配比為XR-500 : 0. 50%，有機(jī)納米硅酸鹽：7. 49%，聚乙烯醇為92. 01%，性能如表2所示。
[0103] 實(shí)施例15
[0104] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 0. 50%，有機(jī)納米硅酸鹽：1. 00%，聚乙烯醇為98. 50%，性能如表2所示。
[0105] 實(shí)施例16
[0106] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 0. 50%，有機(jī)納米硅酸鹽：10. 00%，聚乙烯醇為89. 50%，性能如表2所示。
[0107] 實(shí)施例17
[0108] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 0. 50%，有機(jī)納米硅酸鹽：4. 27%，聚乙烯醇為95. 23%，性能如表2所示。
[0109] 實(shí)施例18
[0110] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 2. 44%，有機(jī)納米硅酸鹽：5. 03%，聚乙烯醇為92. 53%，性能如表2所示。
[0111] 實(shí)施例19
[0112] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 2. 51 %，有機(jī)納米硅酸鹽：1. 55 %，聚乙烯醇為95. 94 %，性能如表2所示。
[0113] 實(shí)施例20
[0114] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 2. 81 %，有機(jī)納米硅酸鹽：7. 41 %，聚乙烯醇為89. 78%，性能如表2所示。
[0115] 實(shí)施例21
[0116] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 3. 40 %，有機(jī)納米硅酸鹽：10. 00 %，聚乙烯醇為86. 60 %，性能如表2所示。
[0117] 實(shí)施例22
[0118] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 5. 00 %，有機(jī)納米硅酸鹽：1. 00 %，聚乙烯醇為94. 00 %，性能如表2所示。
[0119] 實(shí)施例23
[0120] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 5.0%，有機(jī)納米硅酸鹽：7. 81%，聚乙烯醇為87. 19%，性能如表2所示。
[0121] 實(shí)施例24
[0122] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為25微米，制得B/ A/B三層總厚為75 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比為XR-500 : 5.00%，有機(jī)納米硅酸鹽：4. 82%，聚乙烯醇為90. 18%，性能如表2所示。
[0123] 表1本發(fā)明實(shí)施例1-24所述技術(shù)方案中各項(xiàng)的數(shù)據(jù)
[0124]
[0125] 表2本發(fā)明實(shí)施例1-24提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜的性能檢測數(shù)據(jù)
[0126]
[0128] 分析上面表1和表2中的數(shù)據(jù)，首先通過不做ILC的水阻隔層來篩選出最優(yōu)的氧 氣阻隔層（B層）成份配比，通過實(shí)施例1-13可以看出，實(shí)施例5的氧氣阻隔結(jié)果與光學(xué)性 能結(jié)果最優(yōu)；通過實(shí)施例14-24可以看出實(shí)施例21與23的實(shí)驗(yàn)結(jié)果最優(yōu)。
[0129] 實(shí)施例25
[0130] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，B層的材料配比為PBT切片92. 50%， MXD6為5. 00%，異辛酸鈷鹽為2. 50%，不具有A層，這時(shí)B層也只是一層結(jié)構(gòu)，制得成品總 厚為50 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0131] 實(shí)施例26
[0132] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PBT ;B層材料的配比為 PCT切片94. 90 %，MXD6為5. 00 %，異辛酸鈷鹽為0. 10 %，A層厚度為100微米，制得成品總 厚為300 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0133] 實(shí)施例27
[0134] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTT切片91. 80%，MXD6為8. 10%，異辛酸鈷鹽為0. 10%，A層厚度為25微米，B層的厚度 為2. 5微米，制得成品總厚為30 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0135] 實(shí)施例28
[0136] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PBN切片88. 28 %，MXD6為9. 22 %，異辛酸鈷鹽為2. 50 %，A層厚度為25微米，B層的厚度 為5微米，制得成品總厚為35 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0137] 實(shí)施例29
[0138] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PEN切片 85.86%，MXD6為12.93%，異辛酸鈷鹽為1.21%，A層厚度為50微米，B層的厚度 為50微米，制得成品總厚為100 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0139] 實(shí)施例30
[0140] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PBN切片82. 79%，MXD6為14. 71%，異辛酸鈷鹽為2. 50%，A層厚度為25微米，B層的厚度 為25微米，制得成品總厚為75 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0141] 實(shí)施例31
[0142] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 ?(^切片81.94%，1?06為17.88%，異辛酸鈷鹽為0.18%4層厚度為30微米，8層的厚度 為10微米，制得成品總厚為50 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0143] 實(shí)施例32
[0144] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTT切片73. 73%，MXD6為25. 00%，異辛酸鈷鹽為1. 27%，A層厚度為60微米，B層的厚度 為20微米，制得成品總厚為100 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0145] 實(shí)施例33
[0146] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PBT ;B層材料的配比為 PBT切片67. 5 %，MXD6為30 %，異辛酸鈷鹽為2. 50 %，A層厚度為100微米，B層的厚度為 20微米，制得成品總厚為140 μ m，不做ILC納米層阻隔結(jié)構(gòu)，性能如表3所示。
[0147] 實(shí)施例34
[0148] 本發(fā)明提供的超高阻隔光學(xué)聚酯膜，其中，A層的材料為PET ;B層材料的配比為 PTN切片83. 5%，MXD6為15%，異辛酸鈷鹽為1.5%，A層厚度為25微米，B層的厚度為5 微米，制得B/A/B三層總厚為35 μ m，通過ILC技術(shù)做層狀阻隔結(jié)構(gòu)，所述涂布層的材料配比 為XR-500 :5%，有機(jī)納米硅酸鹽：7. 81%，聚乙烯醇為87. 19%，所述聚乙烯醇（PVA)的醇 解度為100%，制得的C層的厚度為0. 08微米，性能如表3所示。
[0149] 實(shí)施例35
[0150] 本發(fā)明提供的超高