本發(fā)明涉及一種用于生產(chǎn)放射性同位素的容器，涉及一種允許獲得這種容器的方法并且涉及一種包括這種容器的靶組件。

現(xiàn)有技術(shù)描述

通過粒子束的方式，通過照射含放射性同位素前體的靶來生產(chǎn)放射性同位素是已知的。具體地，利用質(zhì)子束通過照射含有富¹⁸O水的靶材料來生產(chǎn)¹⁸F。

用粒子加速器(諸如回旋加速器或線性加速器)來產(chǎn)生粒子束。當(dāng)放射性同位素的前體是液體或氣體時，所述靶包括含有通常由窗口封閉的腔室或腔體的容器，所述窗口允許粒子束穿過而基本上不會被減弱。因此，這一窗口必須盡可能的薄但必須承受機(jī)械和熱應(yīng)力以及其在操作中所經(jīng)受的輻射。通過粒子束在照射過程中靶中所耗散的功率是由粒子的能量與粒子束的電流的乘積給出。這一功率可以非常高。所述靶通常通過諸如水流的方式強(qiáng)力冷卻。

在使用回旋加速器的情況下，所述靶可以放置在回旋加速器的外部。這一解決方案利于所述靶的構(gòu)建并且允許使得尤其是冷卻手段更容易地進(jìn)入后者。然而，其要求從加速器中提取粒子束，這帶來了許多困難。多種不同已知的提取方式(諸如剝離、靜電偏轉(zhuǎn)或磁偏轉(zhuǎn)以及自提取)各自也具有已知的困難。通過剝離的提取相對容易，但需要在加速過程中更不穩(wěn)定、更難以產(chǎn)生并且需要更高真空的負(fù)離子。偏轉(zhuǎn)器通常包括隔板和高壓電極，所述偏轉(zhuǎn)器具有將最后一匝粒子束與前一匝分離開的功能。當(dāng)相繼的匝(turn)靠近地間隔開或重合時，粒子束的一部分轟擊隔板，該隔板升溫、被激發(fā)并且可能被損壞。然而，一旦已經(jīng)提取了粒子束，則其可以被指引朝向所述靶，并且有可能控制粒子束的尺寸、撞擊所述靶的角度和位置。

另一解決方案包括將所述靶放置在回旋加速器的內(nèi)部。于是不必提取粒子束。所述靶放置在回旋加速器的中平面的外圍區(qū)域中。循著不斷增大的半徑的近乎圓形軌道行進(jìn)的粒子束具有特定的寬度，并且每匝與前一匝間隔開一定的距離。這一距離可能很小以至粒子束在回旋加速器的中平面中形成了一種連續(xù)的片。粒子束或片的徑向朝向外部地定位的部分然后轟擊所述靶，而所述粒子束或所述片的徑向朝向內(nèi)部地定位的一部分繼續(xù)循其路徑行進(jìn)穿過機(jī)器。這一技術(shù)得到廣泛的使用并且成功用于固體靶的情況。

文檔WO 2013049809公開了用于產(chǎn)生放射性同位素以用于對來自液體前體的放射性藥物產(chǎn)品進(jìn)行合成的一種靶組件。圖1中所示的靶包括容器10，所述容器包括能夠容納所希望的放射性同位素前體材料的腔室12。由粒子束可透過的材料制成的薄覆蓋片14覆蓋腔室并且被固定于容器上以便通過前夾持凸緣16和后夾持凸緣18的方式來密封腔室。通道24允許進(jìn)入腔室12以用于填充或排空前體材料?？梢栽O(shè)想到其他固定方法，諸如釬焊、焊接或銅焊。點O表示回旋加速器的中心，并且箭頭A表示正循著具有與所述靶的徑向位置相比更小的半徑的一匝或軌道行進(jìn)的粒子束。這一粒子束將繼續(xù)循其路徑穿過回旋加速器并且以增加的能量和更大的半徑再次出現(xiàn)。箭頭B表示更外部的匝，切向地轟擊所述靶的覆蓋片。這一粒子束中的一些并不與容納在腔室中的前體相互作用、但與覆蓋片14相互作用，因此損失了其能量而沒有產(chǎn)生有用的效果。箭頭C表示甚至更外部的匝，其穿透進(jìn)入腔室12并且在腔室中與腔室所含的放射性同位素前體相互作用?？梢钥闯?，對于靶組件具有使得窗口14的切向邊緣中損失的粒子束部分最小化的最佳取向。這暗示了在每次干預(yù)過程中對所述靶取向的精確且因此困難地可再現(xiàn)的調(diào)整。這種靶(特別是覆蓋片)的組裝是棘手的，并且所產(chǎn)生的組件是脆弱的。當(dāng)必須替換這種覆蓋片時，技術(shù)人員必須在已經(jīng)在照射過程中被激發(fā)的一件裝備上進(jìn)行干預(yù)，這要求花費時間來等待放射性降低。用于(由管22供應(yīng)的)冷卻水20的流動的腔室被放置成與腔室12的后部部分熱接觸。因此，冷卻僅可能是并不完美的。

