本發(fā)明涉及多孔徑成像設(shè)備、成像系統(tǒng)及用于提供多孔徑成像設(shè)備的方法。本發(fā)明進一步涉及具有線性通道布置以及小或最小尺寸的多孔徑成像系統(tǒng)。

背景技術(shù)：

傳統(tǒng)相機具有對整個物場進行投影的成像通道。相機具有實現(xiàn)物鏡與圖像傳感器之間的相對橫向二維移位的自適應(yīng)性組件以用于實現(xiàn)光學(xué)圖像穩(wěn)定功能。具有線性通道布置的多孔徑成像系統(tǒng)由多個成像通道構(gòu)成，成像通道中的每個捕捉對象的僅部分且含有偏轉(zhuǎn)鏡。

實現(xiàn)緊湊實現(xiàn)的對象區(qū)域或視場的多通道檢測的概念是值得想望的。

技術(shù)實現(xiàn)要素：

本發(fā)明的目標(biāo)為提供多孔徑成像設(shè)備、成像系統(tǒng)及用于提供多孔徑成像設(shè)備的方法，其實現(xiàn)緊湊(即具有小尺寸)實施，尤其關(guān)于達成小的建構(gòu)高度。

通過獨立權(quán)利要求的主題來達成此目標(biāo)。

本發(fā)明的一個發(fā)現(xiàn)為已認(rèn)識到可通過以下操作達成上述目標(biāo)：通過生成使光通道的光路偏轉(zhuǎn)的光束偏轉(zhuǎn)工具的旋轉(zhuǎn)移動，獲得由圖像的多孔徑成像設(shè)備檢測的沿著圖像軸線的光學(xué)圖像穩(wěn)定，從而可減少或避免在成像通道與圖像傳感器之間的沿著各個圖像方向的平移移動。平移移動的此減小程度實現(xiàn)減小的建構(gòu)高度，且因此實現(xiàn)多孔徑成像設(shè)備的緊湊(即具有小的建構(gòu)空間，且特別地，關(guān)于達成小的建構(gòu)高度或厚度)的有利實施。

根據(jù)實施例，多孔徑成像設(shè)備包括圖像傳感器、光通道的陣列、光束偏轉(zhuǎn)工具及光學(xué)圖像穩(wěn)定器。光通道的陣列的每個光通道包括用于將總視場的部分視場投影至圖像傳感器的圖像傳感器區(qū)域的光學(xué)件。光束偏轉(zhuǎn)工具用于使光通道的光路偏轉(zhuǎn)。光學(xué)圖像穩(wěn)定器用于為了沿著第一圖像軸線的圖像穩(wěn)定而生成在圖像傳感器與陣列之間的平移相對移動，以及為了沿著第二圖像軸線的圖像穩(wěn)定而生成光束偏轉(zhuǎn)工具的旋轉(zhuǎn)移動。基于旋轉(zhuǎn)移動，可沿著第二圖像軸線達成建構(gòu)空間的低消耗?；谛D(zhuǎn)移動，還可避免以下配置：必須通過用于生成沿著第二軸線的平移移動的致動器來啟動用于生成在圖像傳感器與光學(xué)件之間的沿著第一軸線的平移移動的致動器。

根據(jù)另一實施例，圖像穩(wěn)定器包括至少一個致動器。至少一個致動器至少部分地布置于立方體的側(cè)面所跨越(所界定)的兩個平面之間，立方體的側(cè)面彼此平行且還平行于陣列的線延伸方向及在圖像傳感器與光束偏轉(zhuǎn)工具之間的光通道的光路的部分而對準(zhǔn)，且立方體的體積最小，但仍然包括圖像傳感器、陣列及光束偏轉(zhuǎn)工具。若方向(例如，厚度方向)垂直于至少一個平面，則此實現(xiàn)多孔徑成像設(shè)備或包括多孔徑成像設(shè)備的系統(tǒng)的小的厚度。

根據(jù)另一實施例，多孔徑成像設(shè)備包括調(diào)焦工具，其包括用于調(diào)整多孔徑成像設(shè)備的焦點的至少一個致動器。調(diào)焦工具至少部分地布置于立方體的側(cè)面所跨越的兩個平面之間，立方體的側(cè)面彼此平行且還平行于陣列的線延伸方向以及在圖像傳感器與光束偏轉(zhuǎn)工具之間的光通道的光路的部分而對準(zhǔn)，且立方體的體積最小，但仍然包括圖像傳感器、陣列及光束偏轉(zhuǎn)工具。有益的是，通過將致動器布置于平面中，沿著垂直于平面的方向的建構(gòu)空間的消耗可較低。

根據(jù)另一實施例，光通道的陣列以單線形成。光通道的陣列的單線實施實現(xiàn)陣列和/或多孔徑成像設(shè)備沿著垂直于陣列的線延伸方向的方向的小的空間延伸，此可實現(xiàn)設(shè)備的進一步的減小的尺寸。

其他實施例涉及成像系統(tǒng)及用于提供多孔徑成像設(shè)備的方法。

其他的有益的實施例為從屬權(quán)利要求的主題。

附圖說明

下面將參照附圖論述本發(fā)明的優(yōu)選的實施例，其中：

圖1a為根據(jù)實施例的多孔徑成像設(shè)備的示意圖；

圖1b為根據(jù)實施例的多孔徑成像設(shè)備的示意圖，其中致動器被連接至圖像傳感器；

圖2a為根據(jù)實施例的另一個多孔徑成像設(shè)備的示意性截面?zhèn)纫晥D；

圖2b為圖2a的多孔徑成像設(shè)備的示意性截面?zhèn)纫晥D；

圖3為根據(jù)實施例的多孔徑成像設(shè)備的示意性俯視圖，其中光束偏轉(zhuǎn)工具包括不同的光束偏轉(zhuǎn)元件；

圖4為根據(jù)實施例的具有以單線方式布置的光通道的多孔徑成像設(shè)備的示意性透視圖；

圖5a為根據(jù)實施例的形成為刻面的陣列的光束偏轉(zhuǎn)工具的示意性表示；

圖5b為根據(jù)實施例的光束偏轉(zhuǎn)工具的示意圖，其中與圖5a中的表示相比，刻面包括互相不同的排序；

圖6為根據(jù)實施例的成像系統(tǒng)的示意性透視圖；

圖7為根據(jù)實施例的可(例如)使用本文中所描述的多孔徑成像設(shè)備檢測的總視場的示意性表示；

圖8為根據(jù)實施例的包括兩個多孔徑成像設(shè)備的便攜設(shè)備的示意性透視圖；以及

圖9展示包括具有公共圖像傳感器的第一多孔徑成像設(shè)備和第二多孔徑成像設(shè)備的示意性結(jié)構(gòu)。

具體實施方式

在隨后參照附圖論述本發(fā)明的實施例之前，應(yīng)理解的是，不同附圖中的相同或具有相同功能或相同效果的元件、對象和/或結(jié)構(gòu)具備相同的附圖標(biāo)記，使得在不同的實施例中表示的此類元件的描述可互相交換或適用。

