本發(fā)明涉及有機材料蒸鍍技術領域，具體而言，涉及一種加熱裝置。

背景技術：

目前，現(xiàn)有技術中對有機膜料進行蒸發(fā)鍍膜時，是通過電阻加熱裝置對有機膜料進行加熱蒸發(fā)?，F(xiàn)有技術中在通過電阻加熱裝置進行加熱時，有機膜料受熱不均勻，導致蒸發(fā)速率不穩(wěn)定，進而導致鍍膜效果差，影響鍍膜質量。

技術實現(xiàn)要素：

本發(fā)明提供一種加熱裝置，以解決現(xiàn)有技術中的有機膜料受熱不均勻的問題。

根據(jù)本發(fā)明提供的一種加熱裝置，用于蒸發(fā)有機膜料，加熱裝置包括坩堝，坩堝用于盛放有機膜料；電磁加熱組件，具有感應線圈，感應線圈環(huán)繞在坩堝的軸向外側，電磁加熱組件用于對坩堝進行加熱。

進一步地，電磁加熱組件包括多個相互獨立的感應線圈，多個感應線圈沿坩堝的軸向方向依次設置在坩堝的外側。

進一步地，電磁加熱組件包括線圈罩，線圈罩包裹感應線圈，線圈罩設置在坩堝的外側。

進一步地，加熱裝置還包括用于調節(jié)坩堝高度的高度調節(jié)組件，坩堝設置在高度調節(jié)組件上。

進一步地，高度調節(jié)組件包括第一支撐架；第二支撐架，可上下活動地設置在第一支撐架上，坩堝設置在第二支撐架上，第二支撐架具有在第一支撐架上移動的移動狀態(tài)以及固定在第一支撐架上的固定狀態(tài)。

進一步地，加熱裝置還包括架體，線圈罩以及第一支撐架均設置在架體上。

進一步地，架體上設置有連接端子，感應線圈的端部與連接端子連接。

進一步地，加熱裝置還包括冷卻部，設置在架體上，冷卻部用于對電磁加熱組件進行冷卻。

進一步地，坩堝包括鍋體，用于盛放有機膜料；蓋體，蓋體可拆卸地設置在鍋體上，蓋體上設置有多個通孔。

進一步地，坩堝內放有金屬顆粒。

進一步地，加熱裝置還包括掩板，設置在坩堝上，掩板用于遮蓋坩堝。

進一步地，加熱裝置還包括測溫儀，測溫儀用于測量坩堝內部的溫度。

應用本發(fā)明的技術方案，通過電磁加熱組件對坩堝進行加熱，能夠對電磁加熱組件的加熱溫度進行精確控制，并能夠對坩堝進行均勻加熱，進而能夠使坩堝內的有機膜料均勻蒸發(fā)，提高鍍膜質量。

附圖說明

構成本申請的一部分的說明書附圖用來提供對本發(fā)明的進一步理解，本發(fā)明的示意性實施例及其說明用于解釋本發(fā)明，并不構成對本發(fā)明的不當限定。在附圖中：

圖1示出了根據(jù)本發(fā)明實施例一的加熱裝置的結構示意圖；

圖2示出了圖1中坩堝的結構示意圖；

圖3示出了根據(jù)本發(fā)明實施例一的掩板蓋在坩堝上的結構示意圖；

圖4示出了根據(jù)本發(fā)明實施例一的掩板未蓋在坩堝上的結構示意圖；

圖5示出了根據(jù)本發(fā)明實施例二的加熱裝置的結構示意圖。

其中，上述附圖包括以下附圖標記：

10、坩堝；11、鍋體；12、蓋體；13、通孔；20、電磁加熱組件；21、感應線圈；22、線圈罩；30、高度調節(jié)組件；31、第一支撐架；32、第二支撐架；40、架體；41、連接端子；51、冷卻管；60、掩板；70、測溫儀。

