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      用于操作試劑的裝置和方法_2

      文檔序號:9915632閱讀:來源:國知局
      偵測能夠光學(xué)地例如通過測量熒光輻射或電地進(jìn)行。第一腔I與第三腔3通過第二腔2流體地相連。根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備還具有膜片12,該膜片優(yōu)選地布置在第一腔I中。在膜片12向著腔I中偏移時(shí),第一流體11的至少一部分從第一腔I中排擠到第二腔2中,從而第二流體21至少部分地從第二腔2中導(dǎo)入第三腔3中。
      [0018]通過第一腔I的相對于第一和第三腔2、3的大小而相應(yīng)預(yù)先設(shè)定的大小引起的是,在膜片12的向著第一腔I中的預(yù)先設(shè)定的偏移時(shí),通過將第一流體11從第一腔I中排擠到第二腔2中,如此多的第二腔流體21從第二腔2中排擠到第三腔3中,使得第三腔3完全地用第二流體21填充。在圖2中示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備的這種狀態(tài)。正如在圖2中表示地同樣示出的那樣,膜片12的向著第一腔I中的預(yù)先設(shè)定的偏移在該實(shí)施例中優(yōu)選地對應(yīng)膜片12的向著第一腔I中的最大可能的偏移,其中,所述最大可能的偏移通過第一腔I的設(shè)計(jì)方案而預(yù)先設(shè)定。優(yōu)選地,膜片12的偏移通過經(jīng)過流體的第一輸入線路14向著第一腔I中的壓力加載引起。由于膜片12向著第一腔I中的可能的偏移的限制,因而有利地不需要的是,在通過第二流體21完全地填滿了第三腔3之后,改變膜片12的壓力加載。因?yàn)槟て?2的繼續(xù)的偏移不可能,則流體21自動(dòng)地停止并且第三腔3保持利用第二流體21填充。
      [0019]在本發(fā)明的一個(gè)有利的改型方案中,流體的第一輸入線路14具有第一閥16,從而能夠在時(shí)間上調(diào)節(jié)膜片12的壓力加載。作為對第一閥16的替代方案或附加方案,流體的第一輸入線路14也能夠包括節(jié)流器16、22,以便尤其在時(shí)間上延遲第一膜片12的壓力加載。
      [0020]在本發(fā)明的一個(gè)尤其有利的改型中,根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10具有第四腔4,該腔包括第三流體41并且流體地與第三腔3相連。第三流體41例如指的是水、洗滌緩沖液或其它的清潔劑。優(yōu)選地,第四腔4能夠通過流體的第二輸入線路15利用壓力加載,從而第三流體41的至少一部分從第四腔4中導(dǎo)入第三腔3中。向著第四腔4中的流體的第二輸入線路15能夠同樣包括閥17和/或節(jié)流器17、23以用于控制或延遲壓力加載。在此尤其有利的是,流體的第一輸入線路14和流體的第二輸入線路15耦合至共同的流體的輸入線路13,該輸入線路導(dǎo)引到根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的外部的區(qū)域中。由此,僅必須設(shè)置一個(gè)外部的接口,例如氣動(dòng)的接頭,以用于運(yùn)行根據(jù)本發(fā)明的裝置10。
      [0021]在一個(gè)優(yōu)選的改型方案中,所述設(shè)備10具有第五腔5,該腔與第三腔3流體地相連。第五腔5能夠尤其用于容納傳導(dǎo)通過第三腔3的流體。優(yōu)選地,如此地設(shè)計(jì)第四腔4,使得在通過流體的第二輸入線路15所進(jìn)行的壓力加載時(shí),第三流體41的至少一部分從第四腔4中排擠到第三腔3中,并且在此,位于第三腔3中的流體尤其是第二流體21從第三腔3中排擠到第五腔5中。由此,有利地實(shí)現(xiàn)的是,在在試樣液與位于第三腔3中的偵測元件6的相互作用的預(yù)先設(shè)定的持續(xù)時(shí)間之后,試樣液通過其它的流體尤其是清洗流體例如水或洗滌緩沖液從第三腔3中排擠到第五腔5中。
      [0022]圖14示出了帶有使用根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的根據(jù)本發(fā)明的方法100的示例的工藝步驟的流程圖。也在圖1至4中繪出了方法過程的瞬時(shí)抓拍。在圖1中,第一腔I具有尚未偏移的膜片12以及第一流體11。第二腔2和第四腔4包括第二流體21或者說第三流體41。這對應(yīng)根據(jù)本發(fā)明的方法100的初始情況。在第一方法步驟101中進(jìn)行壓力加載并且由此進(jìn)行膜片12向著第一腔I中偏移,從而第一流體11至少部分地排擠到第二腔2中并且由此第二流體21至少部分地導(dǎo)入第三腔3中并且如圖2所示將該第三腔完全填滿。優(yōu)選地,第一方法步驟101通過在流體的第一輸入線路14中的第一閥16的開口而觸發(fā)。