圖1展示根據(jù)實施例的多孔徑成像設(shè)備10的示意圖。多孔徑成像設(shè)備10包括圖像傳感器12、光通道16a-h的陣列14、光束偏轉(zhuǎn)工具18及光學(xué)圖像穩(wěn)定器22。每個光通道16a-h包括用于將總視場的部分視場投影至圖像傳感器12的圖像傳感器區(qū)域24a-h的光學(xué)件。光通道可被理解為光路的路線。光路可包括布置于陣列14中的至少一個光學(xué)元件。單個光通道可各自形成完整的成像光學(xué)件，且包括至少一個光學(xué)組件或光學(xué)件(例如，折射式、衍射式或混合式透鏡)，且可投影使用多孔徑成像設(shè)備整體地捕捉的整個對象的區(qū)段。孔徑光闌可相對于光通道而布置。

例如，可由包括對應(yīng)像素陣列的芯片各自形成圖像傳感器區(qū)域24a-h，其中圖像傳感器區(qū)域可安裝于公共基體或公共電路載體(如公共板或公共撓曲板)上。當(dāng)然，可選地，也可能是由公共像素陣列的部分(其橫跨圖像傳感器區(qū)域24a-h而連續(xù)地延伸)各自形成圖像傳感器區(qū)域24a-h，公共像素陣列(例如)形成于單個芯片上。在此情況下，例如，僅讀出圖像傳感器區(qū)域24a-h中的公共像素陣列的像素值。當(dāng)然，所述替代物的不同的混合也是可能的，例如，存在用于兩個或更多個通道的一個芯片及此外用于不同通道的另一個芯片等。在圖像傳感器12的多個芯片的情況下，芯片可(例如)全部一起或以分組等方式安裝于(例如)一個或多個板或電路載體上。

光束偏轉(zhuǎn)工具18用于使光通道16a-h的光路26偏轉(zhuǎn)。圖像穩(wěn)定器22用于基于圖像傳感器12、陣列14和偏轉(zhuǎn)工具18之間的相對移動而實現(xiàn)沿著第一圖像軸線28及沿著第二圖像軸線32的光學(xué)圖像穩(wěn)定。第一圖像軸線28及第二圖像軸線32可受到圖像傳感器區(qū)域24a-h或圖像傳感器12的布置或?qū)?zhǔn)的影響。根據(jù)實施例，圖像軸線28及32彼此垂直地布置和/或與圖像傳感器區(qū)域24a至24d的像素的延伸方向相一致?？蛇x地或另外地，圖像軸線28及32可指示對部分視場或總視場進行取樣或檢測所沿著的定向。簡言之，圖像軸線28及32可分別為由多孔徑成像設(shè)備10檢測到的圖像中的第一和第二方向。圖像軸線28及32(例如)包括相對于彼此≠0°的角度，例如可彼此空間垂直地布置。

若在檢測操作(期間檢測到部分視場或總視場)期間，多孔徑成像設(shè)備10相對于視場被檢測到的對象區(qū)域而移動，則光學(xué)圖像穩(wěn)定可能是有益的。光學(xué)圖像穩(wěn)定器22可用于至少部分地抵消此移動，從而減少或防止圖像的模糊。為此，光學(xué)圖像穩(wěn)定器22可用于生成在圖像傳感器12與陣列14之間的平移相對移動34。為此，光學(xué)圖像穩(wěn)定器22可包括用于生成平移相對移動34的致動器36。盡管致動器36被表示為使得其以平移方式使陣列14移位或移動，但可選地或另外地，根據(jù)其他實施例的致動器36可被連接至圖像傳感器12且用于使圖像傳感器12相對于陣列14移動。可平行于線延伸方向35且垂直于光路26而執(zhí)行相對移動34。然而，有益的是，以平移方式開始陣列14相對于圖像傳感器12的運動，以便(例如)將小的機械負(fù)載或零機械負(fù)載施加至圖像傳感器12相對于其他組件的電連接。

光學(xué)圖像穩(wěn)定器22可用于生成或?qū)崿F(xiàn)光束偏轉(zhuǎn)工具18的旋轉(zhuǎn)移動38。為此，光學(xué)圖像穩(wěn)定器22可(例如)包括用于生成旋轉(zhuǎn)移動38的致動器42?；谄揭葡鄬σ苿?4，可平行于該移動(例如，沿著圖像軸線28或與其相反)而獲得沿著圖像方向的光學(xué)圖像穩(wěn)定。基于旋轉(zhuǎn)移動38，可獲得沿著圖像方向的光學(xué)圖像穩(wěn)定，圖像方向被布置為在圖像傳感器12的主要側(cè)平面中垂直于旋轉(zhuǎn)移動38的旋轉(zhuǎn)軸線44(例如沿著圖像軸線32)。主要側(cè)面可被理解為包括與其他側(cè)面相比很大或最大尺寸的側(cè)面。可選地或另外地，可布置調(diào)焦工具(例如，如結(jié)合圖3所描述)，其用于改變多孔徑成像設(shè)備的焦點。

簡言之，可使用旋轉(zhuǎn)移動38替代垂直于相對移動34的平移移動，從而獲得沿著第二圖像軸線32的光學(xué)圖像穩(wěn)定。此使得有可能減小用于實現(xiàn)垂直于相對移動34的平移相對移動所需的建構(gòu)空間。平移相對移動可(例如)垂直于設(shè)備的厚度方向而布置，使得設(shè)備可被實施為具有小厚度(即，薄的)。由于可移動設(shè)備可被實施為具有扁平殼體，此在可移動設(shè)備的領(lǐng)域中是尤其有益的。

陣列14可(例如)包括光通道16a-h穿過的載體47。例如，載體47可以以不透明的方式配置并且可包括用于光通道16a-h的透明區(qū)域。光通道16a-h的光學(xué)件可在透明區(qū)域內(nèi)或鄰近于透明區(qū)域布置和/或布置于其末端區(qū)域?？蛇x地或另外地，可透明地形成載體47，且(例如)載體47可包括聚合材料和/玻璃材料。在載體47的表面，可布置對總視場的各個部分視場在圖像傳感器的各個圖像傳感器區(qū)域24a-h上的投影造成影響的光學(xué)件(透鏡)。

例如，致動器36和/或42可形成為氣動致動器、液壓致動器、壓電致動器、直流馬達、步進器馬達、熱啟動致動器、靜電致動器、電致伸縮致動器、磁致伸縮致動器或音圈驅(qū)動器。

