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      基于面陣列x光源的血液輻照系統(tǒng)的制作方法_2

      文檔序號(hào):8923657閱讀:來源:國(guó)知局
      面陣列X光源形成門機(jī)互鎖;所述X射線屏蔽罩上設(shè)有急停鍵,按下所述急停鍵,所述血液輻照系統(tǒng)斷電。
      [0027]一個(gè)實(shí)施例中,所述血袋架上設(shè)有溫度傳感器,與所述人機(jī)交互裝置連接,以監(jiān)測(cè)所述待輻照血制品的溫度,當(dāng)所述待輻照血制品的溫度高于一設(shè)定溫度時(shí)所述報(bào)警裝置發(fā)出報(bào)警信號(hào)。
      [0028]一個(gè)實(shí)施例中,所述濾過器由鋁或銅材料制成;所述X射線屏蔽罩由鉛皮制成;所述人機(jī)交互裝置為一觸摸屏;所述高壓發(fā)生器通過高壓電纜與所述面陣列X光源連接,所述中低壓電源通過低壓電纜與所述面陣列X光源連接;所述聚焦極為靜電聚焦或磁聚焦。
      [0029]一個(gè)實(shí)施例中,兩個(gè)所述面陣列X光源左右相對(duì)設(shè)置或上下相對(duì)設(shè)置。
      [0030]本發(fā)明實(shí)施例的血液輻照系統(tǒng),因相對(duì)設(shè)置有面陣列X光源,無需旋轉(zhuǎn)血袋架,即可使輻照血制品獲得均勻輻照,系統(tǒng)簡(jiǎn)單、效率高。而且,本發(fā)明實(shí)施例采用陣列式的X射線面光源,由高度集成的X射線發(fā)射子單元排列而成,近似平面波照射,可以獲得高劑量率、大面積、高均勻性的照射,可實(shí)現(xiàn)批量化血制品的照射,顯著提高了輻照工作效率。無需高層次防護(hù)設(shè)備,無潛在的核泄漏風(fēng)險(xiǎn),更安全、成本低。采用大規(guī)模面陣源取代傳統(tǒng)的單點(diǎn)源照射,在橫向方向可獲得高劑量、大面積均勻輻照,實(shí)現(xiàn)血液制品批量照射,提高工作效率。
      【附圖說明】
      [0031]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。在附圖中:
      [0032]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0033]圖2A是現(xiàn)有血液輻照系統(tǒng)的點(diǎn)X光源發(fā)射球面波的示意圖;
      [0034]圖2B是本發(fā)明實(shí)施例的面陣列X光源發(fā)射平面波的示意圖;
      [0035]圖3是本發(fā)明一實(shí)施例中的X射線子發(fā)射單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0036]圖4是本發(fā)明另一實(shí)施例中的X射線子發(fā)射單元的結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0037]圖5A是本發(fā)明一實(shí)施例中的X射線子發(fā)射單元中陰極的圖案結(jié)構(gòu)示意圖;
      [0038]圖5B是本發(fā)明一實(shí)施例中的X射線子發(fā)射單元中陰極的圖案結(jié)構(gòu)示意圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0039]為使本發(fā)明實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白,下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明實(shí)施例做進(jìn)一步詳細(xì)說明。在此,本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明,但并不作為對(duì)本發(fā)明的限定。
      [0040]圖1是本發(fā)明實(shí)施例的基于面陣列X光源的血液輻照系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖1所示,血液輻照系統(tǒng)包括X射線屏蔽罩101、兩個(gè)面陣列X光源102、兩個(gè)濾過器103、血袋架104、高壓發(fā)生器105、中低壓電源106、水冷機(jī)107、工控機(jī)108及人機(jī)交互裝置109。
      [0041]上述面陣列X光源102、濾過器103及血袋架104均設(shè)置于上述X射線屏蔽罩101內(nèi)。X射線屏蔽罩101可由足夠厚的鉛皮構(gòu)成,以減少外部輻射泄漏,確保操作人員的安全。
      [0042]上述兩個(gè)面陣列X光源102相對(duì)設(shè)置在血袋架104的兩側(cè),兩個(gè)面陣列X光源102可左右設(shè)置或上下設(shè)置。上述兩個(gè)濾過器103相對(duì)設(shè)置,且分別位于上述兩個(gè)面陣列X光源102的相對(duì)的兩側(cè),以對(duì)面陣列X光源102發(fā)射的X射線進(jìn)行低能過濾。血袋架104設(shè)于兩個(gè)濾過器103之間,一般位于所述X射線屏蔽罩的中間,以放置待輻照血制品。
