行加工,從而造成了材料及制程的浪費(fèi),增加了剛撓結(jié)合版制作的成本。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
有鑒于此,有必要提供一種剛撓結(jié)合板及其制作方法,以降低因部分電路板不良造成后續(xù)制程的浪費(fèi)。
一種剛撓結(jié)合板的制作方法,包括步驟:提供硬性基板,所述硬性基板包括多個(gè)良品的硬性電路板單元,每個(gè)良品的硬性電路板單元?jiǎng)澐譃橄噙B的第一區(qū)域及第二區(qū)域;提供膠片,所述膠片的形狀及尺寸與所述硬性基板的形狀及尺寸相同;提供多個(gè)單片的良品的可撓性基板;將多個(gè)良品的可撓性基板通過(guò)所述膠片壓合于所述硬性基板的最外側(cè),且使每個(gè)可撓性基板對(duì)應(yīng)一個(gè)良品的硬性電路板單元,從而得到連片的剛撓結(jié)合版;其中,所述膠片與所述硬性基板大致對(duì)齊,每個(gè)可撓性基板壓合于對(duì)應(yīng)的良品的硬性電路板單元的第二區(qū)域及部分第一區(qū)域位置,所述連片的剛撓結(jié)合板對(duì)應(yīng)每個(gè)良品的硬性電路板單元形成了多個(gè)剛撓結(jié)合板單元;以及分割所述多個(gè)剛撓結(jié)合版單元,并去除與每個(gè)所述第二區(qū)域?qū)?yīng)處的良品的硬性電路板單元及膠 片,暴露出每個(gè)可撓性基板的部分區(qū)域,從而得到多個(gè)剛撓結(jié)合板。
一種剛撓結(jié)合板,其包括基材層、形成于基材層一側(cè)的第一導(dǎo)電線路層、形成于所述第一導(dǎo)電線路層遠(yuǎn)離所述基材層一側(cè)的膠片、形成于膠片遠(yuǎn)離所述基材層的表面的第四導(dǎo)電線路層及位于所述剛撓結(jié)合板最外側(cè)的可撓性基板,所述膠片的形狀及尺寸與所述基材層的形狀及尺寸大致相同且所述膠片與所述基材層大致對(duì)齊,所述可撓性基板一端與所述膠片遠(yuǎn)離所述基材層的部分表面相貼,另一端延伸出所述膠片,所述第四導(dǎo)電線路層形成于所述膠片遠(yuǎn)離所述基材層且未貼合所述可撓性基板的表面。
本技術(shù)方案提供的剛撓結(jié)合板及其制作方法中,良品的可撓性基板形成于剛撓結(jié)合板的最外層,從而可以避免在不良的可撓性基板上增層硬性材料;并且可以通過(guò)將良品的單片的可撓性基板逐個(gè)對(duì)應(yīng)貼合于硬性基板的良品的硬性電路板單元上,從而可以避免良品與不良品的交叉貼合,也即避免了良品的可撓性基板及良品的硬性電路板單元的浪費(fèi);且壓合后的各制程也多僅在良品的硬性電路板單元對(duì)應(yīng)的區(qū)域進(jìn)行,從而,還能減少用在不良品的制程材料的浪費(fèi)。
附圖說(shuō)明
圖1是本技術(shù)方案第一實(shí)施例提供的剛撓結(jié)合板的剖面示意圖。
圖2是本技術(shù)方案第二實(shí)施例提供的硬性基板的俯視示意圖。
圖3是本技術(shù)方案第二實(shí)施例提供的硬性基板的剖面示意圖。
圖4是在圖2的硬性基板上形成導(dǎo)槽后的俯視示意圖。
圖5是在圖2的硬性基板上形成導(dǎo)槽后的剖面示意圖。
圖6是本技術(shù)方案第二實(shí)施例提供的第一及第二膠片的剖面示意圖。
圖7是本技術(shù)方案第二實(shí)施例提供的可撓性基板的剖面示意圖。
圖8是在圖7中的可撓性基板上形成離型膜后的剖面示意圖。
圖9是將圖5、6、8中的硬性基板、膠片及可撓性基板疊合后的剖面示意圖。
