本發(fā)明的實(shí)施方式涉及一種基板處理裝置。

背景技術(shù)：

在液晶顯示裝置等的制造工序中，使用基板處理裝置。該基板處理裝置為，在處理室內(nèi)向基板供給處理液(例如，藥液、清洗液等)，對基板的被處理面進(jìn)行處理。在基板處理裝置的處理室的頂棚上有時會附著處理液的液滴。當(dāng)附著于該頂棚的液滴從頂棚落下而附著于基板時，在基板干燥后，在基板上會形成污漬。并且，由于附著于頂棚的液滴含有附著于頂棚的垃圾等，因此容易產(chǎn)生上述污漬。成為該污漬的部位，在基板被制品化為液晶顯示裝置時會殘留于液晶畫面，該液晶顯示裝置成為不合格品。

因此，為了避免上述污漬的產(chǎn)生，而采用如下方法：使頂棚傾斜，使附著于頂棚的液滴不向基板側(cè)落下，而向處理室的端部回收。然而，即便使頂棚傾斜，基板變得越大，則頂棚的大小越變得越大。因此，附著于頂棚的液滴，在沿著頂棚到達(dá)處理室的端部之前，容易與其他液滴匯合，并通過重力(自重)而向基板側(cè)落下。由此，即使簡單地使頂棚傾斜，液滴有時也會在到達(dá)處理室的端部之前落下并附著于基板，因此會產(chǎn)生污漬。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：

本發(fā)明要解決的課題在于，提供能夠抑制污漬的產(chǎn)生的基板處理裝置。

本發(fā)明的實(shí)施方式的基板處理裝置具備：處理室，具有頂棚；以及槽，設(shè)置于處理室內(nèi)，承接從頂棚落下的液滴。頂棚形成為具有山部和谷部的形狀。頂棚的谷部沿著一個方向沿著，槽被設(shè)置為沿著谷部的延伸方向延伸。

根據(jù)上述實(shí)施方式的基板處理裝置，能夠抑制污漬的產(chǎn)生。

附圖說明

圖1是表示第一實(shí)施方式的基板處理裝置的概略構(gòu)成的圖。

圖2是表示第一實(shí)施方式的基板處理裝置的概略構(gòu)成的截面圖(圖1中的2-2線截面圖)。

圖3是表示第一實(shí)施方式的基板處理裝置的概略構(gòu)成的平面圖。

圖4是表示第一實(shí)施方式的頂棚板的設(shè)置角度、不滴液的距離以及頂棚罩的最大高度的關(guān)系的圖。

圖5示意性地表示第一實(shí)施方式的處理室的圖。

圖6是表示第二實(shí)施方式的基板處理裝置所具備的疊瓦構(gòu)造的槽的圖。

圖7是用于說明構(gòu)成第二實(shí)施方式的疊瓦構(gòu)造的槽的各槽的鉛垂分離距離的圖。

具體實(shí)施方式

＜第一實(shí)施方式＞

參照圖1至圖5對第一實(shí)施方式進(jìn)行說明。

(基本構(gòu)成)

如圖1所示那樣，第一實(shí)施方式的基板處理裝置1具備：用于對基板w進(jìn)行處理的處理室10；將處理室10內(nèi)的空氣排出的排氣部20；對基板w進(jìn)行搬運(yùn)的基板搬運(yùn)部30；以及向所搬運(yùn)的基板w供給處理液(例如，藥液或者清洗液)的處理液供給部40。此外，作為處理對象的基板w，例如使用玻璃等的矩形狀的基板。

處理室10為在內(nèi)部具有搬運(yùn)基板w的搬運(yùn)路h1的框體，并形成為基板w能夠沿著搬運(yùn)路h1在處理室10內(nèi)通過。如圖1以及圖2所示那樣，該處理室10具有頂棚罩11以及多個槽12。此外，在處理室10的底面，形成有排出處理液的排出口(未圖示)，從該排出口排出的處理液例如向存積箱(未圖示)等回收。

