本發(fā)明涉及一種帶透明導(dǎo)電膜的基板。
背景技術(shù):
已知在等離子顯示器或電致發(fā)光元件等中,在玻璃基板等基板上形成用作電極的透明導(dǎo)電膜,利用激光對透明導(dǎo)電膜進行圖案化(專利文獻1和專利文獻2)。
在通過圖案化除去了透明導(dǎo)電膜的部分,為了鈍化等,通常設(shè)置有絕緣膜。
現(xiàn)有技術(shù)文獻
專利文獻
專利文獻1:日本特開2007-207554號公報
專利文獻2:日本特開2006-267834號公報
技術(shù)實現(xiàn)要素:
發(fā)明所要解決的課題
上述的絕緣膜要求不會容易地從基板剝離。
本發(fā)明的目的在于提供一種設(shè)置于除去了透明導(dǎo)電膜的部分的絕緣膜難以剝離的帶透明導(dǎo)電膜的基板。
用于解決課題的方法
本發(fā)明提供一種帶透明導(dǎo)電膜的基板,其特征在于,具備基板和設(shè)置于基板上且進行了圖案化的透明導(dǎo)電膜,在基板上形成有通過圖案化除去了透明導(dǎo)電膜的除去區(qū)域、未除去透明導(dǎo)電膜的非除去區(qū)域和設(shè)置于除去區(qū)域與非除去區(qū)域之間的邊界區(qū)域,在邊界區(qū)域形成有透明導(dǎo)電膜被形成為島狀的島狀部分。
優(yōu)選俯視時的島狀部分的面積在邊界區(qū)域的面積的25%~75%的范圍內(nèi)。
優(yōu)選基板為透明基板。
優(yōu)選基板為玻璃基板。
作為圖案化,可以列舉利用激光進行的圖案化。該情況下,優(yōu)選激光為飛秒激光。
發(fā)明的效果
根據(jù)本發(fā)明,能夠抑制設(shè)置于除去了透明導(dǎo)電膜的部分的絕緣膜的剝離。
附圖說明
圖1是表示本發(fā)明的一個實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板的示意性剖面圖。
圖2是表示在圖1所示的實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板上設(shè)有絕緣膜的狀態(tài)的示意性剖面圖。
圖3是表示本發(fā)明的一個實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板的邊界區(qū)域的掃描型電子顯微鏡照片。
圖4是示意性表示圖3所示的邊界區(qū)域的俯視圖。
圖5是在圖4所示的邊界區(qū)域的島狀部分附加了剖面線的示意性的俯視圖。
具體實施方式
以下,對于優(yōu)選的實施方式進行說明。但是,以下的實施方式僅是例示,本發(fā)明不限定于以下的實施方式。另外,在各附圖中,對于實質(zhì)上具有同一功能的部件有時利用同一符號進行參照。
圖1是表示本發(fā)明一個實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板的示意性剖面圖。如圖1所示,本實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板10具備基板1和設(shè)置于基板1的主面1a上的透明導(dǎo)電膜2。透明導(dǎo)電膜2進行了圖案化。通過使透明導(dǎo)電膜2圖案化,在基板1的主面1a上形成有通過圖案化除去了透明導(dǎo)電膜2的除去區(qū)域a1、未除去透明導(dǎo)電膜2的非除去區(qū)域a2。
另外,在基板1的主面1a上形成有設(shè)置于除去區(qū)域a1與非除去區(qū)域a2之間的邊界區(qū)域a3。如圖1所示,在邊界區(qū)域a3,透明導(dǎo)電膜2的厚度隨著接近于除去區(qū)域a1而逐漸變薄。
作為透明導(dǎo)電膜2,例如,能夠使用具有氧化銦錫(ito)、氧化鋁鋅(azo)、氧化錫銦(izo)、摻雜有氟的錫氧化物(fto)等導(dǎo)電性的復(fù)合氧化物薄膜。特別優(yōu)選使用氧化銦錫。在本實施方式中,由氧化銦錫形成透明導(dǎo)電膜2。透明導(dǎo)電膜2的厚度優(yōu)選為20nm~200nm的范圍,進一步優(yōu)選為50nm~150nm的范圍。
基板1優(yōu)選為玻璃基板等透明基板。作為玻璃基板,能夠使用鈉鈣玻璃、鋁硅酸鹽玻璃、硼硅酸鹽玻璃、無堿玻璃等。在本實施方式中,使用由鈉鈣玻璃構(gòu)成的玻璃基板。
透明導(dǎo)電膜2的圖案化優(yōu)選利用激光進行的圖案化。通過用激光對透明導(dǎo)電膜2進行圖案化,除去透明導(dǎo)電膜2的一部分,形成除去區(qū)域a1。作為激光,使用透明導(dǎo)電膜2對其波長的吸收率大的激光。例如,為ito膜時,在1000nm以上的波長中吸收率增大。因此,通過使用1000nm以上的波長的激光進行圖案化,能夠用激光照射來除去ito膜,形成除去區(qū)域a1。通過該圖案化,形成除去區(qū)域a1,并且在其周邊形成邊界區(qū)域a3。
激光的波長沒有特別限定,只要透明導(dǎo)電膜2在該波長具有大的吸收率即可。激光的波長例如優(yōu)選為1000nm以上,更優(yōu)選為1300nm以上,進一步優(yōu)選為1500nm以上。激光的波長的上限值沒有特別限定,激光的波長一般為2000nm以下。
