本實(shí)用新型涉及天線(xiàn)測(cè)試系統(tǒng),更具體地說(shuō),它涉及一種天線(xiàn)綜合測(cè)試系統(tǒng)。
背景技術(shù):
移動(dòng)通信的迅猛發(fā)展推動(dòng)了天線(xiàn)的研發(fā)工作,國(guó)內(nèi)出現(xiàn)了一些年產(chǎn)天線(xiàn)達(dá)到幾百萬(wàn)臺(tái)、品種達(dá)到數(shù)百種之多的企業(yè),這些企業(yè)的產(chǎn)品涵蓋了消費(fèi)類(lèi)電子產(chǎn)品使用的小型天線(xiàn),移動(dòng)通信基站、軍工裝備等設(shè)備使用的中型或大型天線(xiàn),天線(xiàn)測(cè)試的速度已經(jīng)成為企業(yè)研發(fā)工作進(jìn)程的瓶頸。
目前,公開(kāi)號(hào)為CN204694782U的中國(guó)專(zhuān)利公開(kāi)了一種單探頭近場(chǎng)天線(xiàn)測(cè)試系統(tǒng),包括水平驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)底座,設(shè)置在水平驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)底座上的水平驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和水平驅(qū)動(dòng)軸,水平驅(qū)動(dòng)軸與水平驅(qū)動(dòng)電機(jī)聯(lián)動(dòng),升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)立柱設(shè)置在水平驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌上,升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)立柱還與水平驅(qū)動(dòng)軸聯(lián)動(dòng),升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)立柱側(cè)壁設(shè)置有升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌和升降驅(qū)動(dòng)軸,升降驅(qū)動(dòng)軸與升降驅(qū)動(dòng)電機(jī)聯(lián)動(dòng),伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)底座設(shè)置在升降驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)導(dǎo)軌上,升降驅(qū)動(dòng)軸與伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)底座聯(lián)動(dòng),伸縮驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)底座上安裝有伸縮桿,伸縮桿與伸縮驅(qū)動(dòng)電機(jī)聯(lián)動(dòng),伸縮桿遠(yuǎn)離伸縮驅(qū)動(dòng)電機(jī)的一端上安裝有俯仰機(jī)構(gòu)座,俯仰機(jī)構(gòu)座上安裝有俯仰機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)軸,俯仰機(jī)構(gòu)旋轉(zhuǎn)軸與俯仰驅(qū)動(dòng)電機(jī)聯(lián)動(dòng)。
但是,該天線(xiàn)測(cè)試系統(tǒng)在測(cè)試天線(xiàn)的性能前,需要借助工具對(duì)天線(xiàn)的擺放位置進(jìn)行測(cè)量,較為麻煩。
技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:
本實(shí)用新型的目的是提供一種天線(xiàn)綜合測(cè)試系統(tǒng),具有更快的對(duì)基站天線(xiàn)進(jìn)行定位的效果。
本實(shí)用新型的上述技術(shù)目的是通過(guò)以下技術(shù)方案得以實(shí)現(xiàn)的:一種天線(xiàn)綜合測(cè)試系統(tǒng),包括測(cè)試平臺(tái),所述測(cè)試平臺(tái)上設(shè)有沿測(cè)試平臺(tái)長(zhǎng)度方向的刻度尺,所述測(cè)試平臺(tái)上設(shè)有與刻度尺相互垂直的定位塊,所述定位塊上設(shè)有用于將定位塊固定于測(cè)試平臺(tái)上的固定組件。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,對(duì)基站天線(xiàn)的性能進(jìn)行測(cè)試前,需要對(duì)基站天線(xiàn)的擺放位置進(jìn)行定位,通過(guò)測(cè)試平臺(tái)上的刻度尺進(jìn)行測(cè)量,將非常的容易;基站天線(xiàn)的擺放位置測(cè)量好后,通過(guò)定位塊對(duì)基站天線(xiàn)進(jìn)行定位,在經(jīng)過(guò)固定組件將定位塊固定在測(cè)試平臺(tái)上,減少基站天線(xiàn)在測(cè)試平臺(tái)上滑移的情況。
