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      顯示面板、顯示面板的制備方法及顯示裝置與流程

      文檔序號(hào):40282657發(fā)布日期:2024-12-11 13:24閱讀:來(lái)源:國(guó)知局

      技術(shù)特征:

      1.一種顯示面板,其特征在于,包括:

      2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,所述第二子部包括朝向所述基板的第一表面、背離所述基板的第二表面以及連接于所述第一表面和所述第二表面之間的側(cè)表面,所述粗糙面包括所述第二表面和/或所述側(cè)表面;

      3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示面板,其特征在于,所述第一子部包括朝向所述基板的第三表面和背離所述基板的第四表面,所述第二表面形成有多個(gè)凸起,所述凸起的頂部凸出于所述第四表面,或者,所述凸起的頂部和所述第一表面之間的距離小于或等于所述第三表面和所述第四表面之間的距離。

      4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的顯示面板,其特征在于,所述第二表面形成多個(gè)所述凹槽,沿垂直于所述基板方向,所述凹槽靠近所述基板的底部至所述第四表面的距離與所述第一子部的厚度的比值z(mì)1滿足:0.1≤z1≤0.5。

      5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的顯示面板,其特征在于,所述凸起的頂部凸出于所述第四表面,沿垂直于所述基板方向,所述凸起遠(yuǎn)離所述基板的頂部至所述第四表面的距離與所述第一子部的厚度的比值z(mì)2滿足:0.1≤z2≤0.5;

      6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示面板,其特征在于,沿平行于所述基板方向,所述第二子部的寬度l滿足:0.1微米≤l≤0.3微米。

      7.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述第一子部的厚度與所述第二隔離部的厚度的比值z(mì)3滿足:

      8.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述隔離結(jié)構(gòu)還包括設(shè)置于所述第二隔離部背離所述基板一側(cè)的第三隔離部,所述第二隔離部包括朝向所述基板的第六表面和背離所述基板的第七表面,所述第七表面在所述基板上的正投影位于所述第三隔離部在所述基板上的正投影內(nèi);

      9.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括像素定義層,所述像素定義層包括像素限定部以及由所述像素限定部圍合形成的像素開(kāi)口,所述像素開(kāi)口與所述隔離開(kāi)口連通,至少部分所述發(fā)光單元位于所述像素開(kāi)口中,所述隔離結(jié)構(gòu)設(shè)于像素限定部背離所述基板的一側(cè)。

      10.根據(jù)權(quán)利要求1-6任一項(xiàng)所述的顯示面板,其特征在于,所述顯示面板還包括像素定義層,所述像素定義層包括像素限定部以及由所述像素限定部圍合形成的像素開(kāi)口和讓位開(kāi)口,所述隔離結(jié)構(gòu)設(shè)于所述讓位開(kāi)口中,所述第一電極自所述像素開(kāi)口向所述讓位開(kāi)口延伸,并與所述隔離結(jié)構(gòu)的所述第一隔離部搭接。

      11.一種顯示面板的制備方法,其特征在于,所述制備方法包括:

      12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示面板,其特征在于,所述對(duì)所述第一隔離材料層進(jìn)行圖案化處理和粗糙化處理的步驟包括:采用刻蝕工藝或等離子刻蝕工藝對(duì)所述第一隔離材料層進(jìn)行粗糙化處理。

      13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制備方法,其特征在于,所述在所述基板的一側(cè)依次形成第一隔離材料層和第二隔離材料層的步驟中,還形成第三隔離材料層;

      14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的制備方法,其特征在于,所述在所述基板的一側(cè)依次形成第一隔離材料層和第二隔離材料層的步驟包括:

      15.一種顯示裝置,其特征在于,包括權(quán)利要求1-10任一項(xiàng)所述的顯示面板或者采用權(quán)利要求11-14任一項(xiàng)所述的制備方法制備形成的顯示面板。


      技術(shù)總結(jié)
      本申請(qǐng)公開(kāi)了一種顯示面板、顯示面板的制備方法及顯示裝置,顯示面板包括基板、隔離結(jié)構(gòu)和多個(gè)發(fā)光單元,隔離結(jié)構(gòu)設(shè)置于基板的一側(cè),且圍合形成隔離開(kāi)口,隔離結(jié)構(gòu)包括沿遠(yuǎn)離基板方向?qū)盈B設(shè)置的第一隔離部和第二隔離部,第一隔離部包括被第二隔離部覆蓋的第一子部和設(shè)置于第一子部朝向隔離開(kāi)口一側(cè)的第二子部,第二子部相對(duì)于第二隔離部凸出設(shè)置,第二子部包括朝向隔離開(kāi)口的粗糙面,粗糙面的表面粗糙度大于第一子部的表面粗糙度;發(fā)光單元的至少部分設(shè)置于隔離開(kāi)口中,發(fā)光單元包括沿遠(yuǎn)離基板方向?qū)盈B設(shè)置的發(fā)光功能層和第一電極,第一電極與第二子部搭接,且覆蓋至少部分粗糙面。

      技術(shù)研發(fā)人員:趙文炎,馮英渝,邵陽(yáng),姚遠(yuǎn),殷璐
      受保護(hù)的技術(shù)使用者:合肥維信諾科技有限公司
      技術(shù)研發(fā)日:
      技術(shù)公布日:2024/12/10
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