本公開一般涉及顯示面板，尤其涉及一種顯示面板、顯示裝置和顯示面板的制作方法、設(shè)備。

背景技術(shù)：

1、隨著顯示終端的不斷發(fā)展，顯示終端的大屏化趨勢已經(jīng)成為主流。

2、為了充分利用顯示終端中顯示屏的顯示面積，在不擴大顯示面板本身面積的前提下，會通過將邊框變?yōu)檎吙虻姆绞綌U大顯示屏的實際可用顯示面積。在相關(guān)技術(shù)中，顯示面板中為疊層結(jié)構(gòu)，通過層疊覆蓋，以及掩膜刻蝕技術(shù)，形成顯示面板的窄邊框。

3、然而，現(xiàn)有的刻蝕后的顯示面板中容易將易氧化的無機層暴露在外，進(jìn)而導(dǎo)致顯示面板易遭到外界環(huán)境中的水氧侵蝕，進(jìn)而造成顯示面板邊緣出現(xiàn)黑斑，影響使用壽命。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、鑒于相關(guān)技術(shù)中的上述缺陷或不足，期望提供一種顯示面板、顯示裝置和顯示面板的制作方法、設(shè)備，能夠解決現(xiàn)有的刻蝕后的顯示面板中容易將易氧化的無機層暴露在外，進(jìn)而導(dǎo)致顯示面板易遭到外界環(huán)境中的水氧侵蝕，進(jìn)而造成顯示面板邊緣出現(xiàn)黑斑，影響使用壽命，提高顯示面板的抗氧化性，從而提高顯示面板的可靠性和使用壽命。

2、第一方面，提供了一種顯示面板，所述顯示面板包括：

3、基板，封裝層和觸控層，所述封裝層包括第一無機層和第二無機層，所述觸控層包括介電介質(zhì)層；

4、所述第一無機層設(shè)置在所述基板一側(cè)，所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)置有第二無機層和/或介電介質(zhì)層，所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層覆蓋所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域。

5、在一種可能的示例中，所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影，在所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影之內(nèi)。

6、在一種可能的示例中，所述第二無機層和/或介電介質(zhì)層覆蓋所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域包括：覆蓋所述第一無機層對應(yīng)切緣的第一區(qū)域和覆蓋在所述基板上靠近所述第一無機層一側(cè)的第二區(qū)域；所述第二區(qū)域的范圍與所述顯示面板的邊界范圍相關(guān)。

7、在一種可能的示例中，所述第一區(qū)域和第二區(qū)域之間存在角度。

8、在一種可能的示例中，所述角度與所述第一無機層對應(yīng)切緣的坡度相關(guān)。

9、在一種可能的示例中，在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)置有所述介電介質(zhì)層的情況下，

10、所述第一無機層設(shè)置在所述基板的一側(cè)，所述第二無機層覆蓋在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)；

11、所述介電介質(zhì)層設(shè)置在所述第二無機層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)，且所述介電介質(zhì)層覆蓋所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的第一邊緣區(qū)域和所述第二無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的第二邊緣區(qū)域。

12、在一種可能的示例中，在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)置有所述第二無機層和所述介電介質(zhì)層的情況下，

13、所述基板的一側(cè)設(shè)置所述第一無機層，所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)置所述第二無機層和所述介電介質(zhì)層，所述第二無機層覆蓋所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域。

14、在一種可能的示例中，所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)覆蓋所述第二無機層，所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域覆蓋第二無機層，所述介電介質(zhì)層覆蓋所述第二無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)。

15、在一種可能的示例中，所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層包括處于所述顯示面板的顯示區(qū)域之外的第三區(qū)域，所述第三區(qū)域的厚度小于所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層的厚度。

16、本技術(shù)中，顯示面板包括基板、封裝層和觸控層，封裝層可以包括第一無機層和第二無機層兩層無機層，觸控層包括介電介質(zhì)層。其中，第一無機層設(shè)置在基板的一側(cè)，第一無機層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)設(shè)置有第二無機層和/或介電介質(zhì)層，第二無機層和/或介電介質(zhì)層覆蓋第一無機層和顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域。如此，通過第二無機層和/或介電介質(zhì)層將容易氧化的第一無機層除了與基板貼合的區(qū)域以外的其他區(qū)域均進(jìn)行了覆蓋，利用第二無機層和/或介電介質(zhì)層具有抗氧化的功能，保證容易氧化的第一無機層不再會與易于導(dǎo)致其氧化的空氣或者水或者其他物質(zhì)接觸，進(jìn)而避免了第一無機層氧化導(dǎo)致顯示面板出現(xiàn)黑斑的問題，提高了顯示面板的顯示效果，也提升了顯示面板的顯示壽命。

17、第二方面，提供了一種顯示裝置，該裝置包括前述第一方面所述的顯示面板。

18、第三方面，提供了一種顯示面板的制作方法，該方法包括：

19、在所述顯示面板的基板一側(cè)覆蓋第一無機層；

20、在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述顯示面板的一側(cè)和所述第一無機層與顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域覆蓋第二無機層和/或介電介質(zhì)層。