圖10是將圖9中疊合后的結(jié)構(gòu)壓合形成剛撓結(jié)合基板的剖面示意圖。
圖11是在圖10的剛撓結(jié)合基板上形成導(dǎo)電線路層后的剖面示意圖。
圖12是在圖11的剛撓結(jié)合基板兩側(cè)形成防焊層后的剖面示意圖。
圖13是在圖12的俯視示意圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
剛撓結(jié)合板 100
基材層 102
第一導(dǎo)電線路層 101
第二導(dǎo)電線路層 103
第一膠片 20
第二膠片 21
可撓性基板 30
第四導(dǎo)電線路層 501
第五導(dǎo)電線路層 502
第一防焊層 60
第二防焊層 70
可撓性絕緣層 301
第三導(dǎo)電線路層 302
覆蓋膜層 303
膜層 3031
膠層 3032
第一覆蓋膜開(kāi)口 3033
第二覆蓋膜開(kāi)口 3034
第一電性連接墊 3021
第二電性連接墊 3022
導(dǎo)電孔 105
硬性基板 10
硬性電路板單元 104
廢料區(qū) 1043
第一區(qū)域 1041
第二區(qū)域 1042
第一導(dǎo)槽 106
第二導(dǎo)槽 107
第三導(dǎo)槽 201
第四導(dǎo)槽 202
第五導(dǎo)槽 203
第六導(dǎo)槽 204
第一通孔 205
第二通孔 213
第三通孔 206
第一導(dǎo)電體 207
第二導(dǎo)電體 214
第三導(dǎo)電體 208
第四區(qū)域 310
第五區(qū)域 311
金層 305
離型膜 31
銅箔 40
剛撓結(jié)合基板 50
連片的剛撓結(jié)合板 80
剛撓結(jié)合板單元 801
如下具體實(shí)施方式將結(jié)合上述附圖進(jìn)一步說(shuō)明本發(fā)明。
具體實(shí)施方式
下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本技術(shù)方案提供的剛撓結(jié)合板及其制作方法作進(jìn)一步的詳細(xì)說(shuō)明。
請(qǐng)參閱圖1,本技術(shù)方案第一實(shí)施例提供的剛撓結(jié)合板100包括基材層 102、形成于基材層102相對(duì)兩側(cè)的第一導(dǎo)電線路層101及第二導(dǎo)電線路層103、形成于所述第一導(dǎo)電線路層101遠(yuǎn)離所述基材層102一側(cè)的第一膠片20、形成于所述第二導(dǎo)電線路層103遠(yuǎn)離所述基材層102一側(cè)的第二膠片21、形成于第一膠片20遠(yuǎn)離所述基材層102的表面部分區(qū)域并延伸出所述第一膠片20的可撓性基板30、形成于第一膠片20遠(yuǎn)離所述基材層102的表面另一部分區(qū)域的第四導(dǎo)電線路層501、形成于所述第二膠片21遠(yuǎn)離所述基材層102的表面的第五導(dǎo)電線路層502、形成于所述第四導(dǎo)電線路層501表面的第一防焊層60以及形成于所述第五導(dǎo)電線路層502表面的第二防焊層70。
所述基材層102可以為絕緣基材層也可以為包括有導(dǎo)電線路層的基材層。本實(shí)施例中,所述基材層102為絕緣基材層,所述基材層102優(yōu)選為預(yù)浸材料(Prepreg)固化形成。
所述第一及第二膠片20、21的形狀及尺寸均與所述基材層102的形狀及尺寸大致相同,且與所述基材層102大致對(duì)齊。所述第一及第二膠片20、21也優(yōu)選為預(yù)浸材料固化形成。