      [0043]上述的高壓發(fā)生器105、中低壓電源106、水冷機(jī)107分別連接至上述兩個(gè)面陣列X光源102及工控機(jī)108。上述人機(jī)交互裝置109連接至工控機(jī)108,以控制高壓發(fā)生器105、中低壓電源106及水冷機(jī)107的工作狀態(tài)。
      [0044]面陣列X光源102可通過高壓電纜和中低壓電纜分別與高壓發(fā)生器105和中低壓電源106連接。水冷機(jī)107可通過水管連接至面陣列X光源102上的水冷裝置,以對(duì)其進(jìn)行散熱。人機(jī)交互裝置109可懸掛與血液輻照系統(tǒng)的一側(cè),以便于人員操作。濾過器103可由鋁或銅材料制成。
      [0045]上述血液輻照系統(tǒng)可以配置有控制箱110,上述高壓發(fā)生器105、中低壓電源106、水冷機(jī)107及工控機(jī)108設(shè)置在控制箱110中??刂葡?10可以設(shè)置在X射線屏蔽罩101的下部,并可配置有4個(gè)腳輪,以便于血液輻照系統(tǒng)的移動(dòng)。
      [0046]本發(fā)明實(shí)施例的血液輻照系統(tǒng),相對(duì)配置的兩個(gè)面陣列X光源發(fā)射的X射線為平面波,與傳統(tǒng)的球面波X射線相比,對(duì)血制品的輻照更均勻。此外,與單側(cè)血液輻照系統(tǒng)相比,可減少單側(cè)照射引起血制品在深度方向吸收不均勻的問題,無需旋轉(zhuǎn)血袋架即可對(duì)血制品進(jìn)行均勻照射。
      [0047]進(jìn)一步,當(dāng)子源數(shù)目足夠多時(shí),光波疊加效果會(huì)近似于平面波發(fā)射,即等強(qiáng)度輻照面位于一系列平面內(nèi)。圖2A是現(xiàn)有血液輻照系統(tǒng)的點(diǎn)X光源發(fā)射球面波的示意圖,如圖2A所示,點(diǎn)光源211發(fā)出球面波,等強(qiáng)度面212為曲面。圖2B是本發(fā)明實(shí)施例的面陣列X光源發(fā)射平面波的示意圖,如圖2B所示,面光源221發(fā)射平面波,等強(qiáng)度面222為一個(gè)平面。平面波發(fā)射能在一個(gè)很大的橫向平面內(nèi)獲得均勻照射,如此一來,可以在血袋架的橫向方向一次擺放多個(gè)血袋同時(shí)進(jìn)行照射,提高輻照工作效率。
      [0048]再如圖1所示,血液輻照系統(tǒng)的面陣列X光源102可由多個(gè)X射線子發(fā)射單元1021排列組成。例如,面陣列X光源102為由MXN個(gè)X射線子發(fā)射單元1021排列組成的MXN陣列,其中M和N為整數(shù),M彡1,M和N可根據(jù)需求選取。
      [0049]本發(fā)明實(shí)施例的血液輻照系統(tǒng),由于每個(gè)X射線子發(fā)射單元發(fā)射的X射線都能覆蓋待輻射血制品區(qū)域,所以待輻射血制品的最終輻射照度為組成面陣列X光源的所有X射線子發(fā)射單元的輻射照度疊加,從而待輻射血制品可獲得高的輻射劑量率,可減少輻照時(shí)間。此外,在特定總輻射強(qiáng)度需求下,也可降低每個(gè)X射線子發(fā)射單元的輻照強(qiáng)度。
      [0050]圖3是本發(fā)明一實(shí)施例中的X射線子發(fā)射單元的結(jié)構(gòu)示意圖。如圖3所示,X射線子發(fā)射單元采用三極式結(jié)構(gòu),包括陰極301、柵極302及陽(yáng)極303。
      [0051]柵極302中間開有圓孔,圓孔附近靠陰極303 —面裝有柵網(wǎng)。在陰極301和柵極302之間的偏置電壓(Vg-Vc)作用下,產(chǎn)生強(qiáng)的場(chǎng)強(qiáng),陰極301因場(chǎng)致電子發(fā)射效應(yīng)而發(fā)射電子束,該電子束轟擊陽(yáng)極303而發(fā)射X射線束309,X射線束309為面發(fā)射X射線束。人機(jī)交互裝置109根據(jù)陰極301的發(fā)射電流調(diào)整柵極電壓Vg使所述發(fā)射電流為一恒定電流值。
      [0052]本發(fā)明實(shí)施例中,可采用電流監(jiān)測(cè)電路實(shí)時(shí)反饋各陰極單元發(fā)射電流,動(dòng)態(tài)調(diào)整柵極電壓,保持恒定電流輸出,確保面陣列X光源中的各X射線發(fā)射子單元所輸出的X射線的一致性與穩(wěn)定性。
      [0053]一個(gè)實(shí)施例中,X射線子發(fā)射單元可采用四極式結(jié)構(gòu),還包括聚焦極304,例如靜電聚焦或磁聚焦,聚焦極304聚焦陰極發(fā)射的電子束,聚焦后的電子束308轟擊陽(yáng)極303發(fā)射X射線束309,X射線束309為面發(fā)射X射線束。
      [0054]上述各電極所加電壓可視需要及系統(tǒng)的設(shè)計(jì)而定。例如,陰極301接地(Vc = O),柵極電壓Vg的范圍為2kv至5kv,聚焦極電壓Vf小于柵極電壓Vg,陽(yáng)極電壓Va為120kv至160kv范圍內(nèi)的一正電壓。
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