產(chǎn)生放大光束110。光源100包括位于激光系統(tǒng)115和靶位置105之間的光束遞送系統(tǒng)，該光束遞送系統(tǒng)包括光束傳輸系統(tǒng)120和聚焦組件122。光束傳輸系統(tǒng)120接收來自激光系統(tǒng)115的放大光束110，并按需要導(dǎo)向(steer)和修改放大光束110然后將放大光束110輸出到聚焦組件122。聚焦組件122接收放大光束110并將光束110聚焦至靶位置105。
[0036]在一些實(shí)施例中，激光系統(tǒng)115可包括一個(gè)或多個(gè)光學(xué)放大器、激光器、和/或用于提供一個(gè)或多個(gè)主脈沖(且在某些情況下，一個(gè)或多個(gè)預(yù)脈沖)的照射器。每個(gè)光學(xué)放大器包括能夠以高增益光學(xué)地放大期望波長的增益介質(zhì)、激勵(lì)源、和內(nèi)部光學(xué)器件。光學(xué)放大器可具有或沒有激光鏡或形成激光腔的其它反饋設(shè)備。因此，即使沒有激光腔由于激光放大器的增益介質(zhì)中的粒子數(shù)反轉(zhuǎn)，激光系統(tǒng)115產(chǎn)生放大光束110。而且，如果有激光腔對(duì)激光系統(tǒng)115提供足夠的反饋，激光系統(tǒng)115可產(chǎn)生作為相干激光束的放大光束110。術(shù)語“放大光束”包含如下中一項(xiàng)或多項(xiàng):僅被放大但不一定是相干激光振蕩的來自激光系統(tǒng)115的光、和既被放大又是相干激光振蕩的來自激光系統(tǒng)115的光。
[0037]激光系統(tǒng)115中的光學(xué)放大器可包括作為增益介質(zhì)的包括CO2的填充氣體和可以大于或等于1000的增益來放大波長介于大約9100和大約IlOOOnm之間(且特別地，在大約10600nm)的光。用于激光系統(tǒng)115的合適的放大器和激光器可包括脈沖激光設(shè)備，例如，例如，用DC或RF激勵(lì)、在相對(duì)高功率(例如，1kW或更高)、和高脈沖重復(fù)頻率(例如，50kHz或更大)下操作產(chǎn)生輻射在大約9300nm或大約10600nm的脈沖的、氣體放電0)2激光設(shè)備。激光系統(tǒng)115中的光學(xué)放大器還可包括冷卻系統(tǒng)，例如當(dāng)在更高功率下操作激光系統(tǒng)115時(shí)可使用的水。
[0038]光源100包括集光鏡(collector mirror) 135，該集光鏡具有孔(aperture) 140以允許放大光束I1穿過并到達(dá)靶位置105。集光鏡135可以是，例如，在靶位置105處具有主焦點(diǎn)且在中間位置145處具有次焦點(diǎn)(也稱為中間焦點(diǎn))的橢球面鏡，其中EUV光可從光源100被輸出且可被輸入，例如，集成電路光刻工具(未不出)。光源100還可包括開放式、中空的錐形罩(Shroud) 150 (例如，氣錐)，該錐形罩從集光鏡135朝向靶位置105逐漸變細(xì)，以減少進(jìn)入聚焦組件122和/或光束傳輸系統(tǒng)120的等離子體生成的碎片的量，同時(shí)允許放大光束110到達(dá)靶位置105。為此目的，可在該錐形罩內(nèi)提供朝向靶位置105的氣流。
[0039]光源100還可包括主控制器155，該主控制器連接到液滴位置檢測反饋系統(tǒng)156、激光控制系統(tǒng)157、以及光束控制系統(tǒng)158。光源100可包括一個(gè)或多個(gè)靶或液滴成像器160，該成像器提供指示液滴位置的輸出，例如，相對(duì)于靶位置105的液滴位置的輸出并將此輸出提供給液滴位置檢測反饋系統(tǒng)156，該反饋系統(tǒng)可，舉例來說，計(jì)算液滴位置和軌跡，從該液滴位置和軌跡中可逐液滴地或平均計(jì)算液滴位置誤差。液滴位置檢測反饋系統(tǒng)156因此提供此液滴位置誤差作為給主控制器155的輸入。主控制器155可因此將激光位置、方向、以及時(shí)序校正信號(hào)，例如，提供給激光控制系統(tǒng)157，該激光控制系統(tǒng)可被用于，舉例來說，控制激光時(shí)序電路，和/或提供給光束控制系統(tǒng)158來控制放大光束位置并光束傳輸系統(tǒng)120的修整來改變真空腔室130內(nèi)的光束焦點(diǎn)的位置和/或焦度。