21、在一種可能的示例中，所述在所述顯示面板的基板一側(cè)覆蓋第一無機層，包括：

22、在所述顯示面板的基板一側(cè)覆蓋所述無機層，并通過第一掩膜對所述第一無機層刻蝕，使得所述第一無機層的邊緣區(qū)域與顯示面板邊界相對應(yīng)；

23、所述在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述顯示面板的一側(cè)和所述第一無機層與顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域覆蓋所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層，包括：

24、在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述顯示面板的一側(cè)和所述第一無機層與顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域覆蓋第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層，并通過第二掩膜對所述所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層刻蝕，使得所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影，在所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影之內(nèi)。

25、在一種可能的示例中，所述通過第二掩膜對所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層刻蝕，包括：

26、通過所述第二掩膜對所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層刻蝕，所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層在邊緣區(qū)域的覆蓋范圍與所述顯示面板的邊界范圍相關(guān)。

27、在一種可能的示例中，所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層覆蓋所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域包括：覆蓋所述第一無機層切緣對應(yīng)的第一區(qū)域和覆蓋在所述基板上靠近所述第一無機層一側(cè)的第二區(qū)域；所述第二區(qū)域的范圍與所述顯示面板的邊界范圍相關(guān)。

28、在一種可能的示例中，所述第一區(qū)域和第二區(qū)域之間存在角度。

29、在一種可能的示例中，所述角度與所述第一無機層對應(yīng)切緣的坡度相關(guān)，所述坡度與所述第一無機層的切緣對應(yīng)的第一掩膜相匹配。

30、在一種可能的示例中，所述在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)置有所述介電介質(zhì)層和所述第二無機層的情況下，所述在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述顯示面板的一側(cè)和所述第一無機層與顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域覆蓋所述介電介質(zhì)層和/或所述第二無機層，并通過第二掩膜對所述介電介質(zhì)層和/或所述第二無機層刻蝕，使得所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影，在所述介電介質(zhì)層和/或所述第二無機層，與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影之內(nèi)，包括：

31、通過第二無機層覆蓋所述第一無機層，所述第一無機層在所述基板的正投影在所述第二無機層在基板的正投影范圍內(nèi)；

32、通過所述介電介質(zhì)層覆蓋在所述第二無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)；

33、通過所述第二掩膜對所述第二無機層和所述介電介質(zhì)層刻蝕，使得所述第一無機層對應(yīng)所述顯示面板的邊界側(cè)在所述基板的正投影范圍，處于所述第二無機層和所述介電介質(zhì)層對應(yīng)顯示面板的邊界側(cè)在所述基板的正投影范圍之內(nèi)。

34、在一種可能的示例中，在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)設(shè)置有所述介電介質(zhì)層的情況下，所述在所述顯示面板的基板一側(cè)覆蓋所述第一無機層，并通過第一掩膜對所述第一無機層刻蝕，使得所述第一無機層的邊緣區(qū)域與顯示面板邊界相對應(yīng)，包括：

35、在所述顯示面板的基板的一側(cè)覆蓋第一無機層；

36、在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述基板的一側(cè)覆蓋第二無機層；

37、通過第一掩膜對所述第一無機層和所述第二無機層刻蝕，使得所述第一無機層的邊緣區(qū)域和所述第二無機層的邊緣區(qū)域與顯示面板邊界相對應(yīng)；

38、所述在所述第一無機層遠(yuǎn)離所述顯示面板的一側(cè)和所述第一無機層與顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域覆蓋介電介質(zhì)層和/或所述第二無機層，并通過第二掩膜對所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層刻蝕，使得所述第一無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影，在所述第二無機層和/或所述介電介質(zhì)層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域的正投影之內(nèi)，包括：

39、將介電介質(zhì)層覆蓋在所述第一無機層和所述第二無機層遠(yuǎn)離基板的一側(cè)以及所述第一無機層和所述第二無機層與所述顯示面板邊界對應(yīng)的邊緣區(qū)域，所述第一無機層和所述第二無機層在所述基板的正投影范圍在所述介電介質(zhì)層在基板的正投影范圍內(nèi)；

40、通過所述第二掩膜對所述介電介質(zhì)層刻蝕，使得所述第一無機層和所述第二無機層對應(yīng)所述顯示面板的邊界側(cè)在所述基板的正投影范圍，處于所述介電介質(zhì)層對應(yīng)顯示面板的邊界側(cè)在所述基板的正投影范圍之內(nèi)。

41、第四方面，提供了一種計算機設(shè)備，包括存儲器、處理器及存儲在存儲器上并可在處理器上運行的計算機程序，處理器執(zhí)行程序時，實現(xiàn)上述第三方面所述的方法。

42、第五方面，提供了一種計算機可讀存儲介質(zhì)，其上存儲有計算機程序，其特征在于，該程序被處理器執(zhí)行時實現(xiàn)上述第三方面所述的方法。

43、第六方面，提供了一種計算機程序產(chǎn)品，計算機程序產(chǎn)品中包含指令，該指令被處理器運行時實現(xiàn)上述第三方面所述的方法。

44、本發(fā)明附加的方面和優(yōu)點將在下面的描述中部分給出，部分將從下面的描述中變得明顯，或通過本發(fā)明的實踐了解到。