光束偏轉(zhuǎn)工具18可形成為在區(qū)域中是反射性的。光束偏轉(zhuǎn)工具18可(例如)包括用于使光路26偏轉(zhuǎn)的區(qū)域或光束偏轉(zhuǎn)元件46a至46d，以使得經(jīng)偏轉(zhuǎn)的光路包括互相不同的角度并對總視場的互相不同的部分視場進行檢測。可由光束偏轉(zhuǎn)工具18和/或光通道16a-h的光學(xué)件生成不同的角度。區(qū)域46a至46d可(例如)形成為刻面鏡(facetmirrior)的刻面(facet)。關(guān)于陣列14，刻面可包括互相不同的傾斜。此可實現(xiàn)光路26朝向彼此不同地布置的部分視場的偏轉(zhuǎn)、影響、控制和/或散射?？蛇x地，光束偏轉(zhuǎn)工具18可被配置為在一側(cè)或兩側(cè)上是反射性的表面，例如被配置為鏡面。該面可被形成為平坦的或在區(qū)段中連續(xù)地彎曲或平坦的和/或可形成為在區(qū)段中不連續(xù)地彎曲或平坦的。可選地或另外地，光路26的偏轉(zhuǎn)可借助于光通道16a-h的光學(xué)件而獲得。

換言之，鏡面(光束偏轉(zhuǎn)工具)可跨越所有通道的區(qū)域是平坦的，可包括連續(xù)或非連續(xù)輪廓，和/或可以是分片平坦的(即刻面化)，單個連續(xù)或非連續(xù)輪廓之間的過渡還包括用于減小反射性的局部屏蔽或機械結(jié)構(gòu)，以便減少像差或?qū)崿F(xiàn)結(jié)構(gòu)的加強，使得僅存在很少的運動誘發(fā)或熱誘發(fā)的像差。

可沿著旋轉(zhuǎn)軸線44以平移方式執(zhí)行光束偏轉(zhuǎn)工具的第一位置與第二位置之間的切換?？蛇B續(xù)地或不連續(xù)地(例如，以雙穩(wěn)或多穩(wěn)方式)執(zhí)行沿著旋轉(zhuǎn)軸線44的移動。此可被理解為(例如)位置-離散位置，光束偏轉(zhuǎn)工具18在此類位置之間移動。簡言之，通過將致動器42或另一致動器配置為步進器馬達可獲得(例如)穩(wěn)定、雙穩(wěn)或多穩(wěn)位置。若光束偏轉(zhuǎn)工具18(例如)被配置為在兩個位置之間來回地移動，則此類位置中的一個可為(例如)致動器的閑置位置或基于其的位置。致動器可(例如)用于執(zhí)行相對于彈簧力的平移移動，在到達各自另一位置時，彈簧力發(fā)揮反作用力，一旦致動器的力移除，反作用力使光束偏轉(zhuǎn)工具移動返回至其開始位置。此意味著也可在受力圖的不包括局部力最小值的區(qū)域中獲得穩(wěn)定位置。此可為(例如)力最大值?？蛇x地或另外地，可基于光束偏轉(zhuǎn)工具18與鄰近的殼體或基體之間的磁力或機械力而獲得穩(wěn)定位置。此意味可配置用于光束偏轉(zhuǎn)工具的平移移動的致動器42或另一致動器，以便使光束偏轉(zhuǎn)工具移動至雙穩(wěn)或多穩(wěn)位置?？蛇x地，可提供簡單的機械止動件以獲得界定兩個末端位置的位置的雙穩(wěn)布置，在兩個末端位置之間執(zhí)行所界定的末端位置中的位置切換。

圖1b展示根據(jù)一個實施例的多孔徑成像設(shè)備10'的示意圖。多孔徑成像設(shè)備10'相對于多孔徑成像設(shè)備10的修改之處在于，致動器36被機械地連接至圖像傳感器12且用于使圖像傳感器12相對于陣列14移動?？善叫杏诰€延伸方向35且垂直于光路26而執(zhí)行相對移動34。

圖2a展示根據(jù)實施例的多孔徑成像設(shè)備20的示意性截面?zhèn)纫晥D。多孔徑成像設(shè)備20可(例如)修改多孔徑成像設(shè)備10，以使得致動器36和/或42被布置為至少部分地布置于立方體55的側(cè)面53a及53b所跨越的兩個平面52a及52b之間。立方體55的側(cè)面53a及53b可彼此平行且還平行于陣列的線延伸方向以及在圖像傳感器與光束偏轉(zhuǎn)工具之間的光通道的光路的部分。立方體55的體積最小，但仍然包括圖像傳感器12、陣列14及光束偏轉(zhuǎn)工具18，以及由操作導(dǎo)致的前述裝置的移動。陣列14的光通道包括可針對每個光通道相同或互相不同地形成的光學(xué)件17。

多孔徑成像設(shè)備的體積可包括平面52a與52b之間的小的或最小的建構(gòu)空間。沿著平面52a和/或52b的橫向側(cè)面或延伸方向，多孔徑成像設(shè)備的建構(gòu)空間可能很大或具有任意尺寸。虛擬立方體的體積(例如)受到圖像傳感器12、單線陣列14及光束偏轉(zhuǎn)工具的布置的影響，根據(jù)本文中所描述的實施例的此等組件的布置使得沿著垂直于平面的方向的此等組件的建構(gòu)空間以及因此的平面52a及52b至彼此的距離變小或變?yōu)樽钚　ｊP(guān)于組件的其他布置，可擴大虛擬立方體的體積和/或其他側(cè)面的距離。

虛擬立方體55由虛線表示。平面52a及52b可包括虛擬立方體55的兩個側(cè)面或可由此類側(cè)面跨越。可正交于平面52a和/或52b和/或平行于y方向而布置多孔徑成像設(shè)備20的厚度方向57。

可布置圖像傳感器12、陣列14及光束偏轉(zhuǎn)工具18，以使得平面52a與平面52b之間的沿著厚度方向57的垂直距離(簡化但不限制，其被稱為立方體的高度)最小，其中可省略體積(即，立方體的其他尺寸)的最小化。立方體55的沿著方向57的延伸可為最小的且實質(zhì)上由成像通道的光學(xué)組件(即，陣列14、圖像傳感器12及光束偏轉(zhuǎn)工具18)的沿著方向57的延伸所指示。