澤塞爾(Zeisler)等人(應(yīng)用輻射和核素，第53卷，2000，第449-453頁)已經(jīng)構(gòu)建了由鈮制成的球體靶，其中，粒子束轟擊第一窗口，包括厚度為0.3mm的鋁片、然后為厚度為1.1mm的冷卻水層、以及最后是容器的壁，所述容器具有球形形狀。是通過焊接兩個半球來獲得這一球體，所述兩個半球自身是通過對由鈮制成的、厚度為0.25mm的圓形坯料進(jìn)行沖壓而獲得的。不像通常已知的靶，這種靶的容器并不含用于粒子束穿透的薄窗口。所述容器必須一方面機(jī)械地抵抗可能在照射過程中產(chǎn)生的壓力，并且另一方面必須足夠薄以便減少粒子束的能量損失。所選擇的球體形狀是其給予對壓力的最佳抵抗，應(yīng)力均勻分布。然而，允許焊接并形成這兩個管與兩個半球所要求的這種厚度意味著粒子束在穿其而過時損失了其顯著部分的能量，這產(chǎn)生了熱量并且意味著需要另外冷卻粒子束的穿透區(qū)。

通過水流實現(xiàn)這一附加冷卻，并且因而需要鋁窗口和水層，所述鋁窗口和水層進(jìn)而引起能量損失和熱量的產(chǎn)生。由于對附加冷卻的需要，這種靶不適合用作內(nèi)靶。如果要產(chǎn)生顯著量的¹⁸F，則這種靶需要相對高的質(zhì)子能量(19MeV)，因為在冷卻系統(tǒng)以及容器的壁中這些質(zhì)子的能量損失大約為8MeV。

發(fā)明概述

本發(fā)明的一個目標(biāo)是提供能夠用于生產(chǎn)放射性同位素的容器、一種用于獲得這種容器的方法、以及包括這種容器的靶組件，所述靶組件可靠、易于組裝和使用并且對于粒子束具有非常好的透明度。本發(fā)明由獨立權(quán)利要求來限定。從屬權(quán)利要求限定了本發(fā)明的優(yōu)選實施例。

根據(jù)本發(fā)明的第一方面，提供了一種用于通過照射前體材料來生成放射性同位素的容器。根據(jù)本發(fā)明，所述容器由整體構(gòu)造的金屬護(hù)套構(gòu)成，所述護(hù)套的壁具有薄部分，其厚度包括在5μm與100μm之間，剩余部分具有大于100μm的厚度。

在一個優(yōu)選實施例中，所述護(hù)套具有回轉(zhuǎn)對稱性，所述薄部分延伸過所述護(hù)套的高度的一部分。

所述容器可以包括具有圓錐形形狀的至少一個端，所述圓錐體的基底取向朝向所述容器的外部。

所述護(hù)套的一端可以是封閉的。

所述薄部分可以具有包括在4mm與100mm之間的外徑。

所述容器可以至少部分地由選自鎳、鈦、鈮、鉭、鐵、鉻、鈷和不銹鋼中的至少一種材料制成。諸如和的合金也是優(yōu)選的。具有低熱膨脹系數(shù)的合金在旋轉(zhuǎn)靶的情況下是有利的。

