卡環(huán)之間不存在連接面，也就不會在二者連接處造成泄露，無需額外設(shè)置密封結(jié)構(gòu)。相較于現(xiàn)有技術(shù)中需在連接面處設(shè)置凹槽放置保護透鏡2而言，由于采用一體式結(jié)構(gòu)，需保證保護透鏡2能夠放置于卡環(huán)內(nèi)，故設(shè)置臺階面，即卡環(huán)的內(nèi)壁包括呈階梯形的部分，臺階面呈環(huán)狀，且為傾斜面，也就是用于放置保護透鏡2的表面為傾斜面，進(jìn)而保護透鏡2放置于臺階面上也呈傾斜狀態(tài)。具體根據(jù)保護透鏡2上方部件的結(jié)構(gòu)可在卡環(huán)上分別設(shè)置多個臺階面，其與用于放置保護透鏡2的臺階面可以組合成內(nèi)徑依次減小的多級臺階。需要指出的是，上述及下文提到的傾斜指臺階面與水平面設(shè)置有大于零度的夾角，其具體傾斜角度的大小需根據(jù)保護透鏡2的折射率及厚度、以及透鏡組合的折射率和厚度等因素進(jìn)行具體設(shè)置，以使傾斜后的保護透鏡2的反射光不會返回再經(jīng)過透鏡組合產(chǎn)生干擾信號。
[0031]應(yīng)用本發(fā)明提供的激光氣體分析儀的卡環(huán)時，其具體可以設(shè)置于發(fā)射單元或接受單元，由于發(fā)射管卡環(huán)和清潔管卡環(huán)是一體結(jié)構(gòu)，且用于放置保護透鏡2的臺階面為傾斜面，因而臺階面與傾斜的透鏡兩個斜面的組合可以使發(fā)射出來的光經(jīng)過透鏡組合再經(jīng)過保護透鏡2的時候，透鏡組合和保護透鏡2相互反射，反射光不會再返回至透鏡組合上面，進(jìn)而不會造成干擾信號。外界信號干擾的減少，實現(xiàn)了更加精確的測量，以獲得誤差較小的數(shù)據(jù)。
[0032]具體的，根據(jù)常規(guī)的透鏡組合的折射率及厚度等可以設(shè)置臺階面與水平面的夾角范圍為2.95度-3.05度。當(dāng)然，對于某一卡環(huán)而言，其臺階面的傾斜角度應(yīng)為一確定的值，且該值在上述數(shù)值范圍內(nèi)。將傾斜角度設(shè)置為上述數(shù)值范圍內(nèi)，具體的可以設(shè)置臺階面與水平面的夾角為3度，在該傾斜狀態(tài)下，發(fā)射出的激光經(jīng)透鏡組合再經(jīng)過保護透鏡2時，反射光的方向改變，不會再反射至透鏡組合上，而是反射至發(fā)射接收管上，而發(fā)射接收管上可以涂設(shè)消光漆，進(jìn)而避免了信號干擾。當(dāng)然，根據(jù)透鏡的具體情況可以適當(dāng)調(diào)整臺階面的傾斜角度，使其對激光反射后不會返回至透鏡組合即可。
[0033]在上述各實施例的基礎(chǔ)上，臺階面上可以設(shè)置用于與保護透鏡2粘結(jié)的粘結(jié)層。也就是使用時，將保護透鏡2粘結(jié)于臺階面上即可。由于一體式結(jié)構(gòu)直接避免了發(fā)射管卡環(huán)與清潔管卡環(huán)連接面處的密封性問題，因而可以用石英玻璃(保護透鏡2)和卡環(huán)進(jìn)行相互粘貝占，即可保證整體結(jié)構(gòu)的密封性。因此，上述卡環(huán)使整體結(jié)構(gòu)的密封性能變得簡單，且能夠達(dá)到理想的密封效果。且采用上述卡環(huán)，在安裝時，僅需直接將保護透鏡2粘貼于臺階面上即可，安裝簡單，由原有技術(shù)中需兩個步驟減少為僅需黏貼一個步驟即可。
[0034]進(jìn)一步地，為了更有效的保證密封性，可以在臺階面上開設(shè)環(huán)狀凹槽，在環(huán)狀凹槽內(nèi)設(shè)置密封圈。環(huán)狀凹槽也即為了便于放置密封圈，在環(huán)形的臺階面上開設(shè)一圈凹槽。通過密封圈結(jié)合保護透鏡2與臺階面的粘結(jié)共同進(jìn)行密封，密封效果更為可靠。當(dāng)然，設(shè)置密封圈使得使用時卡環(huán)的安裝過程較為復(fù)雜，一般的通過設(shè)置粘結(jié)層將保護透鏡2與臺階面粘結(jié)即可保證儀器整體密封性，其結(jié)構(gòu)較為簡單。
[0035]更進(jìn)一步地，可以設(shè)置臺階面距離位于保護透鏡2上方的部件的最小距離等于保護透鏡2的厚度。也就是用于放置保護透鏡2的傾斜表面其到位于保護透鏡2上方的部件的距離應(yīng)是由小至大的，將最小距離設(shè)置為等于保護透鏡2的高度，則保護透鏡2設(shè)置于臺階面上述，其一端的頂端是與位于其上部的部件相齊的，進(jìn)而有效利用了空間，避免了傾斜設(shè)置后造成空間占用過大的問題，且相齊設(shè)置便于裝配。需要指出的是，此處保護透鏡2的高度并非指保護透鏡2的實際厚度，而是指其放置與臺階面上后由于是傾斜的而實際占據(jù)的高度，對于厚度均勻的保護透鏡2—般大于其厚度。
[0036]基于上述實施例中提供的激光氣體分析儀的卡環(huán)，本發(fā)明還提供了一種激光氣體分析儀，該激光氣體分析儀包括透鏡組合、保護透鏡2和卡環(huán)，透鏡組合、保護透鏡2的結(jié)構(gòu)請參考現(xiàn)有技術(shù)，此處不再贅述，卡環(huán)為上述實施例中任意一種卡環(huán)。由于該激光氣體分析儀采用了上述實施例中的卡環(huán)，所以該激光氣體分析的有益效果請參考上述實施例。
