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      閃爍體面板的制作方法

      文檔序號:9932726閱讀:765來源:國知局
      閃爍體面板的制作方法
      【技術(shù)領(lǐng)域】
      [0001 ]本發(fā)明設(shè)及閃爍體面板。
      【背景技術(shù)】
      [0002] -直W來,在醫(yī)療現(xiàn)場廣泛使用了利用膜的X射線圖像。但是,利用了膜的X射線圖 像是模擬圖像信息,因此,近年來開發(fā)了計算機(jī)照射術(shù)(computed radiogra地y:CR)、平板 型放射線檢測器(flat panel detecto;r:FPD)等數(shù)字方式的放射線檢測裝置。
      [0003] FPD存在直接方式和間接方式。間接方式中,為了將放射線轉(zhuǎn)換成可見光而使用閃 爍體面板。閃爍體面板具備含有艦化飽等巧光體的閃爍體層作為構(gòu)成要素,根據(jù)所照射的X 射線,巧光體發(fā)出可見光,并利用TFT、CC明尋該發(fā)光轉(zhuǎn)換成電信號,從而將X射線的信息轉(zhuǎn)換 成數(shù)字圖像信息。
      [0004] 作為閃爍體層,已知有蒸鍛巧光體而得到的柱狀晶體,但其生產(chǎn)率存在課題。另 夕h形成糊劑狀巧光體粉末的涂布膜而制成閃爍體層的方法是簡便的,但會發(fā)生涂布膜內(nèi) 部的發(fā)光明顯散射、圖像清晰度降低運(yùn)一問題。
      [0005] 為了抑制該發(fā)光的散射問題,近年來提出了預(yù)先形成用于劃分閃爍體層的間隔壁 的方法(專利文獻(xiàn)^3)。
      [0006] 現(xiàn)有技術(shù)文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn) 專利文獻(xiàn)1:日本特開平5-60871號公報 專利文獻(xiàn)2:日本特開平5-188148號公報 專利文獻(xiàn)3:日本特開2011-007552號公報。