如圖2所示那樣，頂棚罩11的截面形成為三角波形狀，由多個頂棚板11a構(gòu)成。該頂棚罩11作為處理室10的頂棚起作用。各頂棚板11a被設(shè)置為，分別形成為長條的長方形，使各長邊方向沿著搬運(yùn)方向a1定位，并且，在與搬運(yùn)方向a1水平地正交的方向上反復(fù)形成山部t和谷部b。這些頂棚板11a固定在處理室10的搬運(yùn)方向a1兩側(cè)的壁上。作為各頂棚板11a的材料，例如能夠使用樹脂、玻璃、金屬等。此外，作為一個例子，頂棚罩11的各山部t的高度為一定。

各槽12形成為上部開口的長條的排水槽形狀。這些槽12中的兩個槽12為，使各自的長邊方向沿著搬運(yùn)方向a1而設(shè)置在頂棚罩11的谷部b的正下方。這兩個槽12沿著搬運(yùn)方向a1，例如傾斜為朝向搬運(yùn)方向a1的下游側(cè)而逐漸變低。此外，如圖3所示那樣，一個回收槽13設(shè)置在承接來自上述兩個槽12的處理液的位置，例如、處理室10的搬運(yùn)方向a1的下游側(cè)的端部。該回收槽13沿著與搬運(yùn)方向a1水平地正交的方向，例如傾斜為朝向處理室10的右側(cè)(圖3中)的側(cè)壁而逐漸變低。

在此，如圖2所示那樣，附著于頂棚罩11的頂棚板11a的液滴，當(dāng)由于重力而開始流動時，沿著頂棚板11a的下面朝向頂棚罩11的谷部b移動。當(dāng)該液滴從頂棚罩11的谷部b的下端落下時，通過位于該谷部b下方的槽12承接，并沿著該槽12的內(nèi)面流去。該液滴向上述的位于下游側(cè)的端部的回收槽13流入，沿著回收槽13的內(nèi)面流動而到達(dá)處理室10的內(nèi)側(cè)面，并沿著該內(nèi)側(cè)面流動并落下。

返回圖1，排氣部20經(jīng)由配管(未圖示)連接到處理室10內(nèi)，將處理室10內(nèi)的空氣排出。由此，在處理室10內(nèi)產(chǎn)生的霧被除去，能夠抑制霧附著于通過基板搬運(yùn)部30搬運(yùn)的基板w。例如，由于處理液供給部40供給的處理液與基板w碰撞而飛起，因此產(chǎn)生霧。

基板搬運(yùn)部30具有長條的多個搬運(yùn)輥31。這些搬運(yùn)輥31被設(shè)置為，各長邊方向與基板w的搬運(yùn)方向a1水平地正交，并以規(guī)定間隔排列以便形成搬運(yùn)路h1。各搬運(yùn)輥31被設(shè)置為能夠旋轉(zhuǎn)，并形成為相互同步地旋轉(zhuǎn)的構(gòu)造。該基板搬運(yùn)部30為，通過搬運(yùn)輥31的旋轉(zhuǎn)來搬運(yùn)載放于搬運(yùn)輥31上的基板w。

處理液供給部40具備以夾著搬運(yùn)路h1的方式設(shè)置在搬運(yùn)路h1的上下的第一處理液供給頭41以及第二處理液供給頭42。第一處理液供給頭41從上方位置朝向搬運(yùn)路h1、例如以淋浴狀排出處理液。此外，第二處理液供給頭42從下方位置避開搬運(yùn)輥31地朝向搬運(yùn)路h1、例如以淋浴狀排出處理液。該處理液供給部40從第一處理液供給頭41以及第二處理液供給頭42朝向搬運(yùn)路h1排出處理液，并在該搬運(yùn)路h1上移動的基板w的兩面(上面以及下面)供給處理液。

(頂棚板的設(shè)置角度以及使用個數(shù)的決定方法)

