用于疾病的治療和評估的頭戴裝置的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明設(shè)及用于施加電刺激至頭部區(qū)域的設(shè)備和方法，設(shè)及具有使用非侵入式電 刺激治療疾病的電極的頭戴裝置，設(shè)及被調(diào)適來評估疾病的頭戴裝置且設(shè)及結(jié)合運(yùn)種頭戴 裝置使用的電極配置。 發(fā)明概要
[0002] 根據(jù)本發(fā)明的一些教示，提供一種用于傳遞電刺激至用戶頭部皮膚表面的頭戴裝 置，所述頭戴裝置包括：(a)圓周式頭戴裝置主體，所述主體具有被調(diào)適來繞用戶的頭部圓 周配合的單體式框架，所述主體容納被調(diào)適來連接至電源的電路；所述頭戴裝置主體包括 彈性布置件，其被安置在頭戴裝置主體的圓周的至少一部分上；所述彈性布置件被調(diào)適來 沿著圓周拉緊；化）至少一個電極底座，其機(jī)械且至少半剛性地連接至頭戴裝置主體，且與 電路電關(guān)聯(lián)，電極底座被調(diào)適來接納至少一個電極墊；頭戴裝置主體和底座被調(diào)適來在被 用戶佩戴期間，使墊的電刺激表面朝向皮膚表面定向；彈性布置件被調(diào)適為使得在佩戴期 間，彈性布置件將電極底座朝向皮膚表面徑向推進(jìn)，使得電極墊與皮膚表面實(shí)體且電接觸； 彈性布置件和電極底座被調(diào)適為使得為了彈性布置件的不同程度拉緊，電極底座相對于框 架的圓周位置固定在唯一位置中。
[0003] 根據(jù)本發(fā)明的另一個方面，提供一種電極墊，其包括：(a)吸水層，其具有生物相 容性導(dǎo)電接觸表面，所述接觸表面被調(diào)適來抵靠皮膚表面并置；化）導(dǎo)電層，其具有附接至 吸水層的寬的第一面，導(dǎo)電層含有碳錐或碳膜，導(dǎo)電層被調(diào)適來經(jīng)由第一面將電流從位于 第一面遠(yuǎn)端的寬的第二層轉(zhuǎn)移至吸水層，吸水層和導(dǎo)電層形成一體化結(jié)構(gòu)。
[0004] 根據(jù)本發(fā)明的又一個方面，提供一種電極底座，其具有：(a)外殼，其包括底板和 圍繞底板的柔性圓周構(gòu)件，且具有大致在底板的周邊上方延伸的柔性圓周壁，壁終止于圓 周邊緣中；底板和柔性圓周構(gòu)件形成被調(diào)適來接納導(dǎo)電電極墊的腔；化）導(dǎo)電材料，其至少 部分被安置在底板上方或底板內(nèi)；導(dǎo)電層被調(diào)適來通過電導(dǎo)體電關(guān)聯(lián)至電路，且當(dāng)墊插入 時，在操作模式中與電極墊電連通；邊緣和柔性圓周壁，其被調(diào)適使得大致垂直于邊緣且朝 向用戶的皮膚表面抵靠電極底座施加的壓力抵靠皮膚表面推進(jìn)邊緣W基本上在腔與周圍 或外部環(huán)境之間流體密封。 陽0化]根據(jù)本發(fā)明的又一個方面，提供一種用于抵靠用戶的皮膚表面并置的生物相容電 極，所述電極包括：(a)吸水層，其具有生物相容接觸表面，所述接觸表面被調(diào)適來抵靠皮 膚表面并置；化）電極背襯，其附接至吸水層，背襯含有至少一個導(dǎo)電材料或元件，當(dāng)吸水 層填充水時，所述導(dǎo)電材料或元件在操作模式中與吸水層電連接；生物相容接觸表面具有： (U具有20mm至55mm的最大長度的長尺寸值L) ; (U)具有IOmm至25mm的最大長度的窄 尺寸值J;生物相容接觸表面的周邊的第一側(cè)具有大致凹輪廓，所述凹輪廓具有由被安置 在凹度的相對末端上的第一邊界點(diǎn)和第二邊界點(diǎn)界定的凹度，其中：
[0006] A/L> 0. 5mm
[0007]A是由線和凹度限定的面積；
[0008] L是邊界點(diǎn)之間的線的長度；長度（L)為至少IOmm;線被安置在凹輪廓上的第一 點(diǎn)與在與凹輪廓相對的一側(cè)上的周邊上的第二點(diǎn)之間，且在第一點(diǎn)上W垂直方式相對于輪 廓對準(zhǔn)，線具有長度H，且其中在凹輪廓的整體內(nèi)，
[0009] Hmax/Hmin《2. 5，
[0010] Hm。、是整體內(nèi)H的最大值；且 W11] 山。是整體內(nèi)H的最小值。
[0012] 根據(jù)本發(fā)明的又一個方面，基本上如本文中描述，提供在用戶的頭部上佩戴和定 位頭戴裝置的方法。
[0013] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的進(jìn)一步特征，圓周式頭戴裝置主體具有前部截 面，所述前部截面被調(diào)適來繞頭部的前部部分配合，且至少一個電極底座是被安置在前部 部分上的前部電極底座。
[0014] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，前部截面是與圓周式頭戴裝置主 體實(shí)體不同的前部機(jī)械元件。
[0015] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，前部機(jī)械元件的跨度為圓周式頭 戴裝置主體的圓周的最多40%、最多35%、最多30%或最多20%。
