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      一種使用方便的電磁屏蔽膜的制作方法

      文檔序號(hào):11688120閱讀:631來源:國知局
      一種使用方便的電磁屏蔽膜的制造方法與工藝

      本實(shí)用新型涉及電磁屏蔽膜領(lǐng)域,尤其涉及一種使用方便的電磁屏蔽膜。



      背景技術(shù):

      目前,軟性印刷電路板(Flexible printed circuit board:以下簡(jiǎn)稱FPC板)用電磁屏蔽膜的結(jié)構(gòu)如圖1所示,包括依次設(shè)置的載體膜3、油墨絕緣層4、金屬鍍層5、導(dǎo)電膠層6及保護(hù)膜7。但是,使用時(shí),撕去保護(hù)膜7,將導(dǎo)電膠層6貼合FPC板后,需將載體膜3撕去,撕離載體膜3比較困難,使用不方便。



      技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

      本實(shí)用新型的目的在于提出一種使用方便的電磁屏蔽膜,無需撕離載體膜,使用比較方便。

      為達(dá)此目的,本實(shí)用新型采用以下技術(shù)方案:

      一種使用方便的電磁屏蔽膜,包括:屏蔽層,所述屏蔽層包括載體膜、經(jīng)真空濺射形成于所述載體膜的上表面的金屬層、及涂布于所述金屬層的上表面的導(dǎo)電膠層;所述導(dǎo)電膠層的上表面貼合有保護(hù)膜;所述載體膜為聚酰亞胺薄膜。

      進(jìn)一步地,所述聚酰亞胺薄膜的厚度為9μm~12μm。

      進(jìn)一步地,所述金屬層為銀、銅、鋁、鎳中的一種或幾種的混合;所述金屬層的厚度為0.1μm~0.3μm。

      進(jìn)一步地,所述導(dǎo)電膠層的厚度為7μm~12μm。

      本實(shí)用新型的有益效果為:本實(shí)用新型提出的一種使用方便的電磁屏蔽膜,包括屏蔽層,屏蔽層包括載體膜、經(jīng)真空濺射形成于載體膜的上表面的金屬層、及涂布于金屬層的上表面的導(dǎo)電膠層;導(dǎo)電膠層的上表面貼合有保護(hù)膜;其中,載體膜為聚酰亞胺薄膜。使用時(shí),與FPC板貼合后,無需撕離載體膜,使用比較方便。

      附圖說明

      圖1是現(xiàn)有的電磁屏蔽膜的結(jié)構(gòu)示意圖;

      圖2是本實(shí)用新型的電磁屏蔽膜的結(jié)構(gòu)示意圖。

      圖中:1-屏蔽層;11、3-載體膜;12-金屬層;13、6-導(dǎo)電膠層;2、7-保護(hù)膜;4-油墨絕緣層;5-金屬鍍層。

      具體實(shí)施方式

      下面結(jié)合附圖并通過具體實(shí)施方式來進(jìn)一步說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案。

      如圖2所示,一種使用方便的電磁屏蔽膜,包括:屏蔽層1,屏蔽層1包括載體膜11、經(jīng)真空濺射形成于載體膜11的上表面的金屬層12、及涂布于金屬層12的上表面的導(dǎo)電膠層13;導(dǎo)電膠層13的上表面貼合有保護(hù)膜2;載體膜11為聚酰亞胺薄膜。

      上述電磁屏蔽膜中,聚酰亞胺薄膜的厚度為9μm~12μm。

      上述電磁屏蔽膜中,金屬層12為銀、銅、鋁、鎳中的一種或幾種的混合;金屬層12的厚度為0.1μm~0.3μm。

      上述電磁屏蔽膜中,導(dǎo)電膠層13的厚度為7μm~12μm。

      本實(shí)用新型提出的一種使用方便的電磁屏蔽膜,使用時(shí),先撕去保護(hù)膜2,然后將該電磁屏蔽膜的導(dǎo)電膠層13與FPC板貼合即可,無需撕離載體膜11,使用比較方便。

      以上結(jié)合具體實(shí)施例描述了本實(shí)用新型的技術(shù)原理。這些描述只是為了解釋本實(shí)用新型的原理,而不能以任何方式解釋為對(duì)本實(shí)用新型保護(hù)范圍的限制。基于此處的解釋,本領(lǐng)域的技術(shù)人員不需要付出創(chuàng)造性的勞動(dòng)即可聯(lián)想到本實(shí)用新型的其它具體實(shí)施方式,這些方式都將落入本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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