接下來，參照圖4對頂棚板11a的設(shè)置角度以及使用枚數(shù)的決定方法進(jìn)行說明。

如圖4所示那樣，預(yù)先通過實(shí)驗(yàn)等求出表示頂棚板11a的設(shè)置角度、不滴液的距離(液滴不落下而流動的距離)以及頂棚罩的最大高度的關(guān)系的數(shù)據(jù)。不滴液的距離隨著頂棚罩11的設(shè)置角度θ的增大而變長。其原因在于，由于附著于頂棚罩11的液滴流動的速度增加，因此到落下為止的移動距離變長。圖4的數(shù)據(jù)為，作為頂棚罩11的材料而假定為玻璃，在玻璃基板上附著多個水滴，按照每個玻璃基板的傾斜角度，通過實(shí)驗(yàn)求出到水滴落下為止的玻璃基板上的最短距離。在圖5中示意性地表示的處理室中，將裝置寬度設(shè)為a，將處理室高度設(shè)為b，將頂棚罩11的高度設(shè)為c，將處理室進(jìn)深(基板搬運(yùn)方向)長度設(shè)為d(未圖示)，將頂棚板11a相對于水平面的傾斜角度(銳角)設(shè)為θ。頂棚罩11的高度c是從頂棚罩11的谷部b到山部t為止的鉛垂的長度，裝置寬度a(處理室10的寬度)是處理室10的與搬運(yùn)方向a1正交的水平長度。以下，分別考慮為a＝2730mm、d＝3000mm。

不滴液的距離根據(jù)頂棚板11a的設(shè)置角度θ的增大而變長。頂棚罩11的最大高度根據(jù)下式求出(圖2參照)：

頂棚罩的最大高度＝頂棚板的長度l1×sinθ。

該頂棚罩11的高度c根據(jù)頂棚板11a的設(shè)置角度θ的增大額變高。此外，上述頂棚板11a的設(shè)置角度θ與不滴液的距離之間的關(guān)系通過實(shí)驗(yàn)而預(yù)先求出。

基于上述數(shù)據(jù)，決定頂棚板11a的設(shè)置角度θ以及頂棚板11a的使用個數(shù)。首先，根據(jù)處理室10的設(shè)置空間來決定頂棚罩11的高度允許范圍，基于該頂棚罩11的高度允許范圍的上限值來決定頂棚板11a的設(shè)置角度θ以及長度l1。當(dāng)該頂棚板11a的設(shè)置角度θ以及長度l1決定時，基于裝置寬度a來決定頂棚板11a的個數(shù)。但是，頂棚板11a的設(shè)置角度θ以及使用個數(shù)，根據(jù)頂棚板11a的材質(zhì)、所使用的處理液的種類等而改變。

在此，例如，在頂棚罩11的高度允許范圍的上限值為60mm的情況下，根據(jù)圖4所示的數(shù)據(jù)，作為一個例子將頂棚板11a的長度決定為300mm，以使頂棚板11a的設(shè)置高度小于60mm。在圖4的數(shù)據(jù)中，頂棚罩11的最大高度表示為17.65～104.19mm。在此，選擇最接近60mm的52.09mm的高度。在該情況下，由于頂棚板11a的長度為300mm，因此基于該300mm將頂棚板11a的設(shè)置角度決定為20度。然后，2730mm/(300mm×cos20°)＝約9.68，將頂棚板11a的個數(shù)決定為10個程度。

此外，與圖4所示的數(shù)據(jù)同樣，槽12的長度以及設(shè)置角度能夠預(yù)先通過實(shí)驗(yàn)等求出，并基于該實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)以不滴液的方式進(jìn)行決定。

(基板處理工序)

接下來，對上述基板處理裝置1進(jìn)行的基板處理工序進(jìn)行說明。

通過排氣部20對處理室10進(jìn)行排氣?；灏徇\(yùn)部30的各搬運(yùn)輥31旋轉(zhuǎn)，這些搬運(yùn)輥31上的基板w被沿著規(guī)定的搬運(yùn)方向a1搬運(yùn)，并沿著搬運(yùn)路h1移動。在該搬運(yùn)路h1中的液供給位置，從其上方通過第一處理液供給頭41預(yù)先供給處理液，并且，從下方還通過第二處理液供給頭42預(yù)先供給處理液。在該液供給狀態(tài)下，當(dāng)基板w通過搬運(yùn)路h1中的液供給位置時，向基板w的兩面(上面以及下面)供給處理液，基板w被處理液進(jìn)行處理。此時，從基板w的兩面落下的處理液從處理室10的底面的排出口排出。