      [0023]在能夠預(yù)先設(shè)定的持續(xù)時(shí)間期間,位于第三腔3中的第二流體21或者包含在第二流體21中的試樣組成部分與優(yōu)選地布置在第三腔3中的偵測元件6相互作用。緊接著,如圖3中所示,在第二方法步驟102中,通過通過流體的第二輸入線路15所進(jìn)行的壓力加載,第三流體41的至少一部分從第四腔4中如此地導(dǎo)入第三腔3中,使得位于第三腔3中的第二流體21排擠到第五腔5中。圖4示出的是,在第三方法步驟103中,如此久地繼續(xù)進(jìn)行通過流體的第二輸入線路15所進(jìn)行的壓力加載,直到所有的流體從第三腔3中排擠到第五腔5中。由此能夠有利地實(shí)現(xiàn)第三腔3的干燥。在一個(gè)有利的改型方案中,第五腔5具有流體的第一排出線路18,通過該排出線路能夠進(jìn)一步傳導(dǎo)位于第五腔5中的流體,尤其通過接口而進(jìn)入根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的外部的區(qū)域。
      [0024]圖5至8示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10作為層式系統(tǒng)的實(shí)施方式,其中,圖5表現(xiàn)為俯視圖,并且圖6和7表現(xiàn)為沿著在圖5中示出的剖線AA’或者說BB’的剖面。層式系統(tǒng)60包括第一聚合物基體62,該聚合物基體通過聚合物膜片63與第二聚合物基體64分離。在第一聚合物基體62的反置于聚合物膜片63的側(cè)上能夠安設(shè)例如同樣以膠粘膜為形式的蓋層61。例如,第一腔I和第二腔2以空隙的形式位于第二基體64中,而帶有優(yōu)選布置在里面的傳感器裝置6的第三腔3設(shè)置在第一聚合物基體62中。在此,聚合物膜片63的一部分用作膜片12,該膜片在通過流體的第一輸入線路14所進(jìn)行的壓力加載時(shí)向著第一腔I中延展,并且在此,第一流體11至少部分地排擠到第二腔2中。位于第二腔2中的第二流體21就此至少部分地導(dǎo)入第三腔3中。在圖8中示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備11的這種狀態(tài)。如在圖6中或者說7中所示,流體的輸入線路14、15和流體的第一排出線路18通過第一聚合物基體62和任選的蓋層61導(dǎo)引到在根據(jù)本發(fā)明的裝置60之外的區(qū)域中。
      [0025]圖7例如示出了在使用作為根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備60的層式系統(tǒng)時(shí)的根據(jù)本發(fā)明的方法的初始狀態(tài)。第一腔I和第二腔2利用第一流體11或者說利用第二流體21填充。圖8示出了在執(zhí)行第一方法步驟101之后的設(shè)備60的狀態(tài)。第一流體11通過聚合物膜片63向著第一腔I中的偏移而部分地導(dǎo)入第二腔2中并且就此將第二流體21的一部分從第二腔2中排擠。
      [0026]聚合物基體62、64優(yōu)選地是熱塑性塑料、例如聚碳酸酯(PC)、聚丙烯(PP)、聚乙烯(PE)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、環(huán)烯烴聚合物(C0P)、環(huán)烯烴共聚物(C0C)。聚合物膜片63優(yōu)選地是彈性體,尤其是熱塑性的彈性體,或者熱塑性塑料或熱膠粘膜。聚合物基體62、64的厚度優(yōu)選計(jì)為0.1mm至I cm,聚合物膜片62的厚度優(yōu)選計(jì)為0.005至0.5mm。將流體的腔相連的線路或通道優(yōu)選具有0.2至3mm的直徑。所述腔的體積優(yōu)選計(jì)為0.005至5ml。蓋層61優(yōu)選具有在0.01至0.2cm之間的厚度。
      [0027]圖9示出了根據(jù)本發(fā)明的設(shè)備10的實(shí)施方案,其中,設(shè)備10具有多個(gè)第一、第二和第四腔1、2、4以及第三腔和第五腔3、5。各一個(gè)第一腔I通過第二腔2與第三腔3流體地相連。第四腔4以及第五腔5同樣與第三腔3流體地相連。各一個(gè)帶有能夠偏移的膜片12的第一腔
      1、第二腔2和第四腔4就此形成了能夠擴(kuò)展的單元70。作為任選方案,單元70包括額外的閥或節(jié)流器16、17、22、23。這樣的單元70相應(yīng)實(shí)現(xiàn)了第二流體21的供給,該第二流體例如能夠包含有待偵測的試樣組成部分或者為執(zhí)行測定所需的物質(zhì)例如抗體,并且緊接著實(shí)現(xiàn)了第三流體41尤其清潔流體的向著布置在第三腔3中的裝置例如偵測元件6的供給。這允許了多個(gè)彼此交替的步驟的次序,即將有待研究的流體或其它的為執(zhí)行測定所需的物質(zhì)向著在第三腔3中的偵測元件6供給,以及使用相應(yīng)的第四腔4中的清洗液對偵測元件6的緊接的清潔過程。在圖9中通過展現(xiàn)η個(gè)單元70標(biāo)識了這些單元70中的多個(gè)的集成,其中
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