根據(jù)本發(fā)明的第二方面，提供了一種用于獲得根據(jù)本發(fā)明的容器的方法，所述方法包括以下步驟：

-提供基體；

-在所述基體上電沉積出一定金屬材料的厚度，直到獲得包括在5μm與100μm之間的第一厚度；

-掩蔽所述基體的表面的一部分；

-在未掩蔽區(qū)段進(jìn)行電沉積直到獲得大于100μm的厚度；

-移除所述基體。

可以有利地通過溶解來移除所述基體。

根據(jù)本發(fā)明的第三方面，提供了一種用于生產(chǎn)放射性同位素的靶組件，所述靶組件包括根據(jù)本發(fā)明的容器，并且包括在一端包括螺紋部分的固持管、和包括合適的內(nèi)螺紋的環(huán)，所述固持管和所述環(huán)被配置成用于包封所述容器。

當(dāng)所述容器具有圓錐形形狀的末端時，所述固持管于是可以有利地具有與所述容器的末端一致的圓錐形端，并且所述環(huán)可以有利地具有與所述容器的末端一致的圓錐形端。

根據(jù)本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例所述固持管和所述容器被安裝成能夠繞軸線旋轉(zhuǎn)，并且，所述靶組件包括被安排成用于使得所述固持管和所述容器旋轉(zhuǎn)的電機(jī)。

所述靶組件可以包括放置在所述容器內(nèi)部、并且被安排成用于允許冷卻液體流動的冷卻管。

優(yōu)選地，所述冷卻管可以在其下端處包括冷卻頭，所述冷卻頭可以在其一部分易于接收粒子束的周邊上具有凹部，所述凹部給予入射粒子束在前體液體中更長的路徑。

根據(jù)本發(fā)明的靶組件可以在回旋加速器中用作內(nèi)靶或者用作外靶。其還可以用作粒子束止擋件。

附圖說明

圖1是現(xiàn)有技術(shù)容器(即WO 2013049809的容器)的橫截面視圖。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的容器的半等距透視圖。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的靶組件的下部部分的分解半等距透視圖。

圖4是根據(jù)本發(fā)明的靶組件的下部部分的橫截面視圖。

圖5是在允許旋轉(zhuǎn)容器的實施例中、通過根據(jù)本發(fā)明的靶組件的上部部分的軸向截面的透視圖。

圖6a、圖6b和圖6c分別是回旋加速器的橫截面和半等距透視圖、橫截面視圖和細(xì)節(jié)視圖，其中，具有旋轉(zhuǎn)可能性的、根據(jù)本發(fā)明的靶組件被安排為內(nèi)靶。