[0037]具體的，保護透鏡2可以與卡環(huán)的臺階面粘結(jié)，進(jìn)而有效保證密封性的同時簡化結(jié)構(gòu)及安裝過程。
[0038]為了避免反射光線產(chǎn)生干擾信號，可以在激光氣體分析儀的發(fā)射接收管上設(shè)置消光漆，進(jìn)而將反射至發(fā)射接收管上的光線吸收。當(dāng)然，也可以設(shè)置保護透鏡2的傾斜角度，保證其反射的光線不返回至透鏡組合即可顯著降低干擾信號，提高測試精度。
[0039]本說明書中各個實施例采用遞進(jìn)的方式描述，每個實施例重點說明的都是與其他實施例的不同之處，各個實施例之間相同相似部分互相參見即可。
[0040]對所公開的實施例的上述說明，使本領(lǐng)域?qū)I(yè)技術(shù)人員能夠?qū)崿F(xiàn)或使用本發(fā)明。對這些實施例的多種修改對本領(lǐng)域的專業(yè)技術(shù)人員來說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本發(fā)明的精神或范圍的情況下，在其它實施例中實現(xiàn)。因此，本發(fā)明將不會被限制于本文所示的這些實施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項】
1.一種激光氣體分析儀的卡環(huán)，包括設(shè)置于發(fā)射管外的發(fā)射管卡環(huán)和設(shè)置于清潔管外的清潔管卡環(huán);其特征在于，所述發(fā)射管卡環(huán)和所述清潔管卡環(huán)為一體式卡環(huán)，且所述一體式卡環(huán)內(nèi)壁上設(shè)置有用于放置保護透鏡的環(huán)狀的臺階面，所述臺階面為傾斜面。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光氣體分析儀的卡環(huán)，其特征在于，所述臺階面與水平面的夾角范圍為2.95度-3.05度。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的激光氣體分析儀的卡環(huán)，其特征在于，所述臺階面與水平面的夾角為3度。4.根據(jù)權(quán)利要求1-3任一項所述的激光氣體分析儀的卡環(huán)，其特征在于，所述臺階面上設(shè)置有用于與所述保護透鏡粘結(jié)的粘結(jié)層。5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的激光氣體分析儀的卡環(huán)，其特征在于，所述臺階面上開設(shè)有環(huán)狀凹槽，所述環(huán)狀凹槽內(nèi)設(shè)置有密封圈。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的激光氣體分析儀的卡環(huán)，其特征在于，所述臺階面距離位于所述保護透鏡上方的部件的最小距離等于所述保護透鏡的高度。7.一種激光氣體分析儀，包括透鏡組合、保護透鏡和卡環(huán)，其特征在于，所述卡環(huán)為如權(quán)利要求1-6任一項所述的卡環(huán)。8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光氣體分析儀，其特征在于，所述保護透鏡與所述卡環(huán)的臺階面粘結(jié)。9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的激光氣體分析儀，其特征在于，發(fā)射接收管上涂有消光漆。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種激光氣體分析儀的卡環(huán)，包括設(shè)置于發(fā)射管外的發(fā)射管卡環(huán)和設(shè)置于清潔管外的清潔管卡環(huán)；所述發(fā)射管卡環(huán)和所述清潔管卡環(huán)為一體式卡環(huán)，且所述一體式卡環(huán)內(nèi)壁上設(shè)置有用于放置保護透鏡的環(huán)狀的臺階面，所述臺階面為傾斜面。應(yīng)用本發(fā)明提供的激光氣體分析儀的卡環(huán)時，臺階面與傾斜的透鏡，兩個斜面的組合可以使發(fā)射出來的光經(jīng)過透鏡組合再經(jīng)過保護透鏡的時候，透鏡組合和保護透鏡相互反射，反射光不會再返回到透鏡組合上面，進(jìn)而不會造成干擾信號。外界信號干擾的減少，實現(xiàn)了更加精確的測量，以獲得誤差較小的數(shù)據(jù)。本發(fā)明還公開了一種包括上述卡環(huán)的激光氣體分析儀。
【IPC分類】G01N21/15, G01N21/01
【公開號】CN105651697
【申請?zhí)枴?br>【發(fā)明人】田波, 金多
【申請人】重慶川儀自動化股份有限公司
【公開日】2016年6月8日
【申請日】2015年12月11日