[0016] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，前部機(jī)械元件的跨度在圓周式頭 戴裝置主體的圓周的10%至40%、15%至40%、20%至40%、25%至40%或25%至35%的 范圍內(nèi)。
[0017] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的進(jìn)一步特征，圓周式頭戴裝置主體具有后部截 面，所述后部截面被調(diào)適來繞頭部的后部部分配合，且至少一個電極底座包括被安置在后 部部分上的后部電極底座。
[0018] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，后部截面是與圓周式頭戴裝置主 體實(shí)體不同的后部機(jī)械元件。
[0019] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，后部機(jī)械元件的跨度為圓周式頭 戴裝置主體的圓周的最多40%、最多35%、最多30%或最多20%。
[0020] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，后部機(jī)械元件的跨度在圓周式頭 戴裝置主體的圓周的10%至40%、15%至40%、20%至40%、25%至40%或25%至35%的 范圍內(nèi)。
[0021] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，前部機(jī)械元件和后部機(jī)械元件的 跨度共計(jì)為圓周的45%至75%、50%至75%、55%至75%或55%至70%。
[0022] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，框架包括至少半剛性側(cè)組件，所 述至少半剛性側(cè)組件兩側(cè)地安置在框架上且形成頭戴裝置主體的圓周的側(cè)部分。
[0023] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，側(cè)組件的跨度共計(jì)為圓周的15% 至50%、20%至50%、25%至50%、30%至50%、35%至50%或30%至45%。
[0024] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，每個側(cè)組件具有被安置為大致垂 直于圓周且被調(diào)適來在佩戴模式中配合在用戶的耳朵后方的元件。
[00巧]根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，側(cè)組件的圓周剛性超過前部截面 和后部截面的圓周剛性。
[00%] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，前部截面和后部截面的圓周彈性 超過側(cè)組件的圓周彈性。
[0027]根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，框架包括用于頭戴裝置主體的角 度和縱向定位的定位系統(tǒng)，所述定位系統(tǒng)包括至少一個至少半剛性側(cè)組件，所述側(cè)組件具 有：第一細(xì)長元件，其形成圓周的部分，且被調(diào)適來配合在用戶的耳朵上方，W確定縱向定 位；和第二元件，其被安置為大致垂直于細(xì)長元件，且被調(diào)適來配合在耳朵后方W確定頭戴 裝置主體的角度定位。
[0028] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，框架包括至少第一兩側(cè)尺寸調(diào)整 機(jī)構(gòu)，所述至少第一兩側(cè)尺寸調(diào)整機(jī)構(gòu)被調(diào)適來固定地調(diào)整頭戴裝置主體的圓周。
[0029] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，調(diào)整機(jī)構(gòu)是剛性或至少半剛性 的。
[0030] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，框架包括被調(diào)適來調(diào)整頭戴裝置 主體的圓周的第一兩側(cè)尺寸調(diào)整機(jī)構(gòu)和第二兩側(cè)尺寸調(diào)整機(jī)構(gòu)，所述第一調(diào)整機(jī)構(gòu)將側(cè)組 件連接至前部截面，且所述第二調(diào)整機(jī)構(gòu)將側(cè)組件連接至后部截面。
[0031] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，第一調(diào)整機(jī)構(gòu)和第二調(diào)整機(jī)構(gòu)被 調(diào)適來在側(cè)組件的圓周位置保持固定的同時，實(shí)現(xiàn)頭戴裝置主體的圓周的調(diào)整。
[0032] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，框架被調(diào)適為使得沿著圓周的長 度的至少30%、至少40%、至少50%或至少60%，框架基本上無彈性。
