，其中所述用于讀取的裝置包括用于在每個(gè)曝光周期 結(jié)束之前讀取象素值的裝置。
16. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的系統(tǒng)，其中在曝光周期期間讀取的所述帖的數(shù)量是整數(shù)。
17. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的X射線系統(tǒng)，還包括用于計(jì)算每個(gè)帖的增益和偏移校正的 裝置，和用于根據(jù)所述準(zhǔn)直儀的形狀、速度和位置計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子的裝置。
18. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，還被配置為通過校正和累加在曝光周期內(nèi)所有的帖 來產(chǎn)生曝光圖象。
19. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，還被配置為通過在讀取每個(gè)帖之后校正和累加最后 讀取的N個(gè)帖來產(chǎn)生曝光圖象。
20. 根據(jù)權(quán)利要求16所述的系統(tǒng)，還被配置為通過校正和累加在曝光周期內(nèi)讀取的帖 中所有的曝光象素來產(chǎn)生曝光圖象。
21. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的系統(tǒng)，還被配置為通過在讀取每個(gè)帖之后校正和累加最后 讀取的N個(gè)帖中所有的曝光象素來產(chǎn)生曝光圖象。
22. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子的裝 置包括用于將象素值乘W補(bǔ)償DPP差異的理論因子的裝置。
23. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子的裝 置包括用于獲得校準(zhǔn)帖的裝置和用于根據(jù)所述校準(zhǔn)帖計(jì)算每個(gè)象素的校準(zhǔn)因子的裝置。
24. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的系統(tǒng)，其中所述校準(zhǔn)帖包括多個(gè)帖的平均值。
25. 根據(jù)權(quán)利要求23所述的系統(tǒng)，其中所述校準(zhǔn)帖包括X射線放射開啟時(shí)捕獲的一個(gè) 帖和X射線放射關(guān)閉時(shí)捕獲的一個(gè)帖。
26. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子的裝 置包括用于計(jì)算雙線性校準(zhǔn)的裝置。
27. 根據(jù)權(quán)利要求17所述的X射線系統(tǒng)，還包括用于從所述校正的帖產(chǎn)生曝光圖象的 裝置和用于刷新所述曝光圖象的裝置。
28. 根據(jù)權(quán)利要求27所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于刷新的裝置包括對于所述圖象 的不同區(qū)域使用不同的刷新速率的裝置。
29. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于讀取的裝置包括用于順序地訪 問所述檢測器和從其讀取整個(gè)帖的裝置。
30. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的X射線系統(tǒng)，其中所述透射區(qū)域是與所述準(zhǔn)直儀中屯、同屯、 的圓形孔和與所述準(zhǔn)直儀旋轉(zhuǎn)中屯、同屯、并跨一定角度的圓形的一部分的形狀的孔的結(jié)合。
31. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的X射線系統(tǒng)，其中所述準(zhǔn)直儀還包括平衡配重。
32. 根據(jù)權(quán)利要求30所述的X射線系統(tǒng)，其中所述帖包括接收了第一劑X射線放射的 所述圓形孔的象素和接收了第二劑X射線放射的所述圓形孔周圍的準(zhǔn)直儀區(qū)域的象素，所 述第二劑包括所述第一劑的一部分，所述一部分與扇形角度和360度的比值成正比。
33. 根據(jù)權(quán)利要求32所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于讀取的裝置包括用于隨機(jī)地訪 問所述檢測器和從其讀取象素的裝置。
34. 根據(jù)權(quán)利要求33所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于讀取的裝置被配置為從與當(dāng)前 曝光的扇區(qū)相鄰的第一完全曝光的扇區(qū)讀取象素值，并在讀取之后重置所述象素。
35. 根據(jù)權(quán)利要求34所述的X射線系統(tǒng)，其中所述第一扇區(qū)的角度跨度被選擇為使得 讀取和重置所述第一扇區(qū)內(nèi)的象素所需的時(shí)間不超過所述準(zhǔn)直儀旋轉(zhuǎn)相同角度距離所需 的時(shí)間。
36. 根據(jù)權(quán)利要求34所述的X射線系統(tǒng)，還被配置為重置將要曝光的第二扇區(qū)內(nèi)的象 素值，所述第二扇區(qū)與當(dāng)前曝光的扇區(qū)相鄰。
