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      基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng)、雙工件臺系統(tǒng)及測量系統(tǒng)的制作方法

      文檔序號:12175214閱讀:來源:國知局

      技術(shù)特征:

      1.一種基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,包括:

      主框架;

      對準(zhǔn)傳感器,所述對準(zhǔn)傳感器固定在所述主框架上;

      光強信號采集處理模塊,所述光強信號采集處理模塊獲取所述對準(zhǔn)傳感器輸出的光信號,將所述光信號轉(zhuǎn)換成數(shù)字電信號,并輸出所述數(shù)字電信號;

      反射鏡,所述反射鏡設(shè)置于所述對準(zhǔn)傳感器上;

      工件臺,所述對準(zhǔn)傳感器懸浮于所述工件臺的上方,所述工件臺用于放置一硅片,所述硅片包括一對準(zhǔn)標(biāo)記;

      位置采集模塊,所述位置采集模塊獲取所述反射鏡及所述工件臺的位置數(shù)據(jù),輸出所述反射鏡及所述工件臺的相對位置數(shù)據(jù);及

      對準(zhǔn)操作與管理模塊,所述對準(zhǔn)操作與管理模塊獲取所述數(shù)字電信號及所述相對位置數(shù)據(jù)并處理,計算出所述對準(zhǔn)標(biāo)記的對準(zhǔn)位置。

      2.如權(quán)利要求1所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,所述對準(zhǔn)傳感器內(nèi)的照明模塊提供紫外光或超紫外光對所述對準(zhǔn)標(biāo)記進行對準(zhǔn)照明輻射。

      3.如權(quán)利要求2所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,所述對準(zhǔn)傳感器內(nèi)包含有光電探測器,所述光電探測器探測并接收所述對準(zhǔn)標(biāo)記上的反射和衍射光束,輸出所述光信號。

      4.如權(quán)利要求1所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,所述位置采集模塊還包括一提供可見光光束的光源模塊。

      5.如權(quán)利要求4所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,所述光源模塊發(fā)射一第一可見光束到所述反射鏡,經(jīng)所述反射鏡后反射出一參考光束;同時,所述光源模塊發(fā)射一第二可見光束到所述工件臺,經(jīng)所述工件臺后反射出一測量光束。

      6.如權(quán)利要求5所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,所述 位置采集模塊還包括一光電系統(tǒng),所述光電系統(tǒng)接收所述參考光束,并生成參考光電信號。

      7.如權(quán)利要求5所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,所述光電系統(tǒng)接收所述測量光束,生成測量光電信號。

      8.如權(quán)利要求1所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng),其特征在于,所述對準(zhǔn)傳感器懸浮于所述工件臺中心的正上方。

      9.一種雙工件臺系統(tǒng),其特征在于,包括:如權(quán)利要求1-8中任意一項所述的基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng)、固定在所述主框架上的投影物鏡、與所述投影物鏡對應(yīng)的曝光位工件臺,所述基于相對位置測量的對準(zhǔn)系統(tǒng)中的工件臺為測量位工件臺。

      10.如權(quán)利要求9所述的雙工件臺系統(tǒng),其特征在于,所述投影物鏡懸浮于所述曝光位工件臺中心的正上方。

      11.一種測量系統(tǒng),其特征在于,包括:

      第一測量裝置,包括探測源,通過所述探測源發(fā)射測量信號至探測物,并獲得探測信號;

      第二測量裝置,用于探測上述探測源,并獲得影響上述探測信號正確率的擾動信號;

      信號處理裝置,用于接收上述探測信號,及上述擾動信號,通過上述擾動信號,修正上述探測信號。

      12.如權(quán)利要求11所述的測量系統(tǒng),其特征在于,所述第一測量裝置為對準(zhǔn)裝置,所述探測源為對準(zhǔn)傳感器,所述探測物為對準(zhǔn)標(biāo)記,所述測量信號為光信號。

      13.如權(quán)利要求12所述的測量系統(tǒng),其特征在于,所述第二測量裝置為位置采集模塊,所述擾動信號為上述對準(zhǔn)傳感器與所述探測物的相對位置數(shù)據(jù)。

      14.如權(quán)利要求13所述的測量系統(tǒng),其特征在于,所述位置采集模塊在上述對準(zhǔn)傳感器上設(shè)置有反射鏡,所述相對位置數(shù)據(jù)是通過所述反射鏡獲得的。

      15.如權(quán)利要求14所述的測量系統(tǒng),其特征在于,所述位置采集模塊還包括一光源模塊,所述光源模塊提供可見光光束。

      16.如權(quán)利要求15所述的測量系統(tǒng),其特征在于,所述光源模塊發(fā)射一第一可見光束到所述反射鏡,經(jīng)所述反射鏡后反射出一參考光束;同時,所述光源模塊發(fā)射一第二可見光束到所述探測物,經(jīng)所述探測物后反射出一測量光束。

      17.如權(quán)利要求16所述的測量系統(tǒng),其特征在于,所述位置采集模塊還包括光電轉(zhuǎn)換模塊,所述光電轉(zhuǎn)換模塊接受所述參考光束,并生成參考光電信號;所述光電轉(zhuǎn)換模塊接收所述測量光束,并生成測量光電信號;根據(jù)所述參考光電信號和所述測量光電信號,獲得所述對準(zhǔn)傳感器與所述探測物的相對位置數(shù)據(jù)。

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