多孔徑成像設(shè)備的體積可包括平面52a與平面52b之間的小的或最小的建構(gòu)空間。沿著平面52a和/或52b的橫向側(cè)面或延伸方向，多孔徑成像設(shè)備的建構(gòu)空間可能很大或具有任意尺寸。虛擬立方體的體積(例如)受到圖像傳感器12、單線陣列14及光束偏轉(zhuǎn)工具的布置的影響，可執(zhí)行根據(jù)本文中所描述的實施例的此等組件的布置，以使得沿著垂直于平面的方向的此等組件的建構(gòu)空間以及因此的平面52a及52b至彼此的距離變小或變?yōu)樽钚?。關(guān)于組件的其他布置，可擴大虛擬立方體的體積和/或其他側(cè)面的距離。

多孔徑成像設(shè)備的致動器(例如，致動器36和/或42)可包括平行于方向57的尺寸或延伸?；谄矫?2a與平面52b之間的區(qū)域，該致動器或該等致動器的尺寸的最多50％、最多30％或最多10％的百分比可突出超出平面52a和/或52b或從該區(qū)域突出。此意味著致動器僅非必要地突出超出平面52a和/或52b。根據(jù)實施例，致動器不突出超出平面52a及52b。這是有益的，因為致動器并不擴大多孔徑成像設(shè)備10的沿著厚度方向或方向57的延伸。

圖像穩(wěn)定器22及致動器36和/或42可包括平行于厚度方向57的尺寸或延伸?；谄矫?2a與平面52b之間的區(qū)域，尺寸的最多50％、最多30％或最多10％的百分比可突出超出平面52a和/或52b或從該區(qū)域突出，如(例如)針對指示致動器42的偏移布置的致動器42'所表示。此意味致動器36和/或42僅非必要地突出超出平面52a和/或52b。根據(jù)實施例，致動器36和/或42并不突出超出平面52a及52b。這是有益的，因為致動器36或42并不擴大多孔徑成像設(shè)備20的沿著厚度方向57的延伸。

盡管本文所使用的術(shù)語如“頂部”、“向下”、“左”、“右”、“在……前面”或“在……后面”被用于更好的說明，但該等術(shù)語無論如何不應(yīng)具有限制性效應(yīng)。應(yīng)理解的是，基于空間中的旋轉(zhuǎn)或傾斜，此等術(shù)語可互相替代。朝向光束偏轉(zhuǎn)工具18的從圖像傳感器12開始的x方向可(例如)被理解為在前或向前。正y方向可(例如)被理解為在頂部。沿著正或負(fù)z方向從圖像傳感器12、陣列14和/或光束偏轉(zhuǎn)工具18向外(offside)或隔開的區(qū)域可被理解為在各個組件的旁邊。簡言之，圖像穩(wěn)定器可包括至少一個致動器36和/或42。至少一個致動器36和/或42可布置于平面48中或布置于平面52a與平面52b之間。

換言之，致動器36和/或42可布置在圖像傳感器12、陣列14和/或光束偏轉(zhuǎn)工具18的前面、后面或旁邊。根據(jù)實施例，致動器36及42被布置為以50％、30％或10％的最大范圍在平面52a與平面52b之間的區(qū)域外。此意味著，至少一個致動器36和/或圖像穩(wěn)定器22沿著垂直于平面48的厚度方向57而從在最大尺寸52a至52b之間的平面或區(qū)域突出圖像穩(wěn)定器的致動器36或42的沿著厚度方向57的尺寸的最多50％。此實現(xiàn)多孔徑成像設(shè)備20沿著厚度方向57的小的尺寸。

圖2b展示多孔徑成像設(shè)備20的示意性截面?zhèn)纫晥D，光路26及26'指示多孔徑成像設(shè)備20的不同的視向。多孔徑成像設(shè)備可用于使光束偏轉(zhuǎn)工具的傾斜改變角度α，以使得光束偏轉(zhuǎn)工具18的交替不同的主要側(cè)面被布置為面向陣列14。多孔徑成像設(shè)備20可包括用于使光束偏轉(zhuǎn)工具18依據(jù)旋轉(zhuǎn)軸線44傾斜的致動器。例如，致動器可用于使光束偏轉(zhuǎn)工具18移動至第一位置，在第一位置中，光束偏轉(zhuǎn)工具18使陣列14的光通道的光路26在正y方向上偏轉(zhuǎn)。為此，在第一位置中，光束偏轉(zhuǎn)工具18可包括(例如)>0°且<90°、至少10°且至多80°，或至少30°且至多50°(例如，45°)的角度α。致動器可用于使光束偏轉(zhuǎn)工具圍繞旋轉(zhuǎn)軸線44在第二位置中移位，以使得光束偏轉(zhuǎn)工具18使陣列14的光通道的光路朝向負(fù)y方向偏轉(zhuǎn)，如光路26'及光束偏轉(zhuǎn)工具18的虛線表示所表示。例如，光束偏轉(zhuǎn)工具18可被配置為在兩側(cè)面上是反射性的，使得第一光路26或26'在第一位置被偏轉(zhuǎn)或反射。

圖3展示根據(jù)實施例的多孔徑成像設(shè)備30的示意性俯視圖。多孔徑成像設(shè)備30可相對于多孔徑成像設(shè)備10和/或20進行修改，以使得多孔徑成像設(shè)備30包括用于改變多孔徑成像設(shè)備30的焦點的調(diào)焦工具54。此可基于圖像傳感器12與陣列14之間的可變距離56來執(zhí)行，如距離56'所表示。

調(diào)焦工具54可包括用于在致動期間進行變形和/或提供在圖像傳感器12與陣列14之間的相對移動的致動器58。此針對多孔徑成像設(shè)備30以如下方式示例性地表示：致動器58用于使陣列14沿著正和/或負(fù)x方向相對于圖像傳感器12移位。例如，可將陣列14定位于一側(cè)，以使得陣列基于致動器58的致動而沿著正或負(fù)x方向移動且沿著正和/或負(fù)z方向保持實質(zhì)上不移動?？?例如)基于致動器36的致動而獲得用于光學(xué)圖像穩(wěn)定的沿著正和/或負(fù)z方向的額外的移動。根據(jù)其他實施例，致動器58或調(diào)焦工具54用于基于圖像傳感器12相對于陣列14的平移移位而獲得在圖像傳感器12與陣列14之間的沿著x軸的相對移動。根據(jù)其他實施例，圖像傳感器12及陣列14可被移動。根據(jù)其他實施例，調(diào)焦工具54可包括至少一個其他致動器。第一致動器及第二致動器可(例如)布置于陣列14的兩個相對區(qū)域處，從而在致動器的致動期間降低對移動的陣列14(可選地或另外地，圖像傳感器12)的定位的要求。另外，致動器58或另一致動器可用于將單線陣列14與光束偏轉(zhuǎn)工具18之間的距離保持為大體上恒定或完全恒定，即使當(dāng)不使用額外的致動器時，即，以如單線陣列14一樣的程度移動光束偏轉(zhuǎn)工具18。調(diào)焦工具54可用于通過在圖像傳感器12與陣列14之間的沿著圖像傳感器12的表面的法線的相對平移移動(調(diào)焦移動)來實現(xiàn)自動對焦功能。此處，可通過致動器42或另一致動器的對應(yīng)的建構(gòu)性配置或使用而與調(diào)焦移動同時地移動光束偏轉(zhuǎn)工具18。此意味著，陣列14與光束偏轉(zhuǎn)工具之間的距離保持不變和/或與調(diào)焦移動同時地移動光束偏轉(zhuǎn)工具18或以一時間偏移以如調(diào)焦移動相同或類似程度移動光束偏轉(zhuǎn)工具18，從而與焦點變化之前的距離相比，該距離至少在由多孔徑成像設(shè)備捕捉視場的時刻無變化?？蓪Υ诉M行執(zhí)行以使得光束偏轉(zhuǎn)工具18與致動器42一起(即同時)移動，使得陣列14與光束偏轉(zhuǎn)工具之間的距離保持恒定或被補償。此意味著，陣列14與光束偏轉(zhuǎn)工具18之間的距離可保持不變和/或可與調(diào)焦移動同時地或以一時間延遲在如調(diào)焦移動相同或類似程度上移動光束偏轉(zhuǎn)工具18，從而陣列14與光束偏轉(zhuǎn)工具18之間的距離至少在由多孔徑成像設(shè)備捕捉視場的時刻與焦點變化之前的距離相比無變化?？蛇x地，光束偏轉(zhuǎn)工具18可處于閑置狀態(tài)中或被排除在自動對焦移動之外。

