本實用新型涉及一種印刷電路板生產設備領域，尤其涉及一種用于生產印刷電路板的蝕刻裝置。

背景技術：

隨著電子產品高速發(fā)展，作為電子元器件基礎的印刷電路板制造市場競爭壓力越來越大，印刷電路板質量標準越來越嚴。作為印刷電路板制造的重要環(huán)節(jié)之一的顯影-蝕刻-退膜，因其在生產過程中含有大量的干膜、濕膜等有機物，隨著生產時間的累積，導致蝕刻印刷電的蝕刻裝置的蝕刻槽內會積聚大量的黑色油性污垢，嚴重影響蝕刻槽內蝕刻液的特性，從而導致印刷電路板的生產質量降低。

相關技術中，印刷電路板生產廠家為了穩(wěn)定印刷電路板的生產質量，需要對蝕刻槽內的黑色油性污垢進行清洗。而對于黑色油性污垢的清洗通常是采用停機保養(yǎng)的方式，即先將蝕刻裝置進行停機，再通過人工對蝕刻槽進行清洗。這種方式在清洗過程中降低了蝕刻裝置的稼動率，清洗工作量大、效率低；同時，對于積累時間長的污垢需采用借助清洗工具和有機溶劑，導致蝕刻槽容易損壞且容易產生二次污染。

因此，有必要提供一種新的蝕刻裝置來解決上述技術問題。

技術實現(xiàn)要素：

本實用新型需要解決的技術問題是提供一種結構簡單、稼動率高、清洗能力強且不會產生二次污染的蝕刻裝置。

本實用新型提供一種蝕刻裝置，包括蝕刻槽及清洗裝置，所述蝕刻槽包括底壁及自所述底壁延伸的側壁，所述底壁與所述側壁圍設形成收容空間，所述清洗裝置包括一體成型的盤管、間隔設置于所述盤 管上的多個噴嘴、與所述盤管連通的進液管及固定于所述側壁的卡座，所述盤管收容于所述收容空間且環(huán)繞所述側壁設置，所述噴嘴朝向所述側壁噴淋且其噴淋方向與水平面呈15-30°夾角，所述盤管通過所述卡座固定于所述側壁，相鄰兩個所述噴嘴在所述側壁上噴淋形成的噴淋區(qū)域部分疊加。

優(yōu)選的，所述卡座數(shù)量為多個，多個所述卡座環(huán)繞所述側壁等間距設置。

優(yōu)選的，所述卡座具有開口，所述盤管通過所述開口卡設固定于所述卡座。

優(yōu)選的，所述開口的直徑等于所述盤管的直徑。

優(yōu)選的，所述噴嘴為扇形噴嘴。

優(yōu)選的，相鄰兩個所述噴嘴在所述側壁上的疊加的所述噴淋區(qū)域的寬度為單個所述噴嘴的所述噴淋區(qū)域的寬度的10％。

優(yōu)選的，所述進液管包括與所述盤管連通的管體及分別設置于所述管體的過濾網(wǎng)、調節(jié)閥和壓力表。

優(yōu)選的，所述進液管由聚丙烯材料制成。

優(yōu)選的，所述蝕刻槽還包括多個支撐部，多個所述支撐部分別安裝于所述底壁遠離所述側壁的一側。

與相關技術相比，本實用新型提供的所述蝕刻裝置包括蝕刻槽和對蝕刻槽進行清洗的清洗裝置，通過清洗裝置的盤管將外部清洗液導入至噴嘴以噴淋側壁，從而有效避免黑色油性污垢積聚在蝕刻槽內，同時又可以持續(xù)對所述蝕刻槽進行清洗，具有結構簡單、稼動率高、清洗能力強且不會產生二次污染的優(yōu)點。

