1.一種基于氰基丙烯酸酯改性指紋熏顯劑，其特征是所述的指紋熏顯劑是由氰基丙烯酸C1～4酯，叔丁基苯酚類聚合抑制劑，鄰苯二甲酸C1～12酯或氯代烷烴或C5～12烷烴組成，所述的氰基丙烯酸C1～4酯、叔丁基苯酚類聚合抑制劑、鄰苯二甲酸C1～12酯或氯代烷烴或C5～12烷烴的重量比分別依次為1：0.0001～0.05：0～20；
所述的氯代烷烴為二氯甲烷、三氯甲烷、四氯甲烷或二氯乙烷或它們的混合物。
2.如權利要求1所述的基于氰基丙烯酸酯改性指紋熏顯劑，其特征是所述的氰基丙烯酸C1～4酯為2-氰基丙烯酸甲酯、2-氰基丙烯酸乙酯或2-氰基丙烯酸丙酯或它們的混合物；所述的叔丁基苯酚類抑制劑為2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、4-叔丁基苯酚、2，4-二叔丁基苯酚、2，6-二叔丁基苯酚、2，4，6-三叔丁基苯酚或4-甲基-2,6-二叔丁基苯酚或它們的混合物；
所述的鄰苯二甲酸C1～12酯為鄰苯二甲酸二甲酯、鄰苯二甲酸二乙酯、鄰苯二甲酸二丙酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二戊酯、鄰苯二甲酸二己酯、鄰苯二甲酸二庚酯、鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二壬酯、鄰苯二甲酸二癸酯或它們的混合。
3.如權利要求1所述的基于氰基丙烯酸酯改性指紋熏顯劑，其特征是所述的指紋熏顯劑是由下述組分組成：
所述的氰基丙烯酸C1～4酯、叔丁基苯酚類聚合抑制劑的重量比分別依次為1：0.0001～0.05的二組分指紋熏顯劑；
或者所述的氰基丙烯酸C1～4酯，叔丁基苯酚類聚合抑制劑，鄰苯二甲酸C1～12酯或氯代烷烴或C1～4烷烴的重量比分別依次為1：0.0001～0.05：0.01～20的三組分指紋熏顯劑。
4.一種如權利要求1所述的基于氰基丙烯酸酯改性指紋熏顯劑的制備方法，其特征是在室溫下通過下述方法獲得：
1)向氰基丙烯酸C1～4酯加入叔丁基苯酚類聚合抑制劑，溶解混勻即可制得二組分指紋熏顯劑，所述的氰基丙烯酸C1～4酯、叔丁基苯酚類聚合抑制劑的重量比為1：0.0001～0.05；所述的氰基丙烯酸C1～4酯為氰基丙烯酸甲酯、氰基丙烯酸乙酯或氰基丙烯酸丙酯或它們的混合物；所述的叔丁基苯酚類抑制劑為2-叔丁基苯酚、3-叔丁基苯酚、4-叔丁基苯酚、2，4-二叔丁基苯酚、2，6-二叔丁基苯酚、2，4，6-三叔丁基苯酚或4-甲基-2,6-二叔丁基苯酚或它們的混合物；
2)向1)制得的二組分指紋熏顯劑中加入鄰苯二甲酸C1～12酯或氯代烷烴或C5～12烷烴，混勻即得三組分的指紋熏顯劑；所述的氰基丙烯酸C1～4酯，叔丁基苯酚類聚合抑制劑，鄰苯二甲酸酯或氯代烷烴或C1～4烷烴的重量比分別依次為1：0.0001～0.05：0.01～20。
5.如權利要求4所述的基于氰基丙烯酸酯改性指紋熏顯劑的制備方法，其特征是所述的鄰苯二甲酸C1～12酯為鄰苯二甲酸二甲酯、鄰苯二甲酸二乙酯、鄰苯二甲酸二丙酯、鄰苯二甲酸二丁酯、鄰苯二甲酸二戊酯、鄰苯二甲酸二己酯、鄰苯二甲酸二庚酯、鄰苯二甲酸二辛酯、鄰苯二甲酸二壬酯、鄰苯二甲酸二癸酯或它們的混合物；所述的氯代烷烴為二氯甲烷、三氯甲烷、四氯甲烷或二氯乙烷或它們的混合物。
6.如權利要求4所述的基于氰基丙烯酸酯改性指紋熏顯劑的制備方法，其特征是在氮氣保護下制備。
7.如權利要求4所述的基于氰基丙烯酸酯改性指紋熏顯劑的制備方法，其特征是所述的C5～12烷烴為戊烷、己烷、庚烷、辛烷、壬烷、癸烷、戊烷、己烷、庚烷、辛烷、十一烷、十二烷或它們的混合物。