明實(shí)施例而提供的，而不是用于限制本發(fā)明。 在本說明書中，除非在句子中特別說明，單數(shù)型也包括復(fù)數(shù)型。在說明書中使用的"包括 (comprises)"及/或者"包含(compri sing)"表示所提及的結(jié)構(gòu)要素、步驟、動(dòng)作及/或者元 件之外，不排除一個(gè)以上的其他結(jié)構(gòu)要素、步驟、動(dòng)作及/或者元件的存在或者增加。
[0044] 為了便于說明和清楚起見，圖中各構(gòu)件的厚度和大小是夸張或者省略或者示意地 表示。此外，各構(gòu)件的大小和面積并不完整地反映實(shí)際大小和面積。
[0045] 下面，為了通過本發(fā)明的實(shí)施例說明黑化導(dǎo)電圖案的形成方法，參照附圖對(duì)本發(fā) 明進(jìn)行說明。
[0046] 如圖1所示，本發(fā)明的一實(shí)施例的黑化導(dǎo)電圖案的形成方法包括一次填充步驟S10 及二次填充步驟S20。
[0047] 一次填充步驟S10
[0048] -次填充步驟S10為在具有槽的基底的所述槽中填充黑化導(dǎo)電油墨組合物的步 驟，用于在陰刻槽中填充具有導(dǎo)電性的物質(zhì)。
[0049] 所述基底的種類并不特別限制。所述基底可由透明材質(zhì)、例如塑料薄膜或玻璃來 形成。所述塑料薄膜可使用聚酰亞胺(PI)、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二 醇酯（PEN)、聚醚砜(PES)、尼龍(Nylon)、聚四氟乙烯(PTFE)、聚醚醚酮(PEEK)、聚碳酸酯 (PC)或者聚芳酯(PAR)。也可由不透明的材質(zhì)來構(gòu)成。例如，可使用表面經(jīng)過絕緣處理的金 屬板或者可使用不透明的塑料薄膜、不透明的玻璃或者不透明的玻璃纖維材料。如此，可使 用塑料薄膜或者玻璃基板等，但并不局限于此。
[0050] 對(duì)于在所述基底上形成槽的方法，可使用在本領(lǐng)域中通常使用的方法來形成，優(yōu) 選根據(jù)需要實(shí)現(xiàn)的微細(xì)線寬的大小，可在以下方法中選擇使用，即該些方法為采用壓印工 藝由模具壓印UV光固性樹脂或者熱固性樹脂而形成的方法、采用激光直接蝕刻基底而使用 的方法、采用光刻方式而形成的方法等。
[0051] 黑化導(dǎo)電油墨組合物的構(gòu)成包括導(dǎo)電物質(zhì)及黑化物質(zhì)。
[0052] 所述導(dǎo)電物質(zhì)可使用金屬絡(luò)合物、金屬前體、球形金屬粒子、金屬薄片或者納米粒 子，根據(jù)導(dǎo)電物質(zhì)的材料，可混合兩種以上而使用。
[0053]為了提高對(duì)微細(xì)槽的填充性，可使用金屬絡(luò)合物或者金屬前體。此外，也可還原金 屬絡(luò)合物或者金屬還原而制備納米大小的金屬粒子后作為混合物來使用。使用該混合物時(shí) 能夠易于形成通過以往的技術(shù)無法形成的納米大小的微細(xì)導(dǎo)電圖案。