[0040]靶材料遞送系統(tǒng)125包括靶材料遞送控制系統(tǒng)126，該遞送控制系統(tǒng)可操作響應(yīng)于來自主控制器155的信號(hào)，例如，修改當(dāng)由遞送裝置127釋放時(shí)液滴的釋放點(diǎn)，從而修正液滴到達(dá)達(dá)期望靶位置105時(shí)的誤差。
[0041]此外，光源100可包括測量一個(gè)或多個(gè)EUV光參數(shù)的光源檢測器165，這些參數(shù)包括但不限于，脈沖能量、因變于波長的的能量分布、特定波段內(nèi)的能量、特定波段外的能量、以及EUV強(qiáng)度的角向分布和/或平均功率。光源檢測器165生成反饋信號(hào)供主控制器155使用。反饋信號(hào)可以是，例如，指示參數(shù)中的誤差，諸如激光脈沖的時(shí)序和聚焦，從而在準(zhǔn)確的地點(diǎn)和時(shí)間恰當(dāng)?shù)財(cái)r截液滴用于有效和高效的EUV光生產(chǎn)。
[0042]光源100還可包括引導(dǎo)激光175，該引導(dǎo)激光可被用于使得光源100的不同部分對(duì)齊或幫助將放大光束110導(dǎo)向靶區(qū)域105。連同引導(dǎo)激光175，光源100包括被置于聚焦組件122內(nèi)的計(jì)量系統(tǒng)124，采樣來自引導(dǎo)激光175和放大光束110的光的一部分。在其它實(shí)現(xiàn)中，計(jì)量系統(tǒng)124被置于光束傳輸系統(tǒng)120內(nèi)。計(jì)量系統(tǒng)124可包括采樣或重新定向光的子集的光學(xué)元件，這樣的光學(xué)元件由可經(jīng)受得住引導(dǎo)激光束和放大光束110的功率的任意材料制造而成。光束分析系統(tǒng)由計(jì)量系統(tǒng)124和主控制器155構(gòu)成，因?yàn)橹骺刂破?55分析來自引導(dǎo)激光175的采樣的光并使用此信息通過光束控制系統(tǒng)158來調(diào)整聚焦組件122內(nèi)的零件(component)。
[0043]因此，總的來說，光源100產(chǎn)生放大光束110，該放大光束110沿著光路被引導(dǎo)來照射位于靶位置105的靶混合物114，從而將靶混合物114內(nèi)的靶材料轉(zhuǎn)換為發(fā)出EUV范圍內(nèi)的光的等離子體。放大光束110以特定波長(也被稱為源波長)操作，該特定波長基于激光系統(tǒng)115的設(shè)計(jì)和特性所確定。此外，當(dāng)靶材料向激光系統(tǒng)115提供回足夠反饋來產(chǎn)生相干激光時(shí)或者如果驅(qū)動(dòng)激光系統(tǒng)115包括合適的光學(xué)反饋來形成激光腔，放大光束110可以是激光束。
[0044]如下所討論，發(fā)射靶混合物114的遞送裝置127可包括靶材料供應(yīng)裝置，該供應(yīng)裝置具有表面涂覆以導(dǎo)電材料的絕緣管。當(dāng)連接到地或小的DC電位時(shí)，導(dǎo)電涂層允許絕緣管的表面上的表面電荷被移除或大體上減少。