所述可撓性基板30位于所述剛撓結(jié)合板100最外側(cè),包括依次相貼的可撓性絕緣層301、第三導(dǎo)電線路層302及覆蓋膜層303。所述可撓性基板30的與所述第二膠片21相貼的區(qū)域?qū)?yīng)的所述覆蓋膜層303上形成有第一覆蓋膜開(kāi)口3033,延伸出所述第二膠片21的區(qū)域?qū)?yīng)的所述覆蓋膜層303上形成有第二覆蓋膜開(kāi)口3034。部分所述第三導(dǎo)電線路層302暴露于所述第一覆蓋膜開(kāi)口3033,形成第一電性連接墊3021,部分所述第三導(dǎo)電線路層302暴露于所述第二覆蓋膜開(kāi)口3034,形成第二電性連接墊3022。所述第一電性連接墊3021表面形成有金層305。所述可撓性基板30的第二覆蓋膜開(kāi)口3034周?chē)乃龈采w膜層303、所述第二電性連接墊3022以及部分自所述第三導(dǎo)電線路層302的線路間隙暴露出的所述可撓性絕緣層301大致形成多個(gè)階梯從而均與所述第一膠片20相貼,所述可撓性絕緣層301較所述覆蓋膜層303遠(yuǎn)離所述基材層102。所述第一電性連接墊3021暴露于外界。本實(shí)施例中,所述覆蓋膜層303包括膜層3031及膠層3032,膜層3031與可撓性絕緣層301的材質(zhì)相同或類(lèi)似,均優(yōu)選為純?nèi)嵝詷?shù)脂材料,如聚酰亞胺材料,聚酯材料,聚碳酸酯材料等,以可以彎折。
與所述基材層102對(duì)應(yīng)區(qū)域?yàn)樗鰟倱辖Y(jié)合板100的硬性區(qū)域,與所述第一電性連接墊3021大致對(duì)應(yīng)的區(qū)域?yàn)樗鰟倱辖Y(jié)合板100的手指區(qū)域,對(duì)應(yīng)于所述硬性區(qū)域與所述手指區(qū)域之間區(qū)域?yàn)樗鰟倱辖Y(jié)合板100的可撓性區(qū)域。
其中,所述第一導(dǎo)電線路層101與所述第二導(dǎo)電線路層103通過(guò)至少一個(gè)導(dǎo)電孔105相電連接。所述第四導(dǎo)電線路層501通過(guò)第一膠片20內(nèi)的至少一個(gè)第一導(dǎo)電體207與所述第一導(dǎo)電線路層101相電連接,所述第三導(dǎo)電線路層302的第一電性連接墊3021通過(guò)第一膠片20內(nèi)的至少一個(gè)第三導(dǎo)電體208與所述第一導(dǎo)電線路層101相電連接,所述第五導(dǎo)電線路層502通過(guò)第二膠片21內(nèi)的至少一個(gè)第二導(dǎo)電體214與所述第二導(dǎo)電線路層103相電連接。
本技術(shù)方案第二實(shí)施例一種上述剛撓結(jié)合板100的制作方法,包括以下步驟:
第一步,請(qǐng)參閱圖2-3,提供硬性基板10。
所述硬性基板10可以為單層電路基板、雙層電路基板或多層電路基板。本實(shí)施例中,所述硬性基板10為雙層電路基板,包括依次貼合的第一導(dǎo)電線路層101、基材層102及第二導(dǎo)電線路層103。所述基材層102為絕緣基材層,所述基材層102優(yōu)選為預(yù)浸材料(Prepreg)固化形成。所述硬性基板10包括相連的多個(gè)硬性電路板單元104(圖中用虛線A表示多個(gè)硬性電路板單元104的分界)以及及形成于硬性電路板單元104邊緣的廢料區(qū)1043。所述多個(gè)硬性電路板單元104包括有良品的硬性電路板單元及不良品的硬性電路板單元,本實(shí)施例的圖示中僅繪出部分良品的硬性電路板單元。每個(gè)硬性電路板單元104均人為劃分為相連的第一區(qū)域1041及第二區(qū)域1042。