[0054] 在本發(fā)明中使用的金屬前體可由通式ΜηΧ來表示，其中，Μ為Ag、Au、Cu、Ni、Co、Pd、 Ti、V、Mn、Fe、Cr、Zr、Nb、Mo、W、Ru、Cd、Ta、Re、0s、Ir、Al、Ga、Ge、In、Sn、Sb、Pb、Bi，n*l~l(^9 整數(shù)，X表示氧、硫磺、鹵素、氰基、氰酸鹽、碳酸鹽、硝酸鹽(Nitrate)、硫酸鹽、磷酸鹽、硫氰 酸鹽、氯酸鹽、高氯酸鹽、四氟硼酸鹽(丨61：瓜；^1101'〇130抑丨6)、乙酰丙酮化物、疏基、酰胺、醇 鹽及羧酸鹽等。具體而言，例如可選擇醋酸金、草酸鈀、2-乙基己酸銀、2-乙基己酸銅、硬脂 酸鐵、甲酸鎳及檸檬酸鋅等的羧酸金屬;硝酸銀、氰化銅、碳酸鈷、氯化鉑、氯金酸、四丁氧基 鈦、二甲氧基二氯化錯(cuò)(dimethoxy zirconium dicloride)、三異丙氧基錯(cuò)、氧化|凡、甲氧基 鉭(Tantalum methoxide)、乙酸祕(mì)、十二烷基疏基金及乙酰丙酮銦等的金屬化合物等中的 一種以上一起使用。
[0055] 常規(guī)的金屬納米粒子的制備方法有以物理方式將金屬塊粉碎而制備的物理方法 和用化學(xué)方法來制備的方法。對(duì)化學(xué)方法進(jìn)一步詳細(xì)說明，則包括:噴射高壓氣體來制成粉 末的氣溶膠法、使用金屬化合物和氣體還原劑并通過熱解來制成粉末的熱解法、對(duì)蒸發(fā)原 料進(jìn)行加熱使其蒸發(fā)來制成粉末的蒸發(fā)濃縮法、溶凝膠法、水熱合成法、超聲波合成法、微 乳液法及液相還原法等。最常用的是液相還原法，該方法利用分散劑和還原劑來制備，其易 于控制納米粒子的形成，并且被評(píng)價(jià)為經(jīng)濟(jì)效果最佳的方法，但在本發(fā)明中只要能夠形成 納米粒子，就能使用所有的方法。對(duì)于通過液相還原法制備納米粒子的方法的具體說明，在 本申請(qǐng)人提出的韓國專利申請(qǐng)第2006-0074246號(hào)中已有記載，在所述專利申請(qǐng)中記載的金 屬納米粒子具有粒子大小均勻及凝聚性最小化的優(yōu)點(diǎn)，含有所述金屬納米粒子的導(dǎo)電油墨 具有即使在150°C以下的低溫下進(jìn)行短時(shí)間的燒成，也能夠易于形成具有較高的導(dǎo)電度的 均勻及致密的薄膜或微細(xì)圖案的優(yōu)點(diǎn)。
[0056] 黑化物質(zhì)與所述導(dǎo)電物質(zhì)混合后形成黑化導(dǎo)電油墨組合物。
[0057] 所述黑化物質(zhì)優(yōu)選為鈦(Ti)系、鋯(Zr)系、錳(Μη)系、銻(Sb)系或者釩(V)系的絡(luò) 合物，根據(jù)導(dǎo)電物質(zhì)的種類，可混合所述絡(luò)合物而使用。
[0058]鈦系、鋯系、錳系或者銻系的絡(luò)合物對(duì)可見性的改善具有非常優(yōu)異的效果，并且能 夠控制金屬特有的反射特性，此外還能提高光線的吸收度和與基底間的緊貼力。
[0059] 所述鈦系的絡(luò)合物優(yōu)選包括鈦酸異丙酯、鈦酸乙酯、鈦酸正丁酯、聚鈦酸正丁酯、 鈦酸2-乙基己酯、鈦酸正丙酯、辛二醇鈦酸酯、鈦酸四異辛酯、鈦酸甲酚酯單體、鈦酸甲酚酯 聚合物、三乙醇胺鈦酸酯、乙酰丙酮鈦、異丙氧基鈦、鈦酸乙基乙酰乙酸酯、異硬脂酰鈦酸酯 或者乳酸鈦螯合物中的至少一種。
[0060] 所述鋯系的絡(luò)合物優(yōu)選包括三乙醇胺鋯酸酯、乳酸鋯、羥乙酸鋯、鋯酸正丁酯或者 鋯酸正丙酯中的至少一種。
[0061 ] 所述錳系的絡(luò)合物優(yōu)選包括乙酰丙酮錳（III )、乙酰丙酮錳（III)四水合物、乙酸 錳（II)、乙酸錳（III)二水合物、乙酰丙酮錳（II)、碳酸錳（II)、碳酸錳（II)水合物、六氟乙 酰丙酮錳（II)三水合物、氯化錳（II)、硝酸錳(II)四水合物、硫酸錳（II)單水合物、硫化錳 (II )、硝酸錳(II)水合物、高氯酸錳(II)水合物、氟化錳(III )、硫酸錳（II)水合物、氯化錳 (II) 水合物或者氯化錳(II)單水合物中的至少一種。