優(yōu)選的,所述刻度尺的下表面設(shè)有固定塊,所述測(cè)試平臺(tái)上設(shè)置有與固定塊插接配合的固定孔。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,固定塊和固定孔的插接配合,減少刻度尺在測(cè)試平臺(tái)上移動(dòng)的情況,進(jìn)而使刻度尺對(duì)基站天線(xiàn)擺放位置的測(cè)量更加精確,對(duì)基站天線(xiàn)的測(cè)試效果更佳。
優(yōu)選的,所述固定塊的端部呈圓角設(shè)置。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,固定塊的端部呈圓角設(shè)置,便于將固定塊插接到固定孔內(nèi),進(jìn)而使刻度尺固定在測(cè)試平臺(tái)上將更加的容易。
優(yōu)選的,所述固定組件包括設(shè)于定位塊下表面的若干個(gè)吸盤(pán)。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,在基站天線(xiàn)的擺放位置測(cè)量好后,通過(guò)吸盤(pán)將定位塊固定在測(cè)試平臺(tái)上,減少對(duì)定位塊的固定時(shí)造成對(duì)測(cè)試平臺(tái)的影響,同時(shí)不會(huì)像磁鐵一樣會(huì)產(chǎn)生磁場(chǎng),對(duì)基站天線(xiàn)的測(cè)試效果造成影響。
優(yōu)選的,所述吸盤(pán)的吸附面設(shè)置有凹槽,凹槽周緣形成外環(huán),所述凹槽上內(nèi)嵌有凸出外環(huán)表面的密封圈。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,由于凹槽上內(nèi)嵌有凸出外環(huán)表面的密封圈,在擠壓吸盤(pán)進(jìn)行吸附時(shí),密封圈受壓而緊壓接觸面減少空氣進(jìn)入凹槽的情況,從而提高吸附效果,減少定位塊滑動(dòng)或者脫落的情況。
優(yōu)選的,所述凹槽由外及里依次設(shè)置有多層內(nèi)環(huán),內(nèi)環(huán)把凹槽分成多個(gè)凹腔,所述內(nèi)環(huán)與外環(huán)處于同一平面,且與吸盤(pán)的吸附面齊平。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,設(shè)置的內(nèi)環(huán)把凹槽分成多個(gè)凹腔,從而形成多層密封,外部的空氣更不容易進(jìn)入凹槽,進(jìn)一步增加吸附的牢固性。
優(yōu)選的,所述測(cè)試平臺(tái)上設(shè)有若干個(gè)限制塊,限制塊沿測(cè)試平臺(tái)長(zhǎng)度方向上均勻分布。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,限制塊的設(shè)置,能夠?qū)咎炀€(xiàn)在測(cè)試平臺(tái)的寬度方向上進(jìn)行限制,進(jìn)而更好的對(duì)基站天線(xiàn)進(jìn)行定位。
優(yōu)選的,所述測(cè)試平臺(tái)上設(shè)置有螺孔,所述限制塊上設(shè)有與螺孔螺紋配合的螺栓。
通過(guò)采用上述技術(shù)方案,螺孔和螺栓的配合,能夠?qū)ο拗茐K進(jìn)行固定,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單方便。
綜上所述,本實(shí)用新型具有以下有益效果:
1、對(duì)基站天線(xiàn)的性能進(jìn)行測(cè)試前,需要對(duì)基站天線(xiàn)的擺放位置進(jìn)行定位,通過(guò)測(cè)試平臺(tái)上的刻度尺進(jìn)行測(cè)量,將非常的容易;基站天線(xiàn)的擺放位置測(cè)量好后,通過(guò)定位塊對(duì)基站天線(xiàn)進(jìn)行定位,在經(jīng)過(guò)固定組件將定位塊固定在測(cè)試平臺(tái)上,減少基站天線(xiàn)在測(cè)試平臺(tái)上滑移的情況;
2、通過(guò)吸盤(pán)將定位塊固定在測(cè)試平臺(tái)上,減少對(duì)定位塊的固定時(shí)造成對(duì)測(cè)試平臺(tái)的影響,同時(shí)不會(huì)像磁鐵一樣會(huì)產(chǎn)生磁場(chǎng),對(duì)基站天線(xiàn)的測(cè)試效果造成影響。