例如，致動器58可形成為壓電致動器，如彎曲梁(如，雙壓電芯片、三壓電芯片等)?？蛇x地或另外地，調(diào)焦工具54可包括音圈驅(qū)動器、氣動致動器、液壓致動器、直流馬達、步進器馬達、熱啟動致動器或彎曲梁、靜電致動器、電致伸縮和/或磁致伸縮驅(qū)動器。

如在圖像穩(wěn)定器及其在平面48中或在平面52a與平面52b之間的區(qū)域中的布置的上下文中所描述，調(diào)焦工具54的至少一個致動器58可至少部分地布置于平面52a與平面52b之間?？蛇x或另外地，至少一個致動器58可布置于圖像傳感器12、陣列14及光束偏轉(zhuǎn)工具18所布置的平面中。示例性地，調(diào)焦工具54的致動器58可沿著垂直于平面48(其中布置了圖像傳感器12、陣列14及光束偏轉(zhuǎn)工具18)的厚度方向57，從平面52a與平面52b之間的區(qū)域突出調(diào)焦工具54的致動器58沿著厚度方向57的尺寸的最多50％。根據(jù)實施例，致動器從平面52a與平面52b之間的區(qū)域突出最多30％。根據(jù)另一實施例，致動器55從該區(qū)域突出最多10％或完全位于該區(qū)域內(nèi)。此意味著，沿著厚度方向57，不需要用于調(diào)焦工具54的額外的建構(gòu)空間，此為優(yōu)點。若(例如)陣列14包括其上布置有透鏡64a至64d的透明基體(載體)62，則陣列14以及(若必要)多孔徑成像設(shè)備30沿著厚度方向57的尺寸可為小的或最小的。參照圖2a，此可意味著，立方體55包括沿著方向57的小的厚度，或該厚度不受基體62的影響?？捎捎糜谠趩蝹€光通道中投影的光路穿過基體62。多孔徑成像設(shè)備的光通道可穿過在光束偏轉(zhuǎn)工具18與圖像傳感器12之間的基體62。

例如，透鏡64a至64d可為液體透鏡，即致動器可用于控制透鏡64a至64d。液體透鏡可用于分別地逐通道地調(diào)整及改變折射能力以及因此調(diào)整及改變焦距及圖像位置。

圖4展示根據(jù)實施例的多孔徑成像設(shè)備40的示意性透視圖。與多孔徑成像設(shè)備10相比，(例如)以單線配置陣列14，即可以以單線沿著陣列14的線延伸方向布置所有光通道16a至16d。因此，術(shù)語“單線”可指示不存在其他線。陣列14的單線配置實現(xiàn)陣列的較小尺寸以及最終實現(xiàn)多孔徑成像設(shè)備40沿著厚度方向57的較小尺寸。

多孔徑成像設(shè)備40可用于基于光束偏轉(zhuǎn)工具18而在互相不同的方向上檢測視場。例如，光束偏轉(zhuǎn)工具可包括第一位置或pos1位置及第二位置或pos2位置。光束偏轉(zhuǎn)工具可基于平移或旋轉(zhuǎn)移動而在第一位置pos1與第二位置pos2之間切換。例如，光束偏轉(zhuǎn)工具18可以是沿著單線陣列14的線延伸方向z以平移方式(如平移移動66所指示)可移動的。例如，平移移動66可大體上平行于線延伸方向65而布置，陣列14的至少一條線是沿著該線延伸方向布置的。例如，平移移動可用于將不同的刻面放置于光通道16的光學(xué)件的前面，以便獲得多孔徑成像設(shè)備40的不同的視向。光束偏轉(zhuǎn)工具18可用于在第一位置pos1中在第一方向上(例如，至少部分地在正y方向上)引導(dǎo)光路26a至26d。光束偏轉(zhuǎn)工具18可用于在第二位置pos2中在不同于第一方向的方向上(例如，至少部分地在負(fù)y方向上)引導(dǎo)(即每個光通道的)光路26a至26d。例如，致動器42可用于基于光束偏轉(zhuǎn)工具18沿著移動方向66的移動而使光束偏轉(zhuǎn)工具18從第一位置pos1移動至第二位置pos2。致動器42可用于將沿著移動方向66的平移移動與旋轉(zhuǎn)移動38相疊加?？蛇x地，多孔徑成像設(shè)備40可包括用于使光束偏轉(zhuǎn)工具沿著移動66方向或與其相反的方向移動的另一致動器。

如在圖2b的上下文中所描述，致動器42可用于基于光束偏轉(zhuǎn)工具18的旋轉(zhuǎn)而獲得光束偏轉(zhuǎn)工具的第一及第二位置。對于用于位置之間的切換的旋轉(zhuǎn)移動及沿著方向66的平移移動，第一位置pos1與第二位置pos2之間的移動可與旋轉(zhuǎn)移動38相疊加。