[0062] 所述銻系的絡(luò)合物優(yōu)選包括氯化銻（III )、乙酸銻（III )、乙氧化銻（III )、氯化銻 (V)、硫化銻(V)、甲氧化銻（III)、氟化銻(V)、硫化銻（III)、丁氧化銻（III)、異丙氧化銻 (III) 或者丙氧化銻(III)中的至少一種。
[0063] 所述釩系的絡(luò)合物優(yōu)選包括乙酰丙酮釩(III)、氯化釩(II)、氯化釩(III)、三乙氧 基氧化釩(V)、氯氧化釩(V)、氯化釩(IV)、三丙氧基氧化釩(V)、氟氧化釩(V)、硫酸氧釩(IV) 水合物、硼化釩、溴化釩(III)或者碘化釩(III)中的至少一種。
[0064] 由所述金屬絡(luò)合物或者所述金屬絡(luò)合物的組合來構(gòu)成的黑化物質(zhì)優(yōu)選相對(duì)于導(dǎo) 電物質(zhì)100重量份具有0.01至10重量份的含量。
[0065] 當(dāng)黑化物質(zhì)的含量低于0.01重量份時(shí)，難以控制金屬的漫反射，會(huì)明顯降低濁度 (霧度）。此外，當(dāng)大于10重量份時(shí)，具有會(huì)降低電特性的問題。
[0066] 除了所述的混合物之外，根據(jù)需要可包括溶劑、穩(wěn)定劑、分散劑、粘合劑樹脂 (binder resin)、離型劑、還原劑、表面活性劑（surfactant)、潤濕劑(wetting agent)、觸 變劑(thixotropic agent)或者如流平劑（levelling)、增稠劑的添加劑等。
[0067] 所述粘合劑樹脂優(yōu)選為與各種基底的附著力優(yōu)異的樹脂。對(duì)此可使用的物質(zhì)為有 機(jī)高分子物質(zhì)，例如可為聚丙烯、聚碳酸鹽、聚丙烯酸酯、聚甲基丙烯酸甲酯、乙酸纖維素、 聚氯乙烯、聚氨酯、聚酯、醇酸樹脂、環(huán)氧樹脂、苯氧樹脂、三聚氰胺樹脂、苯酚樹脂、酚改性 醇酸樹脂、環(huán)氧基改性醇酸樹脂、乙烯基改性醇酸樹脂、硅酮改性醇酸樹脂、丙烯酸蜜胺樹 月旨、聚異氰酸酯樹脂及環(huán)氧酯樹脂等，并且只要符合本發(fā)明就不局限于此。在所述一次填充 步驟S10中使用的黑化導(dǎo)電油墨中，使用銀(Ag)絡(luò)合物或者納米粒子時(shí)也能夠在無粘合劑 的情況下使用，因此并不局限于所述的內(nèi)容。
[0068] 此外，為了形成均勻的薄膜有時(shí)需要溶劑，此時(shí)作為溶劑可使用如乙醇、異丙醇、 丁醇及己醇的醇類;如乙二醇及甘油的二醇類;如乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙酸甲氧基丙酯、卡 必醇醋酸酯及乙基卡必醇醋酸酯的醋酸酯類;如甲基溶纖劑、丁基溶纖劑、二乙醚、四氫呋 喃及二氧六環(huán)的醚類;如甲基乙基酮、丙酮、二甲基甲酰胺及1-甲基-2-吡咯烷酮的酮類;如 己烷、庚烷、十二烷、石蠟油及礦物油精的烴系；如苯、甲苯及二甲苯的芳香族；以及氯仿或 者二氯甲烷、四氯化碳的鹵代溶劑；乙腈;二甲亞砜或者其混合溶劑等。但溶劑的種類并不 局限于此。