其中,所述第二區(qū)域1042及所述廢料區(qū)1043在形成所述剛撓結(jié)合板100的過(guò)程中均需要去除。所述第一導(dǎo)電線路層101與所述第二導(dǎo)電線路層103僅形成于所述第一區(qū)域1041,且每個(gè)硬性電路板單元104中,所述第一導(dǎo)電線路層101與所述第二導(dǎo)電線路層103通過(guò)所述硬性基板10上的至少一個(gè)導(dǎo)電孔105相電連接。在其他實(shí)施例中,當(dāng)所述基材層102為含導(dǎo)電線路層的基材時(shí),各導(dǎo)電線路層均僅形成于所述第一區(qū)域1041。
第二步,請(qǐng)參閱圖4-5,在所述硬性基板10上形成多個(gè)第一導(dǎo)槽106及第二導(dǎo)槽107。
每個(gè)所述第一導(dǎo)槽106形成于所述第一區(qū)域1041與所述第二區(qū)域1042的交界處,每個(gè)所述第二導(dǎo)槽107形成于所述第二區(qū)域1042與所述廢料區(qū)1043的交界處。所述第一導(dǎo)槽106及所述第二導(dǎo)槽107均貫穿所述硬性基板10,本實(shí)施例中即貫穿所述基材層102。每個(gè)硬性電路板單元104中的所述第一導(dǎo)槽106及第二導(dǎo)槽107的兩端均分別靠近硬性電路板單元104的邊緣,但不將所述第一、第二區(qū)域及廢料區(qū)1041、1042、1043分離。
所述第一及第二導(dǎo)槽106、107可以通過(guò)機(jī)械鉆孔、撈型及激光切割等方式形成。本實(shí)施例中,所述第一及第二導(dǎo)槽106、107均僅形成于良品的硬性電路板單元處,以節(jié)約工藝。
第三步,請(qǐng)參閱圖6,提供第一及第二膠片20、21,并在第一膠片20上形成多個(gè)貫穿所述第一膠片20的第三導(dǎo)槽201及第四導(dǎo)槽202,及在第二膠片21上形成多個(gè)貫穿所述第二膠片21的第五導(dǎo)槽203及第六導(dǎo)槽204。
所述第一及第二膠片20、21均與所述硬性基板10相對(duì)應(yīng),所述第一及第二膠片20、21均的形狀及尺寸與所述硬性基板10的形狀及尺寸相同。本實(shí)施例中,所述第一膠片20與每個(gè)所述第一區(qū)域1041對(duì)應(yīng)的區(qū)域形成有至少一個(gè)第一通孔205及至少一個(gè)第三通孔206,所述第一通孔205內(nèi)填充有第一導(dǎo)電體207,所述第三通孔206內(nèi)填充有第三導(dǎo)電體208,所述第二膠片21與每個(gè)所述第一區(qū)域1041對(duì)應(yīng)的區(qū)域形成有至少一個(gè)第二通孔213,所述第二通孔213內(nèi)填充有第二導(dǎo)電體214。本實(shí)施例中,所述第一、第二及第三通孔205、213、206通過(guò)機(jī)械鉆孔或激光蝕孔等方式形成,所述第一、第二及第三導(dǎo)電體207、214、208均為導(dǎo)電膏,通過(guò)印刷等方式形成,且可以為導(dǎo)電銅膏、導(dǎo)電銀膏及導(dǎo)電錫膏等。所述第一及第二膠片20、21優(yōu)選為半固化的預(yù)浸材料,在后續(xù)的壓合步驟中可以完全固化。
在其他實(shí)施例中,也可以在不在本步驟中形成所述通孔及導(dǎo)電體,而在壓合膠片后通過(guò)激光蝕孔及電鍍等工藝形成所述通孔及導(dǎo)電體。