圖5a展示形成為刻面46a至46h的陣列的光束偏轉(zhuǎn)工具18的示意圖。若(例如)光束偏轉(zhuǎn)工具18被定位于第一位置中，則分別用數(shù)字1、2、3及4標(biāo)識的刻面46a至46d可使四個光通道的光路在第一方向上偏轉(zhuǎn)。若光束偏轉(zhuǎn)工具18處于第二位置中，則基于刻面46e至46h(如分別通過數(shù)字1'、2'、3'及4'標(biāo)識)，每個光通道的光路可在第二方向上偏轉(zhuǎn)。例如，刻面46a至46d及46e至46h可被稱為按區(qū)塊布置。針對光束偏轉(zhuǎn)工具18的沿著平移方向66的平移移動，可行進大體上對應(yīng)于沿著線延伸方向65的多個光通道的延伸長度的距離88。例如，根據(jù)圖4的實施例，此距離為四個光通道沿著線延伸方向65的延伸。根據(jù)另一實施例，光束偏轉(zhuǎn)元件的數(shù)目可不同于光通道的倍數(shù)?？稍诠馐D(zhuǎn)工具的位置中配置或布置至少一個光束偏轉(zhuǎn)元件，從而使至少兩個光通道的光路偏轉(zhuǎn)。

圖5b展示光束偏轉(zhuǎn)工具18的示意圖，其中與圖5a中的表示相比，刻面46a-g包括互相不同的排序。圖5b中所表示的光束偏轉(zhuǎn)工具包括針對每個光通道的光通道46a-g的可替換的布置，如序列1、1'、2、2'、3、3'、4及4'所表示。此布置實現(xiàn)距離88'，光束偏轉(zhuǎn)工具18沿該距離被移動以便在第一位置與第二位置之間進行切換。與圖5a的距離88相比，距離88'可較小。例如，距離88'可大體上對應(yīng)于陣列14的兩個鄰近光通道之間的距離。例如，兩個光通道在彼此之間可包括大體上對應(yīng)于刻面沿著移動方向65的至少一個尺寸的距離或空間。例如，當(dāng)將光束偏轉(zhuǎn)元件配置或布置于光束偏轉(zhuǎn)工具的位置中以便使至少兩個光通道的光路偏轉(zhuǎn)時，距離88'還可不同于兩個鄰近光通道之間的距離。

圖6展示根據(jù)實施例的成像系統(tǒng)60的示意性透視圖。成像系統(tǒng)60包括多孔徑成像設(shè)備10。根據(jù)其他實施例，作為多孔徑成像設(shè)備10的替代或補充，成像系統(tǒng)60包括至少一個多孔徑成像設(shè)備20、30和/或40。成像設(shè)備60包括扁平殼體92。扁平殼體92包括沿著第一殼體方向a的第一延伸94a。扁平殼體92還包括沿著第二殼體方向b的第二延伸94b，以及沿著第三殼體方向c的第三延伸94c。例如，殼體方向a在空間中可平行于厚度方向57而布置。扁平殼體92的沿著殼體方向a的延伸94a可被理解為扁平殼體92的最小尺寸。與最小延伸相比，沿著其他殼體方向b或c的其他延伸94b和/或94c的值與沿著殼體方向a的延伸94a相比可以是至少三倍、至少五倍或至少七倍。簡言之，與沿著其他殼體方向b或c的其他延伸94b及94c相比，延伸94a可較小、大體上較小或必要時比其小一個尺寸。

扁平殼體92可包括一個或多個隔膜96a至96b，通過一個或多個隔膜，光路26和/或26'可(例如)基于多孔徑成像設(shè)備10的光束偏轉(zhuǎn)光束而被偏轉(zhuǎn)。隔膜可以是(例如)電致變色隔膜和/或被布置于顯示器的區(qū)域中。

成像系統(tǒng)60可被配置為便攜設(shè)備。例如，成像系統(tǒng)60可為便攜通訊設(shè)備，如移動電話或所謂的智能電話、平板電腦或便攜式音樂播放設(shè)備。成像系統(tǒng)60可被實施為監(jiān)視器(例如)以用于導(dǎo)航、多媒體或電視系統(tǒng)中。可選地或另外地，成像設(shè)備60還可被布置在如鏡面的反射表面的后面。

在移動通信設(shè)備的領(lǐng)域中，多孔徑成像設(shè)備10、10'、20、30和/或40的布置可以是有益的，這是由于基于沿著長的殼體側(cè)面94b和/或94c的部件的布置的多孔徑成像設(shè)備沿著殼體方向94a的延伸可以是小的，從而成像系統(tǒng)60可具有小的延伸94a。換言之，可由視向的一維改變及旋轉(zhuǎn)移動來替換圖像傳感器及物鏡的相對二維橫向移動(其在現(xiàn)有系統(tǒng)中影響視場的角度的二維改變(對應(yīng)于掃描))。可通過改變鏡面(光束偏轉(zhuǎn)工具)相對于成像通道的光軸線(線延伸方向)的對準(zhǔn)、通過使旋轉(zhuǎn)定位的鏡面到達另一定向來執(zhí)行視向的一維改變，鏡面的旋轉(zhuǎn)軸線垂直于或幾乎垂直于成像通道的光軸線。為了調(diào)整垂直于上述方向的視向，圖像傳感器和/或陣列物鏡(光通道的陣列)可彼此橫向地移動。通過兩種移動的相互作用，可達成二維光學(xué)圖像穩(wěn)定。

為了實現(xiàn)小的建構(gòu)高度，用于實現(xiàn)移動而布置的組件(例如，致動器)及子系統(tǒng)(如圖像處理)可在必要時排他性地布置在通過成像光路(即在平面52a與平面52b之間)界定的空間的旁邊、前面和/或后面，且根據(jù)實施例不布置在空間的上面或下面。此實現(xiàn)用于光學(xué)圖像穩(wěn)定的執(zhí)行單元(致動器)的空間分離。進行此分離，可達成所需組件的數(shù)目的減少，相機系統(tǒng)的制造成本可較低，且可達成與現(xiàn)有結(jié)構(gòu)相比的建構(gòu)高度的明顯的減小。參照圖2a，與已知系統(tǒng)的差異在于光通道的透鏡(光學(xué)件)可大體上界定平面52a與平面52b的距離。此實現(xiàn)裝置的小的建構(gòu)高度，這是有益的。在現(xiàn)有系統(tǒng)中，透鏡的主平面平行于平面52a及52b，而陣列的光學(xué)件的主平面正交于平面52a及52b布置。