      【發(fā)明內(nèi)容】

      [0007] 發(fā)明要解決的課題 然而,間隔壁即使照射X射線也不會發(fā)光,因此,隨著間隔壁體積的增加而產(chǎn)生閃爍體 面板整體的發(fā)光量降低運(yùn)一嶄新的問題。為了解決該問題,還考慮了增加閃爍體層的厚度, 但現(xiàn)狀是:發(fā)光在閃爍體層內(nèi)部的散射變得顯著、無法使發(fā)光量有效增加。
      [000引因而,本發(fā)明的目的在于,提供能夠提高圖像的清晰度且獲得充分發(fā)光量的閃爍 體面板。
      [0009] 用于解決問題的手段 該課題通過如下閃爍體面板來實(shí)現(xiàn),所述閃爍體面板包含基板、形成在該基板上的間 隔壁、填充在被該間隔壁劃分開的單元內(nèi)的閃爍體層,所述閃爍體層含有巧光體,該閃爍體 層由巧光體的含有濃度不同的多個層構(gòu)成。
      [0010] 發(fā)明的效果 根據(jù)本發(fā)明的閃爍體面板,通過形成間隔壁而提高圖像的清晰度,并且通過有效地抑 制閃爍體層內(nèi)部的發(fā)光的散射等而能夠獲得充分的發(fā)光量。
      【附圖說明】
      [0011] 圖1為示意性地示出具備本發(fā)明的閃爍體面板的放射線檢測裝置的構(gòu)成的剖視 圖。
      [0012] 圖2為示意性地示出本發(fā)明的閃爍體面板的構(gòu)成的立體圖。
      [0013] 圖3為示意性地示出構(gòu)成本發(fā)明的閃爍體面板的間隔壁的截面的圖。
      【具體實(shí)施方式】
      [0014] W下,使用附圖,針對本發(fā)明的閃爍體面板的優(yōu)選構(gòu)成進(jìn)行說明,但本發(fā)明不限定 于此。
      [0015] 圖1是示意性地示出具備本發(fā)明的閃爍體面板的放射線檢測裝置的構(gòu)成的剖視 圖。放射線檢測裝置1包括閃爍體面板2、輸出基板3和電源部12。
      [0016] 圖2是示意性地示出本發(fā)明的閃爍體面板的構(gòu)成的立體圖。另外,圖3是示意性地 示出構(gòu)成閃爍體面板的間隔壁的截面的圖。W下,如圖3所示那樣,間隔壁的截面是指將間 隔壁沿著其高度方向且垂直于長度方向地切斷時的截面。
      [0017] 閃爍體面板2包括基板4、形成在基板4上的間隔壁6、W及被間隔壁6劃分開的單元 內(nèi)填充的閃爍體層(7(a)和7(b))。
      [0018] 此處,閃爍體層是指被間隔壁劃分開的單元內(nèi)填充的含有巧光體的層。構(gòu)成本發(fā) 明的閃爍體面板的閃爍體層包括巧光體的含有濃度不同的多個層。閃爍體層可W為3層W 上??蒞包含完全不含巧光體的層、即巧光體的含有濃度為0%的層。
      [0019] 基板4與間隔壁6之間優(yōu)選形成有緩沖層5。通過形成緩沖層5,能夠穩(wěn)定地形成間 隔壁6。另外,通過提高該緩沖層5相對于可見光的反射率,能夠使閃爍體層所含有的巧光體 的發(fā)光高效地到達(dá)輸出基板上3的光電轉(zhuǎn)換層9。
      [0020] 輸出基板3在基板11上具備光電轉(zhuǎn)換層9和輸出層10。光電轉(zhuǎn)換層9是由光傳感器 和TFT構(gòu)成的像素形成為二維狀而得到的。通過使閃爍體面板2的輸出面與輸出基板3的光 電轉(zhuǎn)換層9借助由聚酷亞胺樹脂等形成的隔膜層8進(jìn)行粘接或密合,從而構(gòu)成放射線檢測裝 置1。根據(jù)從外部的放射線源照射的放射線,閃爍體面板2的巧光體發(fā)出可見光,該發(fā)光到達(dá) 光電轉(zhuǎn)換層9并在光電轉(zhuǎn)換層9進(jìn)行光電轉(zhuǎn)換,通過輸出層10而輸出圖像數(shù)據(jù)。閃爍體層填 充于被間隔壁劃分開的單元內(nèi),因此,使配置成格子狀的光電轉(zhuǎn)換元件的像素大小和間距 與閃爍體面板的單元大小和間距相對應(yīng),配置光電轉(zhuǎn)換層9中的光電轉(zhuǎn)換元件,從而能夠防 止發(fā)光的散射對相鄰的單元造成影響。由此降低由發(fā)光的散射導(dǎo)致的圖像模糊(樂少),實(shí) 現(xiàn)清晰度高的圖像。
      [0021] 閃爍體層由巧光體的含有濃度不同的多個層構(gòu)成。用于使巧光體發(fā)光的X射線的 照射方向可W是基板側(cè)或其相反側(cè)中的任一側(cè),從基板側(cè)照射X射線時,優(yōu)選最接近基板一 側(cè)的層的巧光體的含有濃度最高。此時,為了獲得充分的發(fā)光量,最接近基板一側(cè)的層的巧 光體的含有濃度優(yōu)選為50% W上、更優(yōu)選為70% W上。
      [0022] 閃爍體層所包含的多個層之中,將巧光體的含有濃度最高的層稱為高濃度層。高 濃度層的厚度可根據(jù)巧光體的種類、形狀來適當(dāng)調(diào)整,優(yōu)選為120~500皿、更優(yōu)選為150~500 WIK進(jìn)一步優(yōu)選為180~400WI1。高濃度層的厚度不足120皿時,發(fā)光量變低。另一方面,高濃度 層的厚度超過500皿時,發(fā)光有可能在高濃度層內(nèi)被吸收或者發(fā)生散射。此處,高濃度層的 厚度是指,在閃爍體層的截面中,W高濃度層最接近基板的點(diǎn)作為起點(diǎn)且垂直于基板表面 的方向的高濃度層的寬度。針對構(gòu)成閃爍體層的高濃度層W外的層的厚度,也可W根據(jù)與 高濃度層的厚度相同的想法進(jìn)行測定。需要說明的是,如圖1所示那樣,閃爍體層的截面是 指將閃爍體面板的間隔壁沿著其高度方向且垂直于長度方向地切斷時觀察到的閃爍體層 的截面。
      [0023] 構(gòu)成閃爍體層的各層中的巧光體的含有濃度可W在精密研磨閃爍體層的截面后, 用電子顯微鏡進(jìn)行觀察并測定。更具體而言,對巧光體與巧光體W外(包括孔隙)的部分進(jìn) 行兩個灰度的圖像轉(zhuǎn)換,將巧光體在閃爍體層截面中所占的面積比例記作巧光體的含有濃 度。
      [0024] 形成閃爍體層的多個層之中,優(yōu)選至少一層為透光層。此處,透光層是指波長 550nm的光的總光線透過率即可見光透過率為15%W上的層。透光層的可見光透過率優(yōu)選為 30%W上、更優(yōu)選為50%W上。
      [0025] 透光層的可見光透過率可通過對預(yù)先制作的基于膜厚與透過率的關(guān)系的標(biāo)準(zhǔn)曲 線應(yīng)用透光層的厚度來算出。具體而言,在玻璃基板(例如0A-10;日本電氣硝子株式會社 審Ij)上,W干燥后的厚度分別達(dá)到50WH、100皿、150WH、200皿的方式,涂布用于形成透光層的 糊劑,WlOOC進(jìn)行熱風(fēng)干燥而得到固化膜。針對所得的各固化膜測定波長550nm的光的總 光線透過率,從而能夠基于膜厚與透過率的關(guān)系來制作標(biāo)準(zhǔn)曲線。形成透光層的材質(zhì)無法 制成糊劑時,用成型器計制作厚度為l〇〇wii、200wii、300wii的成型膜,針對所得的各成型膜測 定波長550nm的光的總光線透過率,從而能夠制作標(biāo)準(zhǔn)曲線。需要說明的是,膜的厚度可通 過接觸式或非接觸式的板厚計來測定。
      [0026] 透光層在閃爍體層中優(yōu)選形成在與X射線照射方向相反的一側(cè)。即,從基板側(cè)照射 X射線時,優(yōu)選在最靠近基板的一側(cè)設(shè)置高濃度層,并在最遠(yuǎn)離基板的一側(cè)設(shè)置透光層。通 過運(yùn)樣操作,由于最先入射X射線的高濃度層中的巧光體的含有濃度高,因此能夠獲得高發(fā) 光量,并且,由于接近輸出基板一側(cè)的透光層中的光透過率高,因此能夠抑制發(fā)光的吸收、 散射。由此,能夠使發(fā)光高效地到達(dá)輸出基板上的光電轉(zhuǎn)換層。
      [0027] 為了使巧光體的發(fā)光高效地到達(dá)光電轉(zhuǎn)換層,還優(yōu)選將閃爍體層截面的透光層上 表面的形狀制成凹狀。
      [0028] 作為透光層,可列舉出例如巧光體的含有濃度低的透明樹脂層、或者不含巧光體 的透明樹脂層。運(yùn)種層可通過使用提高了有機(jī)粘結(jié)劑的比例的巧光體糊劑來
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