制作方法流程圖。
[0041]圖2是本發(fā)明具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗的工藝流程圖。
[0042]圖中:1曲面襯底、2膠帶、3裂紋漆、4裂紋模板、5導(dǎo)電金屬層。
【具體實(shí)施方式】
[0043]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明【具體實(shí)施方式】作進(jìn)一步詳細(xì)描述。
[0044]具體實(shí)施例一
[0045]本實(shí)施例的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，流程圖如圖1所示，該方法包括以下步驟:
[0046]步驟a，在清洗干凈的曲面襯底I外表面邊緣粘貼一圈寬度為5?20mm的膠帶2 ；
[0047]步驟b，采用噴涂法或浸漬提拉法在膠帶2沒(méi)有覆蓋到的曲面襯底I上涂覆含有水性丙烯酸樹(shù)脂的裂紋漆3 ;
[0048]步驟C，在密閉腔室中，控制腔室溫度為20?25°C，濕度為50?80% RH，將裂紋漆3自然干燥，形成裂紋模板4 ;
[0049]步驟d，揭除膠帶2;
[0050]步驟e，采用磁控濺射方式或電子束蒸鍍方式，在裂紋模板4表面沉積導(dǎo)電金屬層5 ；
[0051]步驟f，采用氯仿溶液或PGMEA溶液溶解去除裂紋模板4，得到電磁屏蔽曲面光學(xué)窗。
[0052]該方法的工藝流程圖如圖2所示。
[0053]按照本實(shí)施例方法制作得到的電磁屏蔽光學(xué)窗，能夠解決高級(jí)次衍射能量分布不均勻的問(wèn)題。
[0054]具體實(shí)施例二
[0055]本實(shí)施例的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，方法流程與工藝流程同具體實(shí)施例一完全相同，區(qū)別在于，裂紋漆用稀釋劑稀釋?zhuān)♂尡壤齥定義為稀釋劑與裂紋漆的體積比，并且2 < k < 5。
[0056]在上述比例條件下，發(fā)現(xiàn):
[0057]裂紋模板4的平均裂紋寬度w與裂紋漆3厚度h之間的關(guān)系為:
[0058]w = 0.342ea 266h
[0059]式中，w為裂紋模板4的平均裂紋寬度，單位μπι ;h為裂紋漆3厚度，單位μπι。
[0060]裂紋模板4的平均裂紋間隔d與裂紋漆3厚度h之間的關(guān)系為:
[0061]d = 15.8eai69h
[0062]式中，d為裂紋模板4的平均裂紋間隔，單位μ m;h為裂紋漆3厚度，單位μπι。
[0063]這兩個(gè)式子說(shuō)明，裂紋模板4的平均裂紋寬度w與裂紋模板4的平均裂紋間隔d都是裂紋漆3厚度h的函數(shù)，并且隨裂紋漆3厚度h的變化呈現(xiàn)出不同的變化規(guī)律。
[0064]那么就會(huì)存在一個(gè)裂紋漆3厚度h范圍，在該數(shù)值范圍下，裂紋模板4的平均裂紋寬度w與裂紋模板4的平均裂紋間隔d的數(shù)值組合，使電磁屏蔽光學(xué)窗達(dá)到接近理想的光學(xué)特性。
[0065]又經(jīng)過(guò)大量的理論推導(dǎo)和實(shí)驗(yàn)，發(fā)現(xiàn):
[0066]對(duì)于噴涂法，壓縮氣壓0.3Mpa，噴頭掃描速度100mm/s，噴頭步進(jìn)速度3mm/步時(shí)，裂紋漆3厚度h與出膠量z之間的關(guān)系為:
[0067]h = (1.981-0.861nk) (0.002ζ4_0.028ζ3+0.130ζ2_0.169ζ+2.992)
[0068]式中，h為裂紋漆3厚度，單位μπι ;z為出膠量，取值范圍為2?8ml/min ;k為稀釋比例；
[0069]對(duì)于浸漬提拉法，提拉速度為500 μ m/s時(shí)，裂紋漆3厚度h與稀釋比例k之間的關(guān)系為:
[0070]h = 0.125k2-l.345k+5.895
[0071]式中，h為裂紋漆3厚度，單位ym;k為稀釋比例。
[0072]以上噴涂法和浸漬提拉法的參數(shù)條件，使裂紋模板4的平均裂紋寬度w與裂紋模板4的平均裂紋間隔d的數(shù)值組合，不僅解決高級(jí)次衍射能量分布不均勻問(wèn)題時(shí)，甚至達(dá)到了不發(fā)生明顯衍射的效果。
[0073]以上實(shí)施例的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，步驟f還包括采用丙酮酒精清洗襯底的步驟。
