技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種快速二維均勻輻照掃描方法，該方法包括：將帶電粒子束擴(kuò)束成截面為特定分布的且具有一定寬高比例的束流；根據(jù)束流的宏脈沖長(zhǎng)度，計(jì)算出單次線掃描的時(shí)間；根據(jù)束流宏脈沖的重復(fù)頻率，計(jì)算出單次步進(jìn)掃描的時(shí)間間隔；根據(jù)需要掃描的樣品面積和束斑面積，計(jì)算得到完成一次面掃描的時(shí)間；在束流的出口，根據(jù)計(jì)算的線掃描時(shí)間，采用線性變化的快變化磁場(chǎng)對(duì)束流進(jìn)行偏轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)一個(gè)維度的線掃描；在束流的出口，根據(jù)計(jì)算的步進(jìn)掃描時(shí)間，采用快響應(yīng)的穩(wěn)態(tài)磁場(chǎng)對(duì)束流進(jìn)行偏轉(zhuǎn)實(shí)現(xiàn)第二個(gè)維度的步進(jìn)掃描；在掃描磁鐵處采用陶瓷真空室；采用數(shù)字電源為掃描磁鐵供電。本發(fā)明的方法具有掃描速度快、掃描面積大、掃描均勻度高等優(yōu)點(diǎn)。

技術(shù)研發(fā)人員：楊永良;王琳;何志剛
受保護(hù)的技術(shù)使用者：中國(guó)科學(xué)技術(shù)大學(xué)
文檔號(hào)碼：201611252985
技術(shù)研發(fā)日：2016.12.30
技術(shù)公布日：2017.05.31