圖7展示可(例如)使用本文中所描述的多孔徑成像設(shè)備檢測的總視場70的示意性表示?？蓪⒍嗫讖匠上裨O(shè)備的光通道的光路引導(dǎo)至互相不同的部分視場72a至72d，其中每個光通道可關(guān)聯(lián)至部分視場72a至72d。例如，部分視場72a至72d彼此重疊，以便實現(xiàn)將單個部分圖像結(jié)合至整個圖像。若多孔徑成像設(shè)備包括除四個以外的個數(shù)的光通道，則總視場70可包括除四個以外的個數(shù)的部分視場?？蛇x地或另外地，可由更多數(shù)目的模塊(多孔徑成像設(shè)備)的第二或更高數(shù)目的光通道檢測至少部分視場72a至72d，以便建立立體、三重(trio)、四重(quattro)相機以利用這些相機捕捉三維對象數(shù)據(jù)?？蓡为毜嘏渲盟瞿K或?qū)⑵渑渲脼橄喔上到y(tǒng)，且可將其布置于殼體92內(nèi)的任何位置處。一起形成立體、三重或四重相機的不同模塊的圖像可通過像素的片段而偏移且用于實施超分辨率的方法。例如，光通道的數(shù)目和/或多孔徑成像設(shè)備的數(shù)目和/或部分視場的數(shù)目是任意的，且可包括至少兩個、至少三個、至少四個、至少十個、至少20個或甚至更高值的數(shù)目。其他線的光通道也可捕捉彼此重疊的部分區(qū)域且一起覆蓋總視場。此實現(xiàn)陣列相機的立體、三重、四重等結(jié)構(gòu)，陣列相機由在其子群組內(nèi)部分重疊且覆蓋總視場的通道構(gòu)成。

圖8展示設(shè)備80的示意性透視圖，該設(shè)備包括殼體72及布置于殼體72內(nèi)的第一多孔徑成像設(shè)備10a及第二多孔徑成像設(shè)備10b。設(shè)備80用于使用多孔徑成像設(shè)備立體地檢測總視場70。例如，總視場70被布置于殼體的遠(yuǎn)離主要側(cè)面74a的主要側(cè)面74b處。例如，多孔徑成像設(shè)備10a及10b可分別通過透明區(qū)域68a及68c來檢測總視場70，其中布置于主要側(cè)面74b內(nèi)的隔膜78a及78c是至少部分透明的。布置于主要側(cè)面74a內(nèi)的隔膜78b及78d可至少部分地光學(xué)封鎖透明區(qū)域68b和/或68d，從而至少減小來自面對主要側(cè)面74a的一側(cè)的雜光(其可扭曲由多孔徑成像設(shè)備10a和/或10b捕捉的圖像)的范圍。盡管多孔徑成像設(shè)備10a及10b在空間中彼此以一定距離而空間地布置，但也可在空間上鄰近或組合地布置多孔徑成像設(shè)備10a及10b。例如，成像設(shè)備10a及10b的單線陣列可彼此相鄰或彼此平行地布置。單線陣列可對彼此形成線，每個多孔徑成像設(shè)備10a及10b包括單線陣列。成像設(shè)備10a及10b可包括公共光束偏轉(zhuǎn)工具，和/或公共載體62，和/或公共圖像傳感器12。作為多孔徑成像設(shè)備10a和/或10b的替代或補充，可布置多孔徑成像設(shè)備10、10'、20、30或40。

透明區(qū)域68a至68d可另外配備有在不使用情況下覆蓋光學(xué)結(jié)構(gòu)的可切換隔膜78a至78d。隔膜78a至78d可包括以機械方式移動的部件?？墒褂弥聞悠鱽韴?zhí)行機械移動的部件的移動，例如，如針對致動器36及45所述?？蛇x地或另外地，隔膜78a至78d可以是電性可控的并包括電致變色層或電致變色層序列，即形成為電致變色隔膜。

圖9展示包括第一多孔徑成像設(shè)備10a及第二多孔徑成像設(shè)備10b的示意性結(jié)構(gòu)，其可(例如)布置于成像系統(tǒng)80內(nèi)。陣列14a及14b以單線形成且形成公共線。圖像傳感器12a及12b可安裝于公共基體上或安裝于公共電路載體(如公共板或公共撓曲板)上?？蛇x地，圖像傳感器12a及12b可包括互相不同的基體。當(dāng)然，所述替代物的不同混合也是可能的，如包括公共圖像傳感器、公共陣列和/或公共光束偏轉(zhuǎn)工具18的多孔徑成像設(shè)備，以及包括單獨的組件的其他多孔徑成像設(shè)備。由于可通過控制少數(shù)致動器來獲得任何組件的高精度移動，公共圖像傳感器、公共陣列和/或公共光束偏轉(zhuǎn)工具是有益的，且可減少或避免致動器之間的同步。此外，可達成較高的熱穩(wěn)定性?？蛇x地或另外地，其他和/或互相不同的多孔徑成像設(shè)備10、10'、20、30和/或40還可包括公共陣列、公共圖像傳感器和/或公共光束偏轉(zhuǎn)工具。

本文中所描述的實施例實現(xiàn)具有線性通道布置(即具有沿著線延伸方向的一條或多條線)，并且具有使用圖像傳感器與成像光學(xué)件之間的單軸平移移動以及光束偏轉(zhuǎn)鏡陣列的單軸旋轉(zhuǎn)移動的光學(xué)圖像穩(wěn)定的多孔徑成像系統(tǒng)。

盡管在先描述的實施例被描述為布置了數(shù)目為四或其倍數(shù)的光通道，但根據(jù)其他實施例的多孔徑成像設(shè)備可包括任意數(shù)目的光通道，例如，可布置至少兩個、至少三個、至少四個、至少十個或更多個光通道。

盡管在先描述的實施例被描述為光學(xué)圖像穩(wěn)定器22包括致動器36及致動器42，但根據(jù)其他實施例，致動器36及42還可形成為公共致動器。例如，可借助于電力和/或移位轉(zhuǎn)譯器(傳輸)將致動器產(chǎn)生的移動引導(dǎo)至圖像傳感器12、光學(xué)陣列14和/或光束偏轉(zhuǎn)工具18，從而獲得各個移動?？蛇x地或另外地，也可由多個致動器來移動一個或多個組件，例如，如在多孔徑成像設(shè)備40的上下文中所述。

例如，圖像傳感器可形成為互補金屬氧化物半導(dǎo)體(cmos)或與其不同的技術(shù)。各個陣列的光通道可被理解為，其界定其中引導(dǎo)至各個圖像傳感器區(qū)域的光路在光學(xué)上被改變的區(qū)域。因此，與圖像傳感器區(qū)域關(guān)聯(lián)的光路可穿過陣列的光通道。