優(yōu)選激光為10皮秒以下的脈沖激光,更優(yōu)選為1皮秒以下的超短脈沖激光,特別優(yōu)選為飛秒激光。通過使用這種脈沖寬度小的激光,產(chǎn)生多光子吸收現(xiàn)象,能夠不使熱向周邊部分擴散而進行圖案化。
優(yōu)選激光的點徑在除去區(qū)域a1的y方向的寬度的0.2倍~5倍的范圍內(nèi),進一步優(yōu)選在0.5倍~2倍的范圍內(nèi)。除去區(qū)域a1的y方向的寬度尺寸一般優(yōu)選為3μm~50μm的范圍,進一步優(yōu)選為5μm~20μm的范圍。除去區(qū)域a1較寬時,也可以反復(fù)多次操作激光,或使用多個激光,使激光的點稍微重復(fù),進行圖案化。另外,邊界區(qū)域a3的y方向的寬度尺寸一般優(yōu)選為0.3μm~10μm的范圍,進一步優(yōu)選為0.5μm~5μm的范圍。
此外,激光一般在透明導(dǎo)電膜2的厚度方向(z方向)從透明導(dǎo)電膜2側(cè)照射。
圖1所示的實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板10,例如能夠用作有機電致發(fā)光元件的電極基板。該情況下,在帶透明導(dǎo)電膜的基板10上設(shè)置有機電致發(fā)光層。另外,該情況下,為了提高來自有機電致發(fā)光層的光的輸出效率,也可以在基板1和透明導(dǎo)電膜2之間設(shè)置折射率比基板1高的基底玻璃層。
圖2是表示在圖1所示的實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板上設(shè)有絕緣膜的狀態(tài)的示意性剖面圖。如圖2所示,以覆蓋在帶透明導(dǎo)電膜的基板10的除去區(qū)域a1的基板1的主面1a及邊界區(qū)域a3上的方式設(shè)置有絕緣膜3。絕緣膜3主要以鈍化等為目的而設(shè)置。
絕緣膜3能夠由氮化硅、氧化硅、氮氧化硅、氧化鋁等無機材料或環(huán)氧樹脂、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂等有機材料形成。
圖3是表示本發(fā)明的一個實施方式的帶透明導(dǎo)電膜的基板的邊界區(qū)域的掃描型電子顯微鏡照片。圖4和圖5是示意性表示圖3的邊界區(qū)域的俯視圖。此外,圖5是在圖4所示的邊界區(qū)域的島狀部分附加了剖面線的示意性俯視圖。圖3、圖4和圖5表示俯視時、即從z方向觀察時的邊界區(qū)域a3及其附近的除去區(qū)域a1和非除去區(qū)域a2。另外,圖3、圖4和圖5表示設(shè)置絕緣膜3之前的圖1所示的狀態(tài)。
如圖3、圖4和圖5所示,在本發(fā)明中,在邊界區(qū)域a3形成有由以從非除去區(qū)域a2連續(xù)地向y方向延伸的方式形成的透明導(dǎo)電膜2構(gòu)成的半島狀部分2a和由實質(zhì)上從非除去區(qū)域a2分離形成的透明導(dǎo)電膜2構(gòu)成的島狀部分2b。此外,由透明導(dǎo)電膜2構(gòu)成的島狀部分2b能夠通過使用具有與透明導(dǎo)電膜2的材質(zhì)等對應(yīng)的波長或脈沖寬度的激光在規(guī)定的條件下進行圖案化,在邊界區(qū)域a3形成。這樣,在邊界區(qū)域a3,通過形成由透明導(dǎo)電膜2構(gòu)成的島狀部分2b,能夠抑制在其上設(shè)置的絕緣膜3的剝離??梢哉J為能夠抑制絕緣膜3的剝離的理由如下。
即,若在島狀部分2b上設(shè)有絕緣膜3,則會以與島狀部分2b的周圍的側(cè)壁部相接的方式形成絕緣膜3。因此,以侵入相鄰的島狀部分2b之間的方式形成有絕緣膜3。另外,相對于絕緣膜3,島狀部分2b以侵入的狀態(tài)存在。因此,可以認為能夠發(fā)揮牢固的錨定效應(yīng),能夠抑制絕緣膜3的剝離。此外,為了有效地抑制絕緣膜3的剝離,俯視時的島狀部分2b的面積(帶剖面線的部分的面積)優(yōu)選在邊界區(qū)域a3的面積的25%~75%的范圍內(nèi)。島狀部分2b的面積小于上述范圍時,侵入絕緣膜3的島狀部分2b減少,有時得不到抑制絕緣膜3的剝離的效果。另外,即使島狀部分2b的面積即使大于上述范圍,侵入島狀部分2b的絕緣膜3的部分也減少,有時得不到抑制絕緣膜3的剝離的效果。島狀部分2b的面積更優(yōu)選在邊界區(qū)域a3的面積的40%~60%的范圍內(nèi)。另外,以當量圓直徑計,一個島狀部分2b的大小優(yōu)選為0.1μm~0.6μm的范圍,進一步優(yōu)選為0.1μm~0.3μm的范圍。
另外,非除去區(qū)域a2和邊界區(qū)域a3的邊界的位置如圖4及圖5所示,為透明導(dǎo)電膜2被除去且主面1a開始露出的位置,邊界區(qū)域a3和除去區(qū)域a1的邊界的位置為島狀部分2b變得實質(zhì)上不存在的位置。
此外,島狀部分2b的面積比率優(yōu)選在邊界區(qū)域a3的面積為0.7μm2~25μm2的范圍內(nèi)的視野中求出。
另外,作為用于使島狀部分2b的面積為本發(fā)明的范圍內(nèi)的圖案化條件,優(yōu)選使用飛秒激光。
符號說明
1…基板
1a…主面
2…透明導(dǎo)電膜
2a…半島狀部分
2b…島狀部分
3…絕緣膜
10…帶透明導(dǎo)電膜的基板
a1…除去區(qū)域
a2…非除去區(qū)域
a3…邊界區(qū)域