附圖說(shuō)明
圖1是本實(shí)施例的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2是圖1中A部分的放大圖;
圖3是本實(shí)施例中刻度尺、限制塊與測(cè)試平臺(tái)的連接示意圖;
圖4是圖3中B部分的放大圖;
圖5是本實(shí)施例中定位塊的示意圖;
圖6是圖5中C部分的放大圖。
圖中:1、測(cè)試平臺(tái);2、刻度尺;3、定位塊;4、固定塊;5、固定孔;6、吸盤(pán);7、凹槽;8、外環(huán);9、密封圈;10、內(nèi)環(huán);11、凹腔;12、限制塊;13、螺孔;14、螺栓。
具體實(shí)施方式
以下結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。
本具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本實(shí)用新型的解釋?zhuān)洳⒉皇菍?duì)本實(shí)用新型的限制,本領(lǐng)域技術(shù)人員在閱讀完本說(shuō)明書(shū)后可以根據(jù)需要對(duì)本實(shí)施例做出沒(méi)有創(chuàng)造性貢獻(xiàn)的修改,但只要在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍內(nèi)都受到專(zhuān)利法的保護(hù)。
一種天線(xiàn)綜合測(cè)試系統(tǒng),如圖1和圖2所示,包括測(cè)試平臺(tái)1,測(cè)試平臺(tái)1呈矩形,測(cè)試平臺(tái)1的表面由塑料或者玻璃制成,在對(duì)基站天線(xiàn)進(jìn)行測(cè)試時(shí),基站天線(xiàn)的信號(hào)能夠穿過(guò)塑料和玻璃,減少測(cè)試平臺(tái)1對(duì)基站天線(xiàn)的測(cè)試效果造成影響。
測(cè)試平臺(tái)1上安裝有刻度尺2,刻度尺2沿測(cè)試平臺(tái)1的長(zhǎng)度方向設(shè)置,且刻度尺2的表面可有刻度,便于操作人員通過(guò)刻度尺2對(duì)基站天線(xiàn)的擺放位置進(jìn)行定位。
如圖3和圖4所示,刻度尺2的下表面一體成型有固定塊4,固定塊4的端部呈圓角設(shè)置,固定塊4有三個(gè),且呈均勻的分布,測(cè)試平臺(tái)1上開(kāi)有三個(gè)固定孔5,固定孔5和固定塊4插接配合,能夠?qū)⒖潭瘸?固定在測(cè)試平臺(tái)1上,減少刻度尺2在測(cè)試平臺(tái)1上移動(dòng)的情況。
測(cè)試平臺(tái)1上安裝有五個(gè)限制塊12,限制塊12沿測(cè)試平臺(tái)1的長(zhǎng)度方向上均勻分布,其中,測(cè)試平臺(tái)1上開(kāi)有螺孔13,限制塊12上開(kāi)有與螺孔13對(duì)齊的通孔,限制塊12上的螺栓14穿過(guò)通孔與螺栓14螺紋配合,能夠?qū)ο拗茐K12進(jìn)行固定,結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單方便,限制塊12對(duì)基站天線(xiàn)在測(cè)試平臺(tái)1的寬度方向上進(jìn)行限制,進(jìn)而更好的對(duì)基站天線(xiàn)進(jìn)行定位。
測(cè)試平臺(tái)1上安裝有定位塊3,定位塊3呈矩形,且與刻度尺2相互垂直,在基站天線(xiàn)的擺放位置測(cè)量好后,通過(guò)定位塊3對(duì)基站天線(xiàn)進(jìn)行定位,減少基站天線(xiàn)在測(cè)試平臺(tái)1上滑移的情況。
如圖5和圖6所示,定位塊3的下表面通過(guò)固體膠固定有吸盤(pán)6,吸盤(pán)6有八個(gè),且呈均勻的分布,通過(guò)吸盤(pán)6將定位塊3固定在測(cè)試平臺(tái)1(圖1)上,而不是通過(guò)磁鐵對(duì)定位塊3進(jìn)行固定,由于磁鐵會(huì)產(chǎn)生磁場(chǎng),對(duì)基站天線(xiàn)的測(cè)試效果造成影響。
吸盤(pán)6的吸附面開(kāi)有凹槽7,凹槽7的周緣形成外環(huán)8,外環(huán)8上內(nèi)嵌有凸出外環(huán)8表面的密封圈9,在擠壓吸盤(pán)6進(jìn)行吸附時(shí),密封圈9受壓而緊壓接觸面減少空氣進(jìn)入凹槽7的情況,從而提高吸附效果,減少定位塊3滑動(dòng)或者脫落的情況。
凹槽7由外及里依次凸起有多層內(nèi)環(huán)10,內(nèi)環(huán)10將凹槽7分成多個(gè)凹腔11,內(nèi)環(huán)10與外環(huán)8處于同一平面,且與吸盤(pán)6的吸附面齊平,這樣就可以形成多層密封,外部的空氣更不容易進(jìn)入凹槽7,進(jìn)一步增加吸附的牢固性。