圖7a是根據(jù)本發(fā)明的一個具體實施例的容納匣的冷卻管的下端的等距透視圖。圖7b是垂直于這種管的軸線在容器中的位置的橫截面的頂視圖。

圖8示出了根據(jù)本發(fā)明的容器的多個實施例的橫截面視圖以及其中之一的半等距透視圖。

發(fā)明的具體實施方式

圖1是現(xiàn)有技術(shù)容器(即WO 2013049809的容器)的橫截面視圖，并且以上對其進(jìn)行了描述。

圖2是根據(jù)本發(fā)明的容器100的半等距透視圖。這一容器100采用“套管”的形式，具有繞軸線的回轉(zhuǎn)對稱性。上部部分110是開放的并且可以具有圓錐形形狀，所述圓錐的開口取向向上。如以下解釋的，就將容器100組裝到靶組件中而言這種安排是有益的。第一圓柱形部分120的頂部連接至上部部分110，并且其底部連接至薄壁區(qū)段130。這一薄壁區(qū)段130連接至第二圓柱形部分140，所述第二圓柱形部分自身連接至在底部將所述容器100關(guān)閉的圓頂150。薄部分的厚度小于或等于100μm，并且例如為80μm、60μm、40μm、20μm、10μm或者甚至5μm。更小的厚度給予更好的粒子束透明度并且因此給予更好的生產(chǎn)產(chǎn)量，但是更脆弱。申請人已經(jīng)經(jīng)過實驗確定值20μm是這些相互矛盾的需求之間的良好折中。利用大于薄壁部分130的厚度的厚度來產(chǎn)生非薄的部分，即開放的上部部分110、第一圓柱形部分120和第二圓柱形部分140以及圓頂150。例如，當(dāng)薄部分具有20μm的厚度時，非薄的部分可以具有大于或等于100μm、200μm或者例如更大的厚度。容器100的這些不同部分互相連接而沒有尖銳的角，從而獲得更好的(尤其是對壓力的)機(jī)械抵抗。內(nèi)徑可以是大約10mm并且總高度為11mm，并且圓錐體的角度可以是30°。示出的容器100具有圓柱形形狀。然而，有可能產(chǎn)生具有更為復(fù)雜的形狀(其中，曲率朝向內(nèi)部，諸如一片式雙曲面)或鼓脹形形狀(諸如桶)的容器100而脫離本發(fā)明的范圍。容器100已經(jīng)示出有面朝上的開口和封閉的底側(cè)。然而，可以想像具有諸如示出的兩個開口的容器100而不脫離本發(fā)明的范圍。于是獲得了容器100，該容器可以被從上或從下供以靶材料并且可以使得冷卻液或液體前體從頂部穿其而過流至底部。

根據(jù)本發(fā)明的容器100的獲得(特別是當(dāng)薄部分130非常薄時)展現(xiàn)出許多困難。申請人已經(jīng)開發(fā)了一種制造方法，借助于所述制造方法，可以更容易地產(chǎn)生所示出的形狀或其他形狀。這一方法基于電成型：

-產(chǎn)生具有容器100的內(nèi)部形狀的基體。這一基體可以是例如由鋁制成。

-通過電沉積來將金屬層沉積在基體的全部外表面上，直到已經(jīng)獲得薄部分所期望的厚度；

-通過涂覆例如絕緣層、漆或塑料帶來掩蔽基體的高度的一部分；

-繼續(xù)電沉積直到已經(jīng)獲得非薄的部分所期望的厚度；

-在例如苛性堿溶液中移除基體。

沉積物的厚度是由電流的大小及其應(yīng)用的持續(xù)時間來確定。可以使用以下金屬：鎳、鈦、鈮和鉭，并且還可以獲得合金，諸如不銹鋼、(基于鈷的合金)、或在旋轉(zhuǎn)靶的情況下，粒子束穿透進(jìn)入容器的點是處于連續(xù)運動的熱點。這一點是可以導(dǎo)致金屬疲勞的熱膨脹/收縮源。于是選擇具有低熱膨脹系數(shù)的材料(諸如和)可以是有利的。還也可能以相繼的電沉積步驟來沉積不同的合金或材料以便獲得一種材料的第一層以及其他材料的一個或多個其他層。因此，有可能出于其對粒子束的抵抗、或者使得與前體材料發(fā)生接觸的層由與前體材料具有化學(xué)兼容性的材料制成目的來選擇薄部分的組成材料。鈮可以有利地用于第一層形成容器的內(nèi)壁，即該壁與前體材料進(jìn)行接觸。具體地，已知的是鈮的使用不會導(dǎo)致所產(chǎn)生的放射性同位素受到所不希望的放射性同位素污染。

對薄部分130的厚度的選擇是本發(fā)明的重要元素。在下表中，已經(jīng)指明了對應(yīng)地具有7MeV、10MeV、15MeV、20MeV和30MeV的能量的質(zhì)子束在穿過多種不同厚度的鎳片之后所具有的剩余能量?？梢钥闯?，當(dāng)所述片具有5μm的厚度時，質(zhì)子的能量損失是可以忽略的，即在7MeV上小于3％并且在30MeV上小于0.2％。相比而言，在100μm及低能量上，所述片的損失重大。于是有必要依賴于更高的能量以及因此更昂貴的加速器。已知的是，當(dāng)質(zhì)子具有3MeV以下的能量時，從H₂¹⁸O通過(p，n)反應(yīng)得到的¹⁸F的生產(chǎn)產(chǎn)量實際上為零。為了獲得高于60mCi/μA的產(chǎn)量，需要使用至少6MeV的質(zhì)子。取決于可用粒子束的能量，下表中用粗體指明的厚度值因此是最大優(yōu)選厚度。如果希望產(chǎn)量甚至高于60mCi/μA，則有必要進(jìn)一步減小薄部分的厚度。