附圖說明

圖1為本實用新型蝕刻裝置的立體結構示意圖；

圖2為圖1中沿A-A線的剖面結構示意圖。

具體實施方式

下面將結合附圖和實施方式對本實用新型作進一步說明。

請同時參閱圖1和圖2，圖1為本實用新型蝕刻裝置的立體結構示意圖；圖2為圖1中沿A-A線的剖面結構示意圖。所述蝕刻裝置100包括蝕刻槽1及清洗裝置2。所述清洗裝置2用于向所述蝕刻槽1噴淋清洗液以持續(xù)清洗所述蝕刻槽1，從而實現(xiàn)對所述蝕刻槽1的清洗。其中，所述清洗液可以為與所述蝕刻槽1內盛載的蝕刻液相同，避免所述清洗液對所述蝕刻槽1進行二次污染。

所述蝕刻槽1包括底壁11、自所述底壁11延伸的側壁12及安裝于所述底壁11遠離所述側壁12一側的支撐部13。側壁12與所述底壁11共同圍設形成收容空間10。所述支撐部13用于支撐所述蝕刻槽1，使所述蝕刻裝置100穩(wěn)固性好。

所述清洗裝置2包括盤管21、間隔設置于所述盤管21上的多個噴嘴22、與所述盤管21連通的進液管23及固定于各所述側壁12的卡座24。

所述盤管21收容于所述收容空間10內且環(huán)繞所述側壁12設置。為了保證所述清洗裝置2能夠將所述蝕刻槽1清洗干凈，在本實施方式中，所述盤管21與水平面平行設置，且高于所述蝕刻槽1內盛載的蝕刻液的液面。所述盤管21為一體成型的管道，結構簡單且使用壽命長。

多個所述噴嘴22通過所述盤管21與所述進液管23連通，所述清洗液由所述進液管23流經所述盤管21，再通過所述噴嘴22噴淋，避免黑色油性污垢積聚在所述側壁12上，從而實現(xiàn)對所述蝕刻槽1的清洗。所述噴嘴22朝向所述側壁12噴淋且其噴淋方向與水平面呈15°～30°的夾角，且相鄰兩個所述噴嘴22在所述側壁12上噴淋形成的噴淋區(qū)域部分疊加，疊加的所述噴淋區(qū)域的寬度為單個所述噴嘴的22的所述噴淋區(qū)域的寬度的10％，從而保證對所述蝕刻槽1的各區(qū)域全部進行清洗，提高所述蝕刻裝置100的清洗能力且降低能耗。

所述進液管23包括管體231及設置于所述管體231的過濾網(wǎng)(未圖示)、調節(jié)閥232和壓力表233。所述管體231與所述盤管21和外部的液泵(未圖示)連通，外部的所述液泵將清洗液注入所述管體 231，流經所述盤管21并由所述噴嘴22噴淋出。所述調節(jié)閥232和233用于調節(jié)和顯示流經所述管體231的清洗液的液壓，從而使所述蝕刻裝置100的清洗能力可控制。其中，外部的所述液泵可以抽取與所述蝕刻槽1內的蝕刻液相同的蝕刻液，從而避免對所述蝕刻槽1進行清洗時導致二次污染。在本實施方式中，所述進液管23由聚丙烯材料制成，耐蝕性能好，使用壽命長。

所述卡座24的數(shù)量具有多個，多個所述卡座24環(huán)繞所述側壁12等間距設置。所述卡座24均具有開口240，所述盤管21通過所述開口240卡設固定于所述卡座24。在本實施方式中，所述開口240的直徑等于所述盤管21的直徑，從而將所述盤管21穩(wěn)固的固定于所述收容空間10內，提高所述蝕刻裝置100的穩(wěn)固性。

與相關技術相比，本實用新型提供的所述蝕刻裝置包括所述蝕刻槽和對所述蝕刻槽進行清洗的所述清洗裝置，通過所述清洗裝置的所述盤管將外部清洗液導入至所述噴嘴以噴淋所述側壁，從而有效避免黑色油性污垢積聚在所述蝕刻槽內且持續(xù)對所述蝕刻槽進行清洗，具有結構簡單、稼動率高、清洗能力強且不會產生二次污染的優(yōu)點。

以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，或直接或間接運用在其它相關的技術領域，均同理包括在本實用新型的專利保護范圍內。