所述第三導(dǎo)槽201、第五導(dǎo)槽203均與所述多個(gè)第一導(dǎo)槽106一一對(duì)應(yīng),所述第四導(dǎo)槽202、第六導(dǎo)槽204均與所述多個(gè)第二導(dǎo)槽107一一對(duì)應(yīng)。所 述第三至第六導(dǎo)槽201、202、203、204可以通過(guò)機(jī)械鉆孔、撈型及激光切割等方式形成。
第四步,請(qǐng)參閱圖7,提供良品的多個(gè)可撓性基板30。
所述可撓性基板30可以為單面板或雙面板,本實(shí)施例中以單面板為例進(jìn)行說(shuō)明。所述多個(gè)可撓性基板30與硬性基板10中多個(gè)良品的硬性電路板單元一一對(duì)應(yīng)且數(shù)量相同。
每個(gè)所述可撓性基板30包括依次相貼的可撓性絕緣層301、第三導(dǎo)電線路層302及覆蓋膜層303。所述覆蓋膜層303包括膜層3031及膠層3032,膠層3032用以將膜層3031粘結(jié)于第三導(dǎo)電線路層302的表面以及從第三導(dǎo)電線路層302的線路間隙暴露處的可撓性絕緣層301的表面。本實(shí)施例中,所述膜層3031的材質(zhì)與所述可撓性絕緣層301的材質(zhì)相同,優(yōu)選為純?nèi)嵝詷?shù)脂材料,如聚酰亞胺材料,聚酯材料,聚碳酸酯材料等,以可以彎折。
每個(gè)所述可撓性基板30人為劃分為相連的第四區(qū)域310與第五區(qū)域311,所述第四區(qū)域310對(duì)應(yīng)所述硬性電路板單元104的第二區(qū)域1042,所述第五區(qū)域311對(duì)應(yīng)所述硬性電路板單元104的部分第一區(qū)域1041。每個(gè)所述可撓性基板30均大致為長(zhǎng)條狀,在所述可撓性基板30的延伸方向上,所述可撓性基板30的長(zhǎng)度小于整個(gè)所述硬性電路板單元104的長(zhǎng)度,大于第二區(qū)域1042內(nèi)的所述硬性電路板單元104的長(zhǎng)度。每個(gè)所述可撓性基板30中,所述第三導(dǎo)電線路層302的線路均大致沿所述可撓性基板30的延伸方向延伸。所述覆蓋膜層303開(kāi)設(shè)有至少一個(gè)第一覆蓋膜開(kāi)口3033及至少一個(gè)第二覆蓋膜開(kāi)口3034,與所述第四區(qū)域310對(duì)應(yīng)的所述第三導(dǎo)電線路層302部分暴露于所述第一覆蓋膜開(kāi)口3033,形成第一電性連接墊3021,與所述第五區(qū)域311對(duì)應(yīng)的所述第三導(dǎo)電線路層302部分暴露于所述第二覆蓋膜開(kāi)口3034,形成第二電性連接墊3022。本實(shí)施例中,所述第一電性連接墊3021的表面還形成有金層305。
第五步,請(qǐng)參閱圖8,在每個(gè)所述可撓性基板30上形成一離型膜31。
其中,所述離型膜31形成于每個(gè)所述可撓性基板30的與所述第四區(qū)域310對(duì)應(yīng)的所述覆蓋膜層303的表面,以及覆蓋暴露于所述第一覆蓋膜開(kāi)口3033中的所述第三導(dǎo)電線路層302表面,即所述金層305的表面。
第六步,請(qǐng)參閱圖9-10,將所述第一及第二膠片20、21分別疊合于所述硬性基板10的兩側(cè),并將形成有離型膜31的多個(gè)所述可撓性基板30疊合于所述第一膠片20遠(yuǎn)離所述硬性基板10的一側(cè),并逐個(gè)與多個(gè)所述良品的硬性電路板單元104相對(duì)應(yīng);提供兩個(gè)銅箔40,并使兩個(gè)銅箔40分別覆蓋所述第一及第二膠片20、21,且所述第一膠片20側(cè)的所述銅箔40還覆蓋所述可撓性基板30;之后壓合使所述第一及第二膠片20、21、所述硬性基板10及多個(gè)所述可撓性基板30固化為一個(gè)整體,從而形成一剛撓結(jié)合基板50。