在先已參考如下事實：從光束偏轉(zhuǎn)工具開始，可在互相不同的方向上引導(dǎo)光路或光軸線。此可通過在光束偏轉(zhuǎn)工具的偏轉(zhuǎn)期間引導(dǎo)光路和/或通過光學(xué)件來獲得，以便使其不再彼此平行。光路或光軸線可不同于光束偏轉(zhuǎn)之前或無光束偏轉(zhuǎn)時的平行。隨后通過聲稱通道可具備某種預(yù)先發(fā)散對此情況進行描述。利用光軸線的此預(yù)先發(fā)散，有可能(例如)并非所有刻面傾斜不同于光束偏轉(zhuǎn)工具的刻面，而是通道的某些群組(例如)具有帶有相同傾斜或被偏轉(zhuǎn)至相同傾斜的刻面。然后，后者可整體地或連續(xù)地彼此合并而形成，即形成為與線延伸方向上鄰近的通道的此群組關(guān)聯(lián)的刻面。然后，所述通道的光軸線的發(fā)散可源自如通過光通道的光學(xué)件的光學(xué)中心與通道的圖像傳感器區(qū)域之間的橫向偏移獲得的所述光軸線的發(fā)散。例如，預(yù)先發(fā)散可被限于一個平面。例如，光軸線在光束偏轉(zhuǎn)之前或無光束偏轉(zhuǎn)時可位于公共平面中，然而仍在公共平面內(nèi)發(fā)散，且刻面僅影響另一橫向平面內(nèi)的額外的發(fā)散，即僅不同于光軸線的在先提及公共平面，所有刻面平行于線延伸方向且平行于彼此而傾斜，其中此處多個刻面可具有相同傾斜或可共同關(guān)聯(lián)至通道的群組，這些通道的光軸線(例如)可能已經(jīng)在光束偏轉(zhuǎn)之前或無光束偏轉(zhuǎn)時的成對光軸線的在先提及公共平面的方面有所不同。簡言之，光學(xué)件可實現(xiàn)光路沿著第一(圖像)方向的(預(yù)先)發(fā)散，且光束偏轉(zhuǎn)工具可實現(xiàn)光路沿著第二(圖像)方向的發(fā)散。

可例如通過使光學(xué)件的光學(xué)中心位于沿著線延伸方向的直線上而獲得可能存在的所提及的預(yù)先發(fā)散，而以如下方式布置圖像傳感器區(qū)域的中心：與光學(xué)中心沿著圖像傳感器區(qū)域的平面的法線至圖像傳感器平面中的直線上的點的投影偏離，例如在沿著線延伸方向和/或沿著垂直于線延伸方向和圖像傳感器法線的方向以通道特定方式與圖像傳感器平面中的在先提及的直線上的點偏離的點處?？蛇x地，可例如通過使圖像傳感器的中心位于沿著線延伸方向的直線上而獲得預(yù)先發(fā)散，而光學(xué)件的中心被布置為與圖像傳感器的光學(xué)中心沿著光學(xué)件的光學(xué)中心的平面的法線至光學(xué)中心的平面中的直線上的點的投影偏離，例如在沿著線延伸方向和/或沿著垂直于線延伸方向及光學(xué)中心的平面的法線的方向以通道特定方式與光學(xué)中心的平面中的在先提及的直線上的點偏離的點處。優(yōu)選地，在先提及的從各個投影的通道特定偏離僅位于線延伸方向上，即僅位于僅一個公共平面中的光軸線具備預(yù)先發(fā)散。光學(xué)中心及圖像傳感器區(qū)域中心位于直線上，該直線平行于線延伸方向，但在其間具有不同的距離。相比之下，透鏡與圖像傳感器之間的在線延伸方向的垂直橫向方向上的橫向偏移導(dǎo)致建構(gòu)高度的擴大。線延伸方向上的僅面內(nèi)偏移不會改變建構(gòu)高度，但可導(dǎo)致更少刻面和/或僅在角度定向上包括傾斜的刻面，這會簡化結(jié)構(gòu)。例如，彼此鄰近的光通道可包括位于公共平面內(nèi)、彼此偏斜(即具備預(yù)先發(fā)散)的光軸線?？上鄬τ诠馔ǖ赖娜航M布置刻面，其僅在一個方向上傾斜，且平行于線延伸方向。

另外，可假設(shè)一些光通道與相同的部分視場關(guān)聯(lián)，例如出于超分辨率的目的或為了增大分辨率，其中所述通道使用該分辨率對各個部分視場進行取樣。此群組內(nèi)的光通道可在光束偏轉(zhuǎn)之前平行地延續(xù)且通過刻面偏轉(zhuǎn)至部分視場。若群組的通道的圖像傳感器的像素圖像將位于此群組的另一通道的圖像傳感器的像素的圖像之間的中間位置中，將是有益的。

即使不出于超分辨率的目的而僅出于立體目的，可以想到以下配置：其中線延伸方向上的緊鄰?fù)ǖ赖娜航M以其部分視場完全覆蓋總視場，且互相緊鄰的通道的另一群組也完全覆蓋總視場。

還可以以多孔徑成像設(shè)備和/或包括此多孔徑成像設(shè)備、具有單線通道布置的成像系統(tǒng)的形式實施以上實施例，其中每個通道傳送總視場的部分視場，且部分視場部分重疊。具有用于3d圖像檢測的立體、三重、四重等結(jié)構(gòu)的多個此等多孔徑成像設(shè)備的結(jié)構(gòu)是可能的。多個模塊可形成為一條連續(xù)線。連續(xù)線可使用相同的致動器及公共光束偏轉(zhuǎn)元件?？纱嬖谟诠饴分械囊粋€或多個補強基體可跨過形成立體、三重、四重結(jié)構(gòu)的整條線路而延伸?？墒褂贸直媛实姆椒ǎ渲卸鄠€通道投影相同的部分圖像區(qū)域。即使沒有光束偏轉(zhuǎn)裝置，光軸線也可是發(fā)散的，從而光束偏轉(zhuǎn)單元上需要更少的刻面。有利地，刻面因而僅具有一個角度組件。圖像傳感器可為整體的，具有僅一個相干像素矩陣或多個不連續(xù)的像素矩陣。圖像傳感器可由(例如)彼此緊接地布置于印刷電路板上的多個子傳感器組成。可配置自動對焦驅(qū)動器以使得光束偏轉(zhuǎn)元件與光學(xué)件同步地移動或使光束偏轉(zhuǎn)元件閑置。

即使已在裝置的上下文中描述一些方面，但應(yīng)理解，所述方面還表示對應(yīng)方法的描述，使得裝置的模塊或結(jié)構(gòu)組件也可被理解為對應(yīng)方法步驟或方法步驟的特征。類似地，在上下文中已描述的或描述為方法步驟的方面還表示對應(yīng)裝置的對應(yīng)區(qū)塊或特征的細(xì)節(jié)的描述。

上述實施例僅表示本發(fā)明的原理的說明。應(yīng)理解，本領(lǐng)域的其他技術(shù)人員將了解本文中所描述的配置及細(xì)節(jié)的修改和變形。這也是希望僅由權(quán)利要求的范圍限制而不借助于本文說明書和對實施例的論述而呈現(xiàn)的特定細(xì)節(jié)限制本發(fā)明的原因。