電磁波屏蔽膜的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及電磁波屏蔽膜的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來(lái)，對(duì)節(jié)能措施的關(guān)注不斷提高，為了貼附于建筑物、車輛的玻璃窗從而阻斷陽(yáng)光中含有的熱輻射的透射而減少施加于冷卻設(shè)備的負(fù)荷，正在積極地開(kāi)發(fā)具有反射近紅外光的功能的電磁波屏蔽膜。
[0003]電磁波屏蔽膜是將高折射率層與低折射率層交替地層疊而構(gòu)成的。一般而言，已知高折射率層和低折射率層的層數(shù)越多，電磁波的反射率越高，屏蔽效果越高，但現(xiàn)有技術(shù)通過(guò)涂布逐次形成各層，生產(chǎn)率存在問(wèn)題(例如，參照專利文獻(xiàn)1和2)。因此，為了提高生產(chǎn)率，提出了能夠一次性進(jìn)行復(fù)層涂布(同時(shí)復(fù)層涂布)的滑動(dòng)式模涂機(jī)的應(yīng)用。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn)
[0005]專利文獻(xiàn)
[0006]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)平8-110401號(hào)公報(bào)
[0007]專利文獻(xiàn)1:日本特開(kāi)2004-123766號(hào)公報(bào)

【發(fā)明內(nèi)容】

[0008]然而，構(gòu)成滑動(dòng)式模涂機(jī)的擋桿(〃'一)的設(shè)置數(shù)(涂布層數(shù))與制造的電磁波屏蔽膜的層數(shù)(高折射率層和低折射率層的層數(shù))對(duì)應(yīng)。因此，為了使制造的電磁波屏蔽膜的層數(shù)增加，在增加涂布層數(shù)時(shí)，擋桿的設(shè)置數(shù)增加，涂布液流下的由擋桿的端面構(gòu)成的滑動(dòng)面變長(zhǎng)。由此，涂布液的流動(dòng)容易產(chǎn)生紊亂，均勻的涂布變得困難，此外，有可能產(chǎn)生涂布液的混合而對(duì)電磁波屏蔽膜產(chǎn)生不良影響，例如，導(dǎo)致膜厚的不均勻(變動(dòng))、性能的下降。
[0009]另一方面，為了防止涂布液的流動(dòng)的紊亂，有效的是縮短滑動(dòng)面，因此，需要減薄擋桿。然而，若減薄擋桿，則產(chǎn)生以下問(wèn)題:受到由低折射率層涂布液粘度與高折射率層涂布液粘度的差所致的影響，即，基于低折射率層涂布液通過(guò)間隙時(shí)產(chǎn)生的壓力損失的內(nèi)部壓力與基于高折射率層涂布液通過(guò)間隙時(shí)產(chǎn)生的壓力損失的內(nèi)部壓力的壓力差的影響。
[0010]例如，從壓力高的一側(cè)(粘度大的低折射率層涂布液所通過(guò)的一側(cè))向低的一側(cè)(粘度小的高折射率層涂布液所通過(guò)的一側(cè))，擋桿被加壓而變形，涂布寬度方向的間隙的均勻性變差，從而產(chǎn)生以下問(wèn)題:涂布膜厚變得不均勻，制造的電磁波屏蔽膜的光學(xué)特性的均勻性下降，例如，產(chǎn)生顏色不均。
[0011]本發(fā)明是為了解決與上述現(xiàn)有技術(shù)相伴的課題而完成的，其目的是提供一種即使增加層數(shù)也可以良好地實(shí)施同時(shí)復(fù)層涂布的電磁波屏蔽膜的制造方法。
[0012]本發(fā)明的上述目的通過(guò)下述手段達(dá)成。
[0013](1) 一種電磁波屏蔽膜的制造方法，該電磁波屏蔽膜具有高折射率層與低折射率層交替地層疊而成的結(jié)構(gòu)，
[0014]該制造方法具有涂布工序:使用具有多個(gè)層疊的擋桿的滑動(dòng)式模涂機(jī)，使構(gòu)成上述高折射率層的第1涂布液的涂布層與構(gòu)成上述低折射率層的第2涂布液的涂布層交替地層疊從而對(duì)膜基材進(jìn)行同時(shí)復(fù)層涂布，
[0015]上述擋桿具有:前端部，其在與鄰接的另一擋桿之間形成間隙；基端部，其與上述另一擋桿抵接；以及袋部，其位于上述前端部與上述基端部之間且具有作為涂布液積存部的凹部，
[0016]上述袋部的厚度為15mm以下，
[0017]上述涂布工序中，供給上述第2涂布液的擋桿的袋部的凹部的內(nèi)壓與供給上述第1涂布液的擋桿的袋部的凹部的內(nèi)壓的壓力差被設(shè)定為0.1MPa以下。
[0018](2)如上述⑴所述的電磁波屏蔽膜的制造方法，其中，上述第1涂布液的粘度μ JmPa.s]和上述第2涂布液的粘度y2[mPa.s]滿足關(guān)系式(μ2< 4X μ ^100)。
[0019](3)如上述⑴所述的電磁波屏蔽膜的制造方法，其中，供給上述第1涂布液的擋桿的前端部的間隙的厚度即狹縫間隙D31[mm]和供給上述第2涂布液的擋桿的前端部的間隙的厚度即狹縫間隙D32[mm]為0.05?0.4，并且，
[0020]上述狹縫間隙D32大于上述狹縫間隙D 31。
[0021](4)如上述⑵所述的電磁波屏蔽膜的制造方法，其中，上述第1涂布液的粘度μ ! [mPa.s]為 3 ?30，
[0022]上述第2涂布液的粘度μ 2 [mPa.s]為50?500。