具體地,所述兩個(gè)銅箔40的形狀及尺寸均與所述硬性基板10的形狀及尺寸相同。所述離型膜31與所述第一膠片20對(duì)應(yīng)第二區(qū)域1042的部分相貼。疊合時(shí),使所述第一及第二膠片20、21分別覆蓋所述硬性基板10的第一及第二導(dǎo)電線路層101、103,并覆蓋從所述第一及第二導(dǎo)電線路層101、103的線路間隙暴露出的基材層102,使所述第一及第二膠片20、21、硬性基板10及兩銅箔40對(duì)齊,以及,使每個(gè)可撓性基板30設(shè)于對(duì)應(yīng)的良品的硬性電路板單元104上,且使所述可撓性基板30的第四及第五區(qū)域310、311的交界線重合于所述第一區(qū)域1041和第二區(qū)域1042的交界線。壓合后,兩個(gè)膠片20、21粘結(jié)所述硬性基板10、所述可撓性基板30及所述銅箔40,且膠片20、21的部分膠質(zhì)流動(dòng)并填充到所述第一至第六導(dǎo)槽106、107、201、202、203、204中,以及流動(dòng)并填充到廢料區(qū)1043處的所述硬性基板10與可撓性基板30同側(cè)的所述銅箔40之間,從而所述可撓性基板30同側(cè)的銅箔40對(duì)應(yīng)所述廢料區(qū)1043及部分第一區(qū)域1041的位置與所述第一膠片20粘結(jié),也即,雖然所述可撓性基板30側(cè)的銅箔40與所述可撓性基板30未粘結(jié),以及所述可撓性基板30對(duì)應(yīng)第二區(qū)域1042的位置由于離型膜31的間隔也未與第一膠片20粘結(jié),但仍不會(huì)有銅箔40及可撓性基板30翹起。所述第一膠片20側(cè)的所述銅箔40通過(guò)至少一個(gè)第一導(dǎo)電體207與所述第一導(dǎo)電線路層101相電連接,所述第二膠片21側(cè)的所述銅箔40通過(guò)至少一個(gè)第二導(dǎo)電體214與所述第二導(dǎo)電線路層103相電連接,所述可撓性基板30的所述第二電性連接墊3022通過(guò)所述第一膠片20內(nèi)的至少一個(gè)第三導(dǎo)電體208與所述第一導(dǎo)電線路層101相電連接。
銅箔的作用在于在后續(xù)步驟中形成導(dǎo)電線路,在其他實(shí)施例中,也可以用離型材料替代所述銅箔40,壓合后去除所述離型材料,并在后續(xù)步驟中通過(guò)加成法等工藝直接在膠片上形成導(dǎo)電線路。
第七步,請(qǐng)參閱圖11,將兩個(gè)所述銅箔40分別制作形成第四導(dǎo)電線路層501及第五導(dǎo)電線路層502。其中,所述第四導(dǎo)電線路層501形成于所述可撓性基板30側(cè),且通過(guò)所述第一導(dǎo)電體207與所述第一導(dǎo)電線路層101電連接。
所述第四導(dǎo)電線路層501及第五導(dǎo)電線路層502可以通過(guò)影像轉(zhuǎn)移及蝕刻工藝形成。且,所述第四導(dǎo)電線路層501及第五導(dǎo)電線路層502也均形成于與第一區(qū)域1041對(duì)應(yīng)的位置。
第八步,請(qǐng)參閱圖12-13,在每個(gè)良品的硬性電路板單元104對(duì)應(yīng)的所述第四導(dǎo)電線路層501及第五導(dǎo)電線路層502的表面分別形成第一及第二防焊層60、70以保護(hù)所述第四及第五導(dǎo)電線路層501、502,從而形成連片的剛撓結(jié)合板80。