具體實施方式

需要說明的是，在不沖突的情況下，本申請中的實施例及實施例中的特征可以相互組合。下面將參考附圖并結合實施例來詳細說明本發(fā)明。

如圖1所示，本發(fā)明實施例一為一種加熱裝置，用于蒸發(fā)有機膜料，加熱裝置包括坩堝10和電磁加熱組件20。其中，電磁加熱組件20具有感應線圈21，感應線圈21環(huán)繞設置在坩堝10的外側，在對有機膜料進行加熱蒸發(fā)時，通過坩堝10盛放有機膜料，通過電磁加熱組件20對坩堝10進行加熱，以達到蒸發(fā)有機膜料的目的。坩堝10可以選用敞口坩堝或帶有蓋體的坩堝進行加熱。

應用本發(fā)明的技術方案，通過電磁加熱組件20對坩堝10進行加熱，能夠對電磁加熱組件20的加熱溫度進行精確控制，并能夠對坩堝10進行均勻加熱，進而能夠使坩堝10內的有機膜料均勻蒸發(fā)，如此可提高鍍膜質量。

具體地，在鍍膜過程中，將加熱裝置處于高真空環(huán)境下，具有導電性能的有機膜料盛放在坩堝10內，將坩堝10放在螺旋感應線圈21的中央，在感應線圈21上通入高頻的感應電流，導電有機膜料在高頻電磁場的感應下產(chǎn)生渦流電流，使得有機膜料迅速升溫并蒸發(fā)。并且，由于有機膜料整體都處于高頻電磁場的環(huán)境下，使得有機膜料能夠整體升溫，膜料溫度均勻進而使膜料能夠均勻、穩(wěn)定地蒸發(fā)。

具體地，該電磁加熱組件20還包括線圈罩22，利用線圈罩22將感應線圈21包裹在里面，以對感應線圈進行固定和保護。包裹感應線圈21的線圈罩22套設在坩堝10的外側，以對坩堝10進行加熱。

在本實施例中，該加熱裝置還包括高度調節(jié)組件30。其中，坩堝10高度可調地設置在高度調節(jié)組件30上，如此可調節(jié)坩堝10在感應線圈21內的位置，使坩堝10內的有機膜料整體處于感應線圈產(chǎn)生的電磁場內。

具體地，該高度調節(jié)組件30包括第一支撐架31和第二支撐架32。其中，第二支撐架32可上下活動地設置在第一支撐架31上，坩堝10設置在第二支撐架32上。通過調節(jié)第二支撐架32在第一支撐架31上的位置高度，即可調節(jié)坩堝10在感應線圈21內的位置高度。當需要調節(jié)坩堝10時，先解除第二支撐架32與第一支撐架31之間的固定狀態(tài)，以使第二支撐架32能夠隨意移動，當調節(jié)至所需位置后，再將第二支撐架32固定在第一支撐架31上。

其中，在本實施例中，該加熱裝置還包括架體40，線圈罩22以及第一支撐架31均設置在架體40上，以對其進行支撐?？蛇x地，將線圈罩22以及第一支撐架31固定設置在架體40上，如此便于工作人員進行操作，并能夠提高裝置的穩(wěn)定性。

具體地，為了便于對感應線圈21通電，在架體40上設置有連接端子41，并將感應線圈21的端部與連接端子41連接。在對坩堝10進行加熱時，電源與連接端子41連接，并向連接端子41通電即可。

由于通過感應線圈21對坩堝10加熱會產(chǎn)生大量的熱，為了避免裝置溫度過高，該加熱裝置還包括冷卻部。其中，冷卻部設置在架體40上，冷卻部用于對電磁加熱組件20進行冷卻。

可選地，該冷卻部包括冷卻管51，冷卻管51的一端與線圈罩22連通，冷卻管51的另一端固定設置在架體40上。通過向線圈罩22內通入冷卻介質，以避免電磁加熱組件20在加熱過程中由于溫度過高而造成損壞，如此可延長裝置的使用壽命。