[0033] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，頭戴裝置主體被調(diào)適來相對于或 抵靠皮膚表面并置電裝置的接觸表面，彈性布置件被調(diào)適來將電裝置朝向皮膚表面徑向推 進(jìn)，使得電裝置的接觸表面實(shí)體接觸皮膚表面；彈性布置件被調(diào)適為使得為了彈性布置件 的各種程度的拉緊，電裝置的圓周位置固定在唯一位置中。
[0034] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，電裝置包括傳感器，所述傳感器 被調(diào)適來感測與用戶頭部相關(guān)的身體參數(shù)。
[0035] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，電極墊的吸水層包括選自由無紡 布、毛拉或海綿的組成的組的至少一種材料。
[0036]根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，導(dǎo)電層在位于吸水層遠(yuǎn)端的第二 面上具有導(dǎo)電層，所述導(dǎo)電層具有比導(dǎo)電層的本體高的導(dǎo)電性，運(yùn)個高導(dǎo)電層通常是導(dǎo)電 漆，其優(yōu)選地被安置為網(wǎng)格圖案。
[0037]根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，吸水層和具有導(dǎo)電漆層的導(dǎo)電層 形成一體化結(jié)構(gòu)。
[0038] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，導(dǎo)電碳膜或碳錐具有1至180歐 姆/平方或30至100歐姆/平方的電阻率。
[0039] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，導(dǎo)電碳膜或碳錐具有在30至 1500微米或50至200微米的范圍內(nèi)的厚度。
[0040] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，在電極底座的邊緣上圓周安置含 一定體積的多個密封指狀物，所述密封指狀物被調(diào)適為使得當(dāng)邊緣抵靠皮膚表面被推進(jìn) 時，多個密封指狀物基本上在體積與密封指狀物外部的體積之間密封。
[0041] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，邊緣包括圓周安置的多個密封指 狀物或基本上由圓周安置的多個密封指狀物組成，所述密封指狀物被調(diào)適為使得在相對于 電極底座底板按大致垂直方式施加壓力或施加壓力至皮膚表面時，多個密封指狀物基本上 在腔與邊緣外部的體積之間密封。
[0042] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，電極配置的比率A/L是至少 0. 2mm、至少0. 5mm、至少0. 7mm、至少1mm、至少1. 5mm或至少1. 7mm。
[0043] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，長度（L)是至少12mm、至少15mm、 至少18mm或至少20mm。
[0044] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，電極配置進(jìn)一步包括電極墊。
[0045] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，柔性圓周壁的內(nèi)表面具有徑向曲 率，且邊緣的內(nèi)表面與壁的內(nèi)表面的最徑向向內(nèi)點(diǎn)之間的徑向距離是至少1mm、至少3mm、 至少5mm或至少10mm。
[0046] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，運(yùn)個徑向距離在1至15mm，2mm至 12mm，2mm至IOmm或2mm至7mm的范圍內(nèi)。
[0047] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，柔性圓周壁的外表面具有徑向曲 率，且其中外表面的曲率的長度是至少1mm、至少2mm、至少3mm或至少5mm。
[0048] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，運(yùn)個外表面的曲率的長度在Imm 至15mm、2mm至IOmm或3mm至8mm的范圍內(nèi)。
[0049] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，電極配置進(jìn)一步包括施壓配置， 所述施壓配置與電極底座機(jī)械相關(guān)，且被調(diào)適來大致垂直于邊緣抵靠電極底座傳遞壓力。
[0050] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，電裝置包括被調(diào)適來從傳感器發(fā) 射信號的發(fā)射配置。
[0051] 根據(jù)所描述的優(yōu)選實(shí)施方案中的更進(jìn)一步特征，電極底座外殼包括柔性風(fēng)箱