選擇更薄的壁(例如，小于或等于100μm的厚度)允許在粒子束穿過時限制熱量的產(chǎn)生。當(dāng)所選擇的材料是鎳時，上表可以用于指導(dǎo)選取厚度。其他材料(諸如鈮、鈦或)具有稍微更高的透明度并且將給出更好的結(jié)果。

圖3是根據(jù)本發(fā)明的靶組件的下部部分的分解半等距透視圖，并且示出了如何在固持管200中安排容器100。所述管具有凸形螺紋部分220。環(huán)300具有相應(yīng)的凹形螺紋部分310。所述環(huán)覆蓋了容器100的上部部分110并且將其壓靠在固持管200的下部部分上。容器100的至少薄壁部分130于是從由此形成的組件中出現(xiàn)。固持管200和環(huán)300可以包括修平部210、320，所述修平部則允許操作者非常快速地借助于兩個開口扳手來組裝并拆卸組件。固持管200和環(huán)300可以例如是由不銹鋼生產(chǎn)的。還可以使用其他機(jī)械組裝方式，諸如快速釋放軟管夾而不脫離本發(fā)明的范圍。在本發(fā)明的一個優(yōu)選實施例中，固持管200的下部部分包括與容器100的圓錐形部分110一致的圓錐形端230，所述圓錐形部分自身與環(huán)300的圓錐形端330一致。在這種實施例中，可以獲得優(yōu)越的密封嚴(yán)密性而不必依賴于密封：通過金屬對金屬接觸來確保密封嚴(yán)密性。

圖4是根據(jù)本發(fā)明的靶組件的下部部分的橫截面視圖。除了以上參考圖3所描述的元件之外，還示出了“容納匣”組件400，這一容納匣組件起到確保對容器中所含有的前體材料的冷卻并且進(jìn)而冷卻容器、以及允許將前體材料加載到容器中或者從容器中卸載前體材料的雙重作用。在其下端被封閉的冷卻管410可以插入固持管200中并且在容器100中終止。在一個示例性實施例中，容器100具有10mm的內(nèi)徑以及10mm的高度，并且冷卻管410具有8mm的外徑，照射腔室440具有大約350mm³的有用體積。在其下端425打開的、并且直徑小于冷卻管的直徑的中間管420被插入冷卻管中。因此，也可能使得冷卻液體(諸如水)流過此冷卻管410與此內(nèi)部管420之間包括的空間。箭頭A表示冷卻液體的流入，并且箭頭B表示冷卻液體的流出。流向A和B可以是相反的。由于熱傳遞區(qū)域大且均勻分布，因此這種安排允許獲得優(yōu)越的冷卻。在靶組件允許由容器100、固持管200和環(huán)300制成的組件旋轉(zhuǎn)的情況下，“容納匣”組件400仍然保持靜止。這2個組件的相對運動產(chǎn)生了攪拌效果，這通過誘導(dǎo)強(qiáng)制對流進(jìn)一步提高了冷卻。軸向放置在中間管420內(nèi)部并且密封地穿過冷卻管410的下端而在容器100與冷卻管410之間包括的空間中終止的毛細(xì)管430允許如由雙頭箭頭C指示的加載和卸載前體材料。放大視圖示出了容器的圓錐形部分110是如何確保密封嚴(yán)密性而無需使用密封件地夾持在環(huán)330的圓錐形端與固持管230的圓錐形端之間。