如圖2所示，在本實施例中，該坩堝10為殼體結構，且該殼體結構的上端設置有多個通孔13，以使有機膜料蒸發(fā)的蒸發(fā)束流從多個通孔13中流出。其中，坩堝10可以為一體結構，也可以是可拆裝的結構，只要能滿足盛放有機膜料，并使有機膜料蒸發(fā)的蒸發(fā)束流從通孔13內流出即可。通過設置多個通孔13，可以控制蒸發(fā)束流的流速和密度，并能通過通孔13控制蒸發(fā)束流的流動方向。具體地，可通過調節(jié)通孔13的數(shù)量、孔徑大小、以及通孔13的排布方式來對蒸發(fā)束流進行控制，從而能夠按照鍍膜要求控制蒸發(fā)束流，以獲取所需的膜層。

具體地，該坩堝10為圓柱體，如此可便于對有機膜料進行加熱，使有機膜料加熱更加均勻。

可選地，該坩堝10為可拆分結構，以便于有機膜料的添加，具體地，該坩堝10包括鍋體11和蓋體12。其中，蓋體12可拆卸地設置在鍋體11上，且蓋體12上設置有多個通孔13。蓋體12蓋在鍋體11上時，坩堝10整體形成圓柱體結構。

采用高頻電磁場進行加熱，由于有機膜料可能不導電。因此，在坩堝10內設置導電金屬顆粒?？蛇x地，該導電金屬顆粒具有高熔點且化學性質穩(wěn)定。將有機膜料加入坩堝10內后，將有機膜料與導電金屬顆?；旌暇鶆?。然后再施加高頻電流以產(chǎn)生高頻電磁場，有機膜料中的金屬顆粒在高頻電磁場感應下會產(chǎn)生渦流電流，進而能夠產(chǎn)生熱量，通過導電金屬顆粒作為熱源將熱量傳遞給有機膜料，以實現(xiàn)蒸發(fā)鍍膜。并且，由于導電金屬顆粒具有良好的導熱性能，能夠在對有機膜料進行加熱的同時實現(xiàn)快速傳熱，使有機膜料整體實現(xiàn)均勻、快速加熱。

如圖3和圖4所示，加熱裝置還包括掩板60，掩板60設置在坩堝10上，通過掩板60對坩堝10進行遮蓋?？蛇x地，可將一個轉軸設置在電磁加熱組件20一側，將掩板60設置在轉軸上，掩板60可轉動地設置在坩堝10的上方，通過轉動掩板60即可將掩板60蓋在坩堝10上或避開坩堝10。

在對有機膜料進行加熱時，膜料在預融期間，將掩板60遮蓋在坩堝10上，以避免在蒸發(fā)初期由于蒸發(fā)速率不穩(wěn)定導致膜層質量差、表面雜質沉積多的現(xiàn)象發(fā)生。當有機膜料完全加熱后，再打開掩板60進行鍍膜?？蛇x地，掩板60上還設置有把手，以便于工作人員對掩板60進行操作。

在本實施例中，該加熱裝置還包括測溫儀70，通過該測溫儀70實時檢測坩堝10內部的溫度?？蛇x地，該測溫儀70為紅外線測溫儀，可設置在坩堝10的外側，使用該紅外線測溫儀能夠在便于檢測的同時提高檢測精度。

如圖5所示，實施例二為另一種加熱裝置，實施例二與實施例一裝置的不同之處僅在于，該電磁加熱組件20包括多個相互獨立的感應線圈21，多個感應線圈21沿坩堝10的軸向方向依次設置在坩堝10的外側。通過單一整體的感應線圈21對坩堝10進行加熱時，很難達到坩堝10內溫度的統(tǒng)一，通過單獨設置多個感應線圈21，可分別控制各個感應線圈21的電流大小，以使坩堝10內各個部分的溫度保持一致?？蛇x地，在本實施例中，設置有上、中、下三層感應線圈21，以對坩堝10的上、中、下三部分分別進行加熱。

以上所述僅為本發(fā)明的優(yōu)選實施例而已，并不用于限制本發(fā)明，對于本領域的技術人員來說，本發(fā)明可以有各種更改和變化。凡在本發(fā)明的精神和原則之內，所作的任何修改、等同替換、改進等，均應包含在本發(fā)明的保護范圍之內。