[0045]參考圖2A，靶材料供應(yīng)裝置200的剖視側(cè)視圖被示出。裝置200包括保存(hold)增壓流體210的貯液器205以及與貯液器205通過開口 207保持流體連通的毛細(xì)管220。施加至流體210的壓力可以是，例如，介于2000鎊每平方英寸(psi)和10，OOOpsi之間。流體210為導(dǎo)電的且可以是，例如，熔融金屬(molten metal)，諸如錫。毛細(xì)管220由絕緣材料制成，諸如玻璃。玻璃可以是，舉例來說，恪融石英(fused silica)或石英。
[0046]毛細(xì)管220包括接收熔融金屬210的第一端222、側(cè)壁224、以及限定孔口(orifice) 228的第二端226。壓力導(dǎo)致熔融金屬210流動(dòng)通過開口 207并進(jìn)入毛細(xì)管220的第一端222，其中熔融金屬210被迫使通過孔口 228并作為連續(xù)流240離開。隨著連續(xù)流240遠(yuǎn)離孔口 228且朝向靶區(qū)域105移動(dòng)，連續(xù)流240分成轉(zhuǎn)而合并為較大液滴244的初始小液滴242，這些較大液滴的一個(gè)或多個(gè)被放大光束110轟擊并轉(zhuǎn)化為等離子態(tài)來生成EUV光。理想地，連續(xù)流240、初始小液滴242、以及較大最終液滴244在“Z”方向上對(duì)齊并沿著從孔口 228到靶區(qū)域105的預(yù)期軌跡“TE”行進(jìn)。
[0047]裝置200還可包括電可致動(dòng)元件260。電可致動(dòng)元件260可以是，例如，壓電元件。電可致動(dòng)元件260被可操作地耦合到靶材料210和驅(qū)動(dòng)電可致動(dòng)元件260的信號(hào)發(fā)生器265。在圖2A的示例中，電可致動(dòng)元件260耦合到管220來偏轉(zhuǎn)管220并干擾流240。例如，當(dāng)被驅(qū)動(dòng)時(shí)，電可致動(dòng)元件260可以一個(gè)或多個(gè)頻率有選擇地?cái)D壓或以其他方式移動(dòng)管220。電可致動(dòng)元件在2012年4月17日發(fā)布的美國專利N0.8158960中被討論，其在通過引用將其全部內(nèi)容結(jié)合至此。
[0048]參考圖2B，盡管導(dǎo)電流體通過毛細(xì)管220，表面電荷235可意外地積聚在毛細(xì)管220的外表面221上。例如，帶電微粒235可積聚于側(cè)壁224、第二端226的外表面上，和或電可致動(dòng)元件260的電絕緣部分上。
[0049]表面電荷235的出現(xiàn)可導(dǎo)致初始小液滴242的空間位置在“X”和“Y”方向上偏離期望軌跡“TE”。例如，表面電荷235可積聚和自發(fā)放電，創(chuàng)建引起液滴242偏離其期望路徑的電場。作為結(jié)果，初始金屬液滴242沒有在“Z”方向上對(duì)齊，且因此，液滴流可錯(cuò)失相對(duì)于照射激光束的最佳列隊(duì)(alignment)。進(jìn)一步，由表面電荷235誘發(fā)的電場可電極化連續(xù)流240并因此對(duì)初始金屬液滴242充電。經(jīng)充電的液滴彼此排斥，此舉可進(jìn)一步阻礙初始小液滴242的合并。
[0050]參考圖3A，示例性靶材料供應(yīng)裝置300包括具有金屬涂層330的毛細(xì)管320。裝置300可以是關(guān)于圖1所討論的遞送裝置127的全部或部分。毛細(xì)管320由電絕緣材料(例如石英)制成。金屬涂層330允許毛細(xì)管320的表面被電接地或連接至小的DC電位來移除或減少毛細(xì)管320的外表面上的表面電荷。通過移除或減少表面電荷，由裝置300所產(chǎn)生的導(dǎo)電液滴在靶區(qū)域105內(nèi)具有更一致的空間位置且更傾向于合并為具有與放大光束110內(nèi)脈沖頻率相同或幾乎相同的頻率的較大液滴。
[0051]在裝置300中，毛細(xì)管320包括側(cè)壁324、第二端326、和第一端322。側(cè)壁324位于第一端322和第二端32