[0069] 在所述一次填充步驟S10中，雖然在基底的槽中填充黑化導(dǎo)電油墨組合物的方法 不受限制，但優(yōu)選為噴墨（ink jet)法、平板絲網(wǎng)法、旋涂（spin)法、棒涂（bar)法、輯涂 (ro 11)法、流涂（f 1 ow)法、刀片（doctor b 1 ade)刮涂法、點(diǎn)膠法（di spensing)、凹版 (Gravure)印刷法或者柔版(flexography)印刷法。此時(shí)的填充次數(shù)可為一次，或者也可將 填充次數(shù)重復(fù)一次以上而使用。根據(jù)上述各填充方法，在填充特性上會(huì)有差距，但有必要配 合各填充方法對(duì)黑化導(dǎo)電油墨的成分進(jìn)行調(diào)節(jié)，從而使組合物的流變能力適合于填充方 法。
[0070] 通過上述方法形成的導(dǎo)電圖案的厚度，優(yōu)選為與陰刻圖案的深度相同或者低于陰 刻圖案的深度，但并不局限于此。根據(jù)后處理工藝的條件，導(dǎo)電圖案的厚度也許比陰刻圖案 的深度厚為宜，這樣提高與上部電路之間的接觸力。具體來說，優(yōu)選為?ομπι以下，更加優(yōu)選 為ο.?μπι以上5μπι以下。對(duì)于導(dǎo)電圖案的厚度，有必要根據(jù)所要實(shí)現(xiàn)的線寬、所要求的電阻及 后處理?xiàng)l件來調(diào)節(jié)厚度。
[0071] 在所述一次填充步驟S10中，優(yōu)選在對(duì)基底的槽填充黑化導(dǎo)電油墨組合物之后，進(jìn) 行干燥步驟。導(dǎo)電圖案的干燥溫度可為22~600°C，更加優(yōu)選為80~400°C。但，并不必須局 限于所述的溫度范圍，根據(jù)基底的種類，可優(yōu)選在不會(huì)導(dǎo)致基底變形的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行。
[0072] 二次填充步驟S20
[0073] 二次填充步驟S20為對(duì)在所述一次填充步驟S10中在槽中填充黑化導(dǎo)電油墨組合 物時(shí)殘留在表面上的殘留黑化導(dǎo)電油墨組合物進(jìn)行處理后，再對(duì)槽進(jìn)一步填充殘留黑化導(dǎo) 電油墨組合物的步驟，本步驟通過浸蝕液溶解殘留黑化導(dǎo)電油墨組合物，并將所述殘留黑 化導(dǎo)電油墨組合物填充到槽中。
[0074] 二次填充步驟S20可包括殘留油墨組合物的溶解步驟S21和殘留油墨組合物的填 充步驟S22,并且也可在溶解殘留的導(dǎo)電油墨組合物的過程中對(duì)槽進(jìn)行填充。
[0075]殘留油墨組合物的溶解步驟S21
[0076] 殘留油墨組合物的溶解步驟S21為對(duì)在所述一次填充步驟S10中在所述槽中填充 黑化導(dǎo)電油墨組合物時(shí)殘留在所述表面上的殘留黑化導(dǎo)電油墨組合物進(jìn)行溶解的步驟，在 本步驟中為了將在一次填充步驟S10中填充黑化導(dǎo)電油墨組合物時(shí)不可避免地殘留在基底 表面上的黑化導(dǎo)電油墨組合物引導(dǎo)至槽，通過浸蝕液溶解該殘留的黑化導(dǎo)電油墨組合物。
[0077] 對(duì)黑化導(dǎo)電油墨的浸蝕機(jī)制一般可通過重復(fù)進(jìn)行由氧化劑氧化金屬表面而形成 金屬氧化物，并由溶解該氧化物的化合物來進(jìn)行溶解的過程和溶脹過程而實(shí)現(xiàn)。
[0078] 為了溶解殘留在基底表面上的黑化導(dǎo)電油墨組合物，可在基底表面上涂覆浸蝕 液。對(duì)于浸蝕液的涂覆方法，可通過通常的涂覆法來進(jìn)行。
[0079] 浸蝕液優(yōu)選包括氨基甲酸銨系、碳酸銨系、碳酸氫銨系、羧酸系