所述第一及第二防焊層60、70也均形成于所述第一區(qū)域1041,所述第一防焊層60還覆蓋從所述第四導(dǎo)電線路層501的線路間隙暴露出的第一膠片20,所述第二防焊層70還覆蓋從所述第五導(dǎo)電線路層502的線路間隙暴露出的第二膠片21。所述第一及第二防焊層60、70還可以形成有防焊層開(kāi)口(圖未示)從而暴露部分第四及第五導(dǎo)電線路層501、502,以形成用于連接其他電子組件的電性接觸墊(圖未示)。
請(qǐng)參閱圖13,所述連片的剛撓結(jié)合板80對(duì)應(yīng)多個(gè)硬性電路板單元104的區(qū)域形成了多個(gè)剛撓結(jié)合板單元801(圖中以虛線表示)。
第九步,請(qǐng)參閱圖1,分割所述多個(gè)剛撓結(jié)合板單元801,并去除每個(gè)良品的剛撓結(jié)合板單元801與所述廢料區(qū)1043對(duì)應(yīng)的部分,及去除第二區(qū)域1042對(duì)應(yīng)位置的第一及第二膠片20、21及基材層102,之后剝除所述離型膜31,暴露出第二區(qū)域1042對(duì)應(yīng)的可撓性基板30,從而形成多個(gè)所述剛撓結(jié)合板100。
具體地,首先,沿所述第一區(qū)域1041與所述第二區(qū)域1042之間的界限,自所述第二膠片21向所述第一膠片20切割所述連片的剛撓結(jié)合板80的第 一、第二膠片20、21及基材層102,其中,切割的方式可以為定深撈型或激光切割等,由于前面步驟中已經(jīng)在基材層102及兩個(gè)膠片20、21對(duì)應(yīng)第一及第二區(qū)域1041、1042交界線的位置形成有導(dǎo)槽,即去除了部分含有增強(qiáng)材料的基材層102及第一、第二膠片20、21,在壓合步驟后各導(dǎo)槽對(duì)應(yīng)的位置沒(méi)有增強(qiáng)材料而僅有膠質(zhì),而膠質(zhì)較增強(qiáng)材料容易切割,即導(dǎo)槽的存在使本步驟的切割較為容易進(jìn)行;之后,沿所述多個(gè)剛撓結(jié)合板單元801之間的界限進(jìn)行撈型,并通過(guò)撈型去除每個(gè)良品的剛撓結(jié)合板單元801對(duì)應(yīng)廢料區(qū)1043,此時(shí),第二區(qū)域1042對(duì)應(yīng)位置的第一及第二膠片20、21、基材層102及所述離型膜31即可從所述可撓性基板30上分離,從而得到多個(gè)分離的所述剛撓結(jié)合板100。
本技術(shù)方案提供的剛撓結(jié)合板及其制作方法,良品的可撓性基板30形成于剛撓結(jié)合板的最外層,從而可以避免在不良的可撓性基板上增層硬性材料;并且可以通過(guò)將良品的單片的可撓性基板30逐個(gè)對(duì)應(yīng)貼合于硬性基板的良品的硬性電路板單元104上,從而可以避免良品與不良品的交叉貼合,也即避免了良品的可撓性基板30及良品的硬性電路板單元104的浪費(fèi);且壓合后的各制程也多僅在良品的硬性電路板單元104對(duì)應(yīng)的區(qū)域進(jìn)行,從而,還能減少用在不良品上的制程材料的浪費(fèi)。
可以理解的是,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來(lái)說(shuō),可以根據(jù)本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思做出其它各種相應(yīng)的改變與變形,而所有這些改變與變形都應(yīng)屬于本發(fā)明權(quán)利要求的保護(hù)范圍。