[0074]以上實(shí)施例的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，所述的曲面襯底I的面型為球面、球冠面、圓柱面或共形曲面。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，包括以下步驟: 步驟a，在清洗干凈的曲面襯底(I)外表面邊緣粘貼一圈寬度為5?20_的膠帶(2); 步驟b，采用噴涂法或浸漬提拉法在膠帶(2)沒(méi)有覆蓋到的曲面襯底(I)上涂覆含有水性丙烯酸樹(shù)脂的裂紋漆(3); 步驟C，在密閉腔室中，控制腔室溫度為20?25°C，濕度為50?80% RH，將裂紋漆(3)自然干燥，形成裂紋模板(4); 步驟d，揭除膠帶⑵； 步驟e，采用磁控濺射方式或電子束蒸鍍方式，在裂紋模板(4)表面沉積導(dǎo)電金屬層(5)； 步驟f，采用氯仿溶液或PGMEA溶液溶解去除裂紋模板(4)，得到電磁屏蔽曲面光學(xué)窗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，步驟b所述的裂紋漆用稀釋劑稀釋?zhuān)♂尡壤齥定義為稀釋劑與裂紋漆的體積比，并且2彡k彡5。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，步驟b所述的噴涂法采用如下條件:壓縮氣壓0.3Mpa，噴頭掃描速度100mm/s，噴頭步進(jìn)速度3_/步；在上述噴涂條件下，所獲得的裂紋漆(3)厚度h與出膠量z之間的關(guān)系為:h = (1.981-0.861nk) (0.002ζ4_0.028ζ3+0.130ζ2_0.169ζ+2.992) 式中，h為裂紋漆(3)厚度，單位μπι ;z為出膠量，取值范圍為2?8ml/min ;k為稀釋比例。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，步驟b所述的浸漬提拉法采用如下條件:提拉速度為500 μπι/s，在上述涂覆條件下，所獲得的裂紋漆(3)厚度h與稀釋比例k之間的關(guān)系為:h = 0.125k2-l.345k+5.895 式中，h為裂紋漆(3)厚度，單位ym;k為稀釋比例。
5.如權(quán)利要求3或4所述的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，步驟c所述的裂紋模板(4)的平均裂紋寬度w與裂紋漆(3)厚度h之間的關(guān)系為: w = 0.342ea 266h 式中，w為裂紋模板(4)的平均裂紋寬度，單位ym;h為裂紋漆(3)厚度，單位μπι。
6.如權(quán)利要求3或4所述的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，步驟c所述的裂紋模板(4)的平均裂紋間隔d與裂紋漆(3)厚度h之間的關(guān)系為: d = 15.8eai69h 式中，d為裂紋模板(4)的平均裂紋間隔，單位ym;h為裂紋漆(3)厚度，單位ym。
7.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4、5或6所述的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，步驟f還包括采用丙酮酒精清洗襯底的步驟。
8.根據(jù)權(quán)利要求1、2、3、4、5或6所述的具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法，其特征在于，所述的曲面襯底(I)的面型為球面、球冠面、圓柱面或共形曲面。
【專(zhuān)利摘要】具有金屬網(wǎng)柵結(jié)構(gòu)的電磁屏蔽曲面光學(xué)窗制作方法屬于光學(xué)窗技術(shù)領(lǐng)域；該方法首先在曲面襯底外表面邊緣粘貼膠帶，并涂覆裂紋漆，然后在合適的條件下將裂紋漆自然干燥，形成裂紋模板，再揭除膠帶，接著在裂紋模板表面沉積導(dǎo)電金屬層，最后溶解去除裂紋模板，得到電磁屏蔽曲面光學(xué)窗；本發(fā)明不僅避免因金屬線寬增加而降低光學(xué)窗透光性能的問(wèn)題，而且避免傳統(tǒng)機(jī)械摩擦方式同時(shí)降低光學(xué)窗的透光性能和電磁屏蔽性能，還給出能夠解決高級(jí)次衍射能量分布不均勻問(wèn)題的具體加工條件，使本發(fā)明方法制作出的電磁屏蔽光學(xué)窗，不僅具有良好的電磁屏蔽性能，而且具有良好的光學(xué)性能，同時(shí)應(yīng)用范圍更廣。
【IPC分類(lèi)】H05K9-00
【公開(kāi)號(hào)】CN104837326
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510262996
【發(fā)明人】金鵬, 韓余
【申請(qǐng)人】哈爾濱工業(yè)大學(xué)
【公開(kāi)日】2015年8月12日
【申請(qǐng)日】2015年5月21日