[0023](5)如上述⑴?(4)中任一項(xiàng)所述的電磁波屏蔽膜的制造方法，其中，電磁波屏蔽膜具有反射近紅外光的功能。
[0024]根據(jù)本發(fā)明，擋桿的袋部的厚度為15mm以下，能夠減薄擋桿，即使增加擋桿的設(shè)置數(shù)(涂布層數(shù))，也可抑制涂布液流下的由擋桿的端面構(gòu)成的滑動(dòng)面變長(zhǎng)。此外，在涂布工序中，供給第2涂布液的擋桿的袋部的凹部的內(nèi)壓與供給第1涂布液的擋桿的袋部的凹部的內(nèi)壓的壓力差被設(shè)定為0.1MPa以下。S卩，擋桿的最小壁厚部、受到壓力的影響而容易變形的袋部處的壓力差小，因此可抑制擋桿的變形，維持涂布寬度方向的間隙的均勻性，防止涂布寬度方向的涂布膜厚變得不均勻，因此制造的電磁波屏蔽膜的光學(xué)特性的均勻性良好。因此，能夠提供即使增加層數(shù)也可以良好地實(shí)施同時(shí)復(fù)層涂布的電磁波屏蔽膜的制造方法。
[0025]通過(guò)參照下述說(shuō)明和附圖中例示的優(yōu)選實(shí)施方式，進(jìn)一步明確本發(fā)明的其它目的、特征和特質(zhì)。
【附圖說(shuō)明】
[0026]圖1是用于說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的電磁波屏蔽膜的制造方法的流程圖。
[0027]圖2是用于說(shuō)明圖1所示的制備工序和涂布工序中應(yīng)用的涂布裝置的示意圖。
[0028]圖3是用于說(shuō)明圖2所示的模涂機(jī)的側(cè)方壁部的俯視圖。
[0029]圖4是用于說(shuō)明圖2所示的模涂機(jī)的擋桿的俯視圖。
[0030]圖5是與圖4的線V-V相關(guān)的截面圖。
[0031]圖6是用于說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的涂布工序的截面圖。
[0032]圖7是用于說(shuō)明涂布工序中的涂布條件的截面圖。
[0033]圖8是用于說(shuō)明比較例的截面圖。
[0034]圖9是表示用于說(shuō)明擋桿的袋部的厚度和壓力差對(duì)電磁波屏蔽膜的膜厚變動(dòng)率的影響的試驗(yàn)結(jié)果的表格。
[0035]圖10是表示用于說(shuō)明涂布液粘度對(duì)電磁波屏蔽膜的膜厚變動(dòng)率和壓力差的影響的試驗(yàn)結(jié)果的表格。
[0036]圖11是表示用于說(shuō)明狹縫間隔對(duì)電磁波屏蔽膜的膜厚變動(dòng)率的影響的試驗(yàn)結(jié)果的表格。
【具體實(shí)施方式】
[0037]以下，一邊參照附圖一邊說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式。應(yīng)予說(shuō)明，附圖的尺寸比率有時(shí)為了方便說(shuō)明而夸大，與實(shí)際的比率不同。
[0038]圖1是用于說(shuō)明本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的電磁波屏蔽膜的制造方法的流程圖。
[0039]本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的電磁波屏蔽膜是將高折射率層與低折射率層交替地進(jìn)行多層層疊而構(gòu)成的，具有在可見(jiàn)光區(qū)域(波長(zhǎng)380?780nm)透射率高、在近紅外光區(qū)域(780?2500nm)反射率高的光學(xué)特性。電磁波屏蔽膜的用途是近紅外光反射膜，配置于建筑物的室外的窗、汽車窗、農(nóng)業(yè)用塑料大棚等，為了賦予熱輻射反射效果而使用。
[0040]“高折射率層”和“低折射率層”是指在比較鄰接的2層的折射率差時(shí)，將折射率較高的層設(shè)為高折射率層，將較低的層設(shè)為低折射率層。特定波長(zhǎng)區(qū)域的反射率由鄰接的2層的折射率差和層數(shù)決定，折射率的差越大，越可以用少的層數(shù)得到高的反射率。
[0041]如圖1所示，本發(fā)明的實(shí)施方式所涉及的電磁波屏蔽膜的制造方法具有制備工序、涂布工序和干燥工序。
[0042]制備工序中，例如，通過(guò)混合金屬氧化物粒子、樹(shù)脂粘結(jié)劑、固化劑、添加劑、溶劑等，可制備高折射率層涂布液和低折射率層涂布液。
[0043]涂布工序中，將對(duì)應(yīng)于電磁波屏蔽膜的各層的高折射率層涂布液和低折射率層涂布液對(duì)膜基材一次性進(jìn)行復(fù)層涂布(同時(shí)復(fù)層涂布)。
[0044]膜基材能夠應(yīng)用聚烯烴膜、聚酯膜、聚氯乙烯膜、三乙酸纖維素膜等各種樹(shù)脂膜。聚烯烴例如是聚乙烯、聚丙烯。聚酯例如是聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯。
[0045]干燥工序中，通過(guò)對(duì)復(fù)層涂布有高折射率層涂布液和低折射率層涂布液的膜基材進(jìn)行干燥(熱固化)，可制造電磁波屏蔽膜。干燥條件可考慮高折射率層涂布液和低折射率層涂布液中含有的揮發(fā)性成分的蒸發(fā)溫度、固化劑的固化溫度、膜基材的耐熱溫度等而適當(dāng)設(shè)定。其后，將干燥的電磁波屏蔽膜根據(jù)需要裁斷成適當(dāng)?shù)拇笮　?br>[0046]如下所述，對(duì)于涂布工序，即