與本發(fā)明的靶是否用作內(nèi)靶或外靶無關(guān)，有利的是能夠使其旋轉(zhuǎn)?？赡艿氖?，相繼地給予其多種不同取向(例如，每次使用其時將其旋轉(zhuǎn)10°)，或者優(yōu)選地，在照射過程中持續(xù)地旋轉(zhuǎn)容器100。因此，也可能確保使得粒子束穿過薄壁部分的全部周邊從而確保在更大區(qū)域上更好的分布產(chǎn)生的熱量。此外，在液體靶的情況下，旋轉(zhuǎn)引入對前體材料的攪拌，從而通過對流提高冷卻。圖5是在允許使得容器100旋轉(zhuǎn)的一個實施例中、通過根據(jù)本發(fā)明的靶組件的上部部分500的軸向截面的透視圖。容器100(在圖中未示出)和固持管200被安排在電機(jī)的轉(zhuǎn)子570中。定子560被固定于被固定的殼體510上。由具有固定部540和旋轉(zhuǎn)部542的密封軸承來確保維護(hù)和密封嚴(yán)密性。這一密封軸承可以包括球軸承550和550’。這種密封可以例如是磁流體密封，諸如由株式會社售賣的那些。容納匣400的分布頭從靶組件的上部部分出來并且可以觸及冷卻液體通過其對應(yīng)地流入和流出的孔口452、454，并且觸及通過其來填充/排空前體材料的孔口430。可以具有兩個單獨的流入和流出管。

圖6a和圖6b示出了其中放置有根據(jù)本發(fā)明的靶組件的回旋加速器700。上部部分500從回旋加速器700的上部面出來。如細(xì)節(jié)視圖6c中示出的，固持管200具有的長度使得容器701位于回旋加速器的中平面中，其薄部分暴露于粒子束下。當(dāng)本發(fā)明的靶組件用作外靶時，其可以放置在粒子束射線的末端并且徑向地接收粒子束。也可能生產(chǎn)其薄部分位于基底的容器(諸如在圖9中示出的容器907和909)、并且使得粒子束平行于容器的對稱軸線、朝向這一基底定向。

某些放射性同位素前體(諸如H₂¹⁸O)是寶貴且昂貴的。而且，能夠從濃縮產(chǎn)品合成放射性化學(xué)物有時是有利的。因此，有利的是最小化所使用的量。為此，已經(jīng)設(shè)計了本發(fā)明的優(yōu)選實施例，在所述優(yōu)選實施例中(在圖7a和圖7b中示出的)，腔室的體積甚至更小。圖7a是這一優(yōu)選實施例的容納匣的冷卻頭800的下端的半等距透視圖。如以下討論的，這種管具有帶有優(yōu)化輪廓的面801。冷卻液體的流入/流出孔口802允許使得冷卻液體流過冷卻頭800的內(nèi)部。在這一示例中，存在兩個平行的流入和流出管，但如在圖4中的示例中可僅有單個的流入和流出管。前體液體的流入/流出孔口803在冷卻頭800的下端以下打開并且允許觸及容器與冷卻頭800之間所包括的空間。例如，可以針對放置溫度探針、熱電耦來提供槽口或槽804。圖7b是垂直于這種冷卻頭800的軸線在容器860中的位置的橫截面的頂視圖。如可以從這一橫截面看出，冷卻頭800在其部分周邊上具有凹部851，所述凹部給予由箭頭F表示的入射粒子束在前體液體中更長的路徑852，盡管冷卻頭800與容器860之間的空間在沒有入射粒子束的地方更小。這一路徑的長度被限定成使得粒子束可將其全部的有用能量留在前體材料上。這一安排具有以下優(yōu)點：降低前體的必要體積；由于液體的最小厚度，而最大化冷卻；將粒子束的全部有用能量(例如，針對H₂¹⁸O中的質(zhì)子，能量高于4MeV)使用在前體中。熱電偶805允許實時控制靶的溫度。在旋轉(zhuǎn)靶的實施例中，容器860旋轉(zhuǎn)，而冷卻頭800仍然保持靜止，從而促進(jìn)前體液體的攪拌以及熱交換。在這一示例中，容器860的內(nèi)徑為10mm，冷卻頭的外徑為9.5mm，并且腔室的有用體積為100mm3。

圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的容器的多個實施例的橫截面視圖。箭頭X表示入射粒子束的方向。箭頭X還指示了薄壁的位置。這些橫截面被限制成固體的面部區(qū)段以便易于薄壁的表示。