37. 根據(jù)權(quán)利要求12所述的X射線系統(tǒng)，其中所述準(zhǔn)直儀還包括用于將所述檢測器與 所述準(zhǔn)直儀的旋轉(zhuǎn)同步的同步裝置。
38. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的系統(tǒng)，其中所述同步裝置包括構(gòu)造于所述準(zhǔn)直儀上通過光 傳感器的突出部。
39. 根據(jù)權(quán)利要求37所述的系統(tǒng)，其中所述同步裝置包括編碼器。
40. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于旋轉(zhuǎn)準(zhǔn)直儀的裝置包括在準(zhǔn)直 儀同屯、位置位置裝配于準(zhǔn)直儀頂部的第一滑輪；裝配于馬達(dá)上的第二滑輪；將所述第一滑 輪連接至所述第二滑輪的皮帶；與準(zhǔn)直儀同屯、的V型圓形軌道；W及與所述軌道的V形槽 連接的=個(gè)輪子，所述=個(gè)輪子的旋轉(zhuǎn)軸裝配于固定在X射線管的參考系的環(huán)形靜止部分 上。
41. 根據(jù)權(quán)利要求40所述的X射線系統(tǒng)，其中所述皮帶從W下組中選擇；扁平帶、圓形 帶、V型帶、多槽帶、有棱帶、薄膜帶和計(jì)時(shí)帶。
42. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于旋轉(zhuǎn)所述準(zhǔn)直儀的裝置包括齒 輪傳輸裝置。
43. 根據(jù)權(quán)利要求42所述的X射線系統(tǒng)，其中所述齒輪傳輸裝置從W下組中選擇；直 齒、螺旋、斜面、準(zhǔn)雙曲面齒輪、冠狀和螺紋齒輪。
44. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于旋轉(zhuǎn)所述準(zhǔn)直儀的裝置包括直 接與所述準(zhǔn)直儀的邊接觸的高摩擦旋轉(zhuǎn)表面柱。
45. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述用于旋轉(zhuǎn)所述準(zhǔn)直儀的裝置包括馬 達(dá)的轉(zhuǎn)子W及在其周圍的定子。
46. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述準(zhǔn)直儀包括固定的孔徑。
47. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述準(zhǔn)直儀包括可變的孔徑。
48. 根據(jù)權(quán)利要求47所述的X射線系統(tǒng)，包括用于裝配兩個(gè)同屯、的固定孔徑的準(zhǔn)直儀 的裝置，和用于將所述兩個(gè)準(zhǔn)直儀中的一個(gè)相對于另一個(gè)旋轉(zhuǎn)的裝置。
49. 根據(jù)權(quán)利要求48所述的X射線系統(tǒng)，包括用于將所述兩個(gè)準(zhǔn)直儀中的每一個(gè)獨(dú)立 旋轉(zhuǎn)的裝置。
50. 根據(jù)權(quán)利要求49所述的X射線系統(tǒng)，包括用于將所述兩個(gè)準(zhǔn)直儀中的每一個(gè)W不 同速度旋轉(zhuǎn)的裝置。
51. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，包括用于將所述準(zhǔn)直儀W可變的速度旋轉(zhuǎn)的 裝置。
52. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述準(zhǔn)直儀包括設(shè)計(jì)為用于在固定旋轉(zhuǎn) 速度下提供兩個(gè)不同的每象素放射劑量DPP的兩個(gè)區(qū)域的孔徑形狀。
53. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，其中所述準(zhǔn)直儀包括用于提供從所述準(zhǔn)直儀 中屯、的不同距離而不同級別的DPP的定性曝光配置。
54. 根據(jù)權(quán)利要求11所述的X射線系統(tǒng)，還包括眼球跟蹤器，所述系統(tǒng)被配置為跟蹤操 作者的注視，由此確定興趣區(qū)ROI并據(jù)此控制所述準(zhǔn)直儀。
55. -種在X射線系統(tǒng)中增強(qiáng)顯示的曝光圖象的方法，該系統(tǒng)包括X射線源、單個(gè)大體 上為圓形的準(zhǔn)直儀、檢測器、顯示器和用于將所述準(zhǔn)直儀圍繞大體上垂直于所述準(zhǔn)直儀的 平面的軸線旋轉(zhuǎn)的裝置；所述準(zhǔn)直儀由大體上不透射X射線放射的區(qū)域和透射X射線的區(qū) 域構(gòu)造，包括： 所述檢測器從所述X射線源捕獲圖象； 所述檢測器在所述準(zhǔn)直儀圍繞360度曝光周期旋轉(zhuǎn)期間整合信號； 從所述檢測器讀取包括象素值的帖； 計(jì)算每個(gè)帖的增益和偏移校正. 根據(jù)準(zhǔn)直儀的形狀、速度和位置計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子； 從所述校正的帖產(chǎn)生曝光圖象； W及刷新所述曝光圖象。
56. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述讀取包括在每個(gè)曝光周期結(jié)束時(shí)讀取象素 值。
57. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述讀取包括在整數(shù)個(gè)曝光周期結(jié)束時(shí)讀取象 素值。
58. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述讀取包括在每個(gè)曝光周期結(jié)束之前讀取象 素值。
59. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中在曝光周期期間讀取的帖數(shù)量是整數(shù)。
60. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述產(chǎn)生曝光圖象包括校正和累加在曝光周期 內(nèi)所有的帖。
61. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述產(chǎn)生曝光圖象包括在讀取每個(gè)帖之后校正 和累加最后讀取的N個(gè)帖。
62. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述產(chǎn)生曝光圖象包括校正和累加在曝光周期 內(nèi)讀取的帖中所有的曝光象素。
63. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述產(chǎn)生曝光圖象包括在讀取每個(gè)帖之后校正 和累加最后讀取的N個(gè)帖中所有的曝光象素。
64. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子包括將象素值乘 W補(bǔ)償DPP差異的理論因子。
65. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，其中所述計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子包括獲得校準(zhǔn)帖 和根據(jù)所述校準(zhǔn)帖計(jì)算每個(gè)象素的校準(zhǔn)因子。
66. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的方法，其中所述校準(zhǔn)帖包括多個(gè)帖的平均值。
67. 根據(jù)權(quán)利要求65所述的方法，其中所述校準(zhǔn)帖包括X射線放射開啟時(shí)捕獲的一個(gè) 帖和X射線放射關(guān)閉時(shí)捕獲的一個(gè)帖。
68. 根據(jù)權(quán)利要求64所述的方法，其中所述計(jì)算每個(gè)帖的規(guī)一化因子包括計(jì)算雙線性 校準(zhǔn)。
69. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述刷新包括對于所述圖象的不同區(qū)域使用不 同的刷新速率。
70. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述讀取包括順序地訪問所述檢測器和從其讀 取整個(gè)帖。
71. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，其中所述透射區(qū)域是與所述準(zhǔn)直儀中屯、同屯、的圓形 孔和與所述準(zhǔn)直儀旋轉(zhuǎn)中屯、同屯、并跨一定角度的圓形的一部分的形狀的孔的結(jié)合；其中所 述帖包括與接收了第一劑X射線放射的所述圓形孔的象素和接收了第二劑X射線放射的所 述圓形孔周圍的準(zhǔn)直儀區(qū)域的象素，所述第二劑包括所述第一劑的一部分，所述一部分與 扇形角度和360度的比值成正比； 所述讀取包括隨機(jī)地訪問所述檢測器和從其讀取象素。
72. 根據(jù)權(quán)利要求71所述的方法，其中所述讀取包括從與當(dāng)前曝光的扇區(qū)相鄰的第一 完全曝光的扇區(qū)讀取象素值，并在讀取之后重置所述象素。
73. 根據(jù)權(quán)利要求72所述的方法，其中所述第一扇區(qū)的角度跨度被選擇為使得讀取和 重置所述第一扇區(qū)內(nèi)的象素所需的時(shí)間不超過所述準(zhǔn)直儀旋轉(zhuǎn)相同角度距離所需的時(shí)間。
74. 根據(jù)權(quán)利要求71所述的方法，還包括重置將要曝光的第二扇區(qū)內(nèi)的象素值，所述 第二扇區(qū)與當(dāng)前曝光的扇區(qū)相鄰。
75. 根據(jù)權(quán)利要求55所述的方法，還包括跟蹤操作者的注視，由此確定興趣區(qū)ROI并據(jù) 此控制所述準(zhǔn)直儀。
【專利摘要】一種X射線系統(tǒng)，包括X射線源、單個(gè)大體上為圓形的準(zhǔn)直儀、照相機(jī)、檢測器和顯示器、用于將所述準(zhǔn)直儀在大體上與所述準(zhǔn)直儀的平面平行的平面上移動(dòng)的裝置；其中所述準(zhǔn)直儀包括允許所有放射通過的中心孔徑、用于根據(jù)材料和材料的厚度減少通過的放射量的外部圓環(huán)和在所述中心孔徑和所述外部圓環(huán)之間的內(nèi)部圓環(huán)，所述內(nèi)部圓環(huán)的厚度作為距離中心的距離的函數(shù)而改變，厚度開始于中心孔徑側(cè)的零，并結(jié)束于外部圓環(huán)側(cè)的外部圓環(huán)的厚度。
【IPC分類】A61B6-06, A61B6-00, A61B6-08
【公開號】CN104540452
【申請?zhí)枴緾N201380023437
【發(fā)明人】H·Z·梅爾曼
【申請人】控制輻射系統(tǒng)有限公司
【公開日】2015年4月22日
【申請日】2013年2月26日
【公告號】EP2822469A2, US20150023466, WO2013132387A2, WO2013132387A3, WO2013132387A4