具有回轉(zhuǎn)對稱性、成圓柱形并且具有圓錐形狀的上端的容器901是本發(fā)明的優(yōu)選實施例之一。

具有回轉(zhuǎn)對稱性的容器902具有兩個開口端，這兩個開口端均為圓錐形形狀。

容器903和904類似于容器901，除了它們對應(yīng)地具有帶有平坦邊緣的開口端和帶有圓柱形邊緣的開口端之外。

容器905類似于容器901，除了其具有“桶”形狀之外。

容器906類似于容器901，除了其具有一片式雙曲面形狀。

容器907類似于容器901，除了其在封閉端具有薄壁。因此，其允許粒子束的軸向穿透。

與示出的其他容器相比較而言，容器908不具有回轉(zhuǎn)對稱性，但具有正方形或長方形橫截面，薄壁可能延伸過兩個或三個面的一部分。還以半等距透視圖示出了這一容器。容器910類似于容器901，除了其具有更大的直徑(例如，50mm)和平坦的底部。

容器909類似于容器910，除了薄部分呈環(huán)形被安排在平坦底部上并且允許粒子束的軸向穿透。如由箭頭X示出的，這一容器可以有利地用于外靶，其中，入射粒子束平行于旋轉(zhuǎn)軸線。

在用作外靶的情況下，可以將靶901到靶907放置成使得粒子束徑向地穿透靶。

本發(fā)明的優(yōu)點

根據(jù)本發(fā)明的容器100具有為整體構(gòu)造的優(yōu)點，即不需要組裝裝置或者加工、安裝或拆卸裝置。容器100的薄部分130本身形成集成在容器100中的窗口。根據(jù)本發(fā)明的靶和容器100可以容易地拆卸和重新安裝。操作者可以快速行動并且因此可以限制其輻射暴露。本發(fā)明的容器需要很少的材料。因此，其并不昂貴并且在其必須丟棄時造成很少的浪費。根據(jù)本發(fā)明的靶組件可以用作粒子束止擋件(如果需要)，例如，在加速器的設(shè)置過程中。

已經(jīng)參考具體實施例對本發(fā)明進(jìn)行了描述，所述具體實施例已經(jīng)僅通過圖解方式給出并且其不應(yīng)被認(rèn)為是限制性的。通常，對于本領(lǐng)域技術(shù)人員將變得顯而易見的是，本發(fā)明并不限于以上所展示和/或描述的示例。附圖中的參考號的存在不應(yīng)必被認(rèn)為是限制性的，包括當(dāng)這些數(shù)字指示在權(quán)利要求中時。動詞“包括(comprise)”、“含有(contain)”、“包括(include)”或任何其他變體及其詞形變化的使用絕不排除存在所提到的那些元件之外的元件。使用不定冠詞“一個(a)”、“一種(an)”或定冠詞“該(the)”來引出元件并不排除存在多個這種元件。單詞頂部/底部、下部/上部的使用應(yīng)當(dāng)被理解為與附圖中示出的部件的定向是相關(guān)的。雖然所描述的示例涉及通過以質(zhì)子束照射含有富¹⁸O水的靶材料來生產(chǎn)¹⁸F，但是本發(fā)明可以應(yīng)用于其他液體前體(諸如普通水H₂¹⁶O，其在利用質(zhì)子進(jìn)行照射的過程中產(chǎn)生¹³N)、或氣態(tài)前體(諸如照射¹⁴N₂以便獲得¹¹C)。將本發(fā)明應(yīng)用于粉狀前體材料或者應(yīng)用于液體中懸浮的并且從而成漿狀的粉末也是可能的。最后，本發(fā)明還適用于前體材料(諸如¹¹B₂O₃)的情況，其通過(p，n)反應(yīng)產(chǎn)生¹¹C并且形成可以收集的¹¹CO₂。可以使用其他粒子，諸如氘核和阿爾法粒子。同樣地，根據(jù)本發(fā)明的靶可以與大氣壓力下的容器的腔室、或者與放置在壓力下的腔室一起使用。