在該基板處理工序中，由于來自基板w的液體飛濺、霧等，有時液滴附著于各頂棚板11a的下面。附著于頂棚板11a的下面的液滴，當(dāng)為某個程度的大小以上時、或者變成為某個程度的大小以上時，由于重力而開始移動。該液滴根據(jù)重力而沿著頂棚板11a的下面移動，并以向頂棚罩11的谷部b的下端集中的方式流動。然后，到達(dá)谷部b的液滴，當(dāng)從頂棚罩11的谷部b的下端落下時，由位于該谷部b的正下方的槽12接受。由槽12接受的液滴，直接沿著槽12的內(nèi)面(上面)流去，并向位于該槽12的下游端的回收槽13流入。向該回收槽13流入的液滴，直接沿著回收槽13的內(nèi)面流去，當(dāng)?shù)竭_(dá)處理室10的內(nèi)側(cè)面時，沿著其內(nèi)側(cè)面流動并落下。

如此，附著于頂棚板11a的下面的液滴，在由于重力而落下之前到達(dá)頂棚罩11的谷部b的下端。即，附著于頂棚板11a的下面的液滴，在由于重力而落下之前向谷部b的下端集中，當(dāng)從該谷部b的下端落下時，由槽12接受。由此，附著于頂棚板11a的下面的液滴，不向基板w側(cè)落下，而流到頂棚罩11的谷部b的下端，因此能夠抑制液滴向基板w上落下，能夠抑制由與液體向基板w附著導(dǎo)致的污漬的產(chǎn)生。

此外，當(dāng)頂棚板11a的設(shè)置角度變大、或者頂棚板11a的長度變長時，頂棚罩11的高度變高，裝置整體會大型化。此外，在萬一液滴落下的情況下，頂棚罩11的高度越高，則向基板w落下時的沖擊變得越強(qiáng)，因此有時由于其沖擊而在基板w上形成的液膜的厚度紊亂而變得不均勻，處理也會變得不均勻。并且，當(dāng)頂棚罩11的高度變高時，與此相伴隨處理室10的體積變大，因此排氣所需要的力變大。或者，產(chǎn)生僅處理室10內(nèi)的一部分被排氣、處理室10內(nèi)的從排氣口(未圖示)遠(yuǎn)離的位置未被充分排氣等問題。由于這些情況，優(yōu)選避免使頂棚變高。

因此，通過在實(shí)現(xiàn)抑制污漬的產(chǎn)生的同時，使頂棚板11a的設(shè)置角度變小或者使頂棚板11a的長度變短，由此能夠抑制頂棚罩11的高度、即處理室10的高度，能夠?qū)崿F(xiàn)設(shè)置空間化。并且，即使萬一液滴向基板w落下，也能夠使對基板w賦予的沖擊減小，能夠抑制基板w的處理變得不均勻。此外，通過抑制頂棚罩11的高度，由此能夠較小處理室10的體積，因此能夠使排氣部20的排氣效率提高。作為其結(jié)果，能夠?qū)⑻幚硎?0內(nèi)的霧可靠地除去，能夠更可靠地抑制由于液體向基板w附著而引起的污漬的產(chǎn)生。

如以上說明的那樣，根據(jù)第一實(shí)施方式，頂棚罩11形成為具有山部t和谷部b的形狀，槽12被設(shè)置為，從頂棚罩11的谷部b的正下方沿著水平方向，例如朝向處理室10的內(nèi)側(cè)面延伸。因此，附著于頂棚板11a的下面的液滴，在由于重力而落下之前到達(dá)頂棚罩11的谷部b的下端，并從該下端落下而由槽12承接。由此，液滴不會向基板w側(cè)落下，而沿著槽12流到處理室10的端部，因此能夠抑制由于液滴向基板w附著而引起的污漬的產(chǎn)生。此外，槽12沿著水平方向延伸的情況，包括槽12沿著水平方向平行地延伸的情況、稍微傾斜地延伸的情況等。

＜第二實(shí)施方式＞

參照圖6以及圖7對第二實(shí)施方式進(jìn)行說明。此外，在第二實(shí)施方式中，對于與第一實(shí)施方式的不同點(diǎn)(槽12的構(gòu)造)進(jìn)行說明，省略其他的說明。

如圖6所示那樣，第二實(shí)施方式的槽12由多個槽12a構(gòu)成。這些槽12a被設(shè)置為，以相同的傾斜角度傾斜而相互平行對配置，并在相同的傾斜方向上排列。在傾斜方向上相鄰接的兩個槽12a被設(shè)置為，較高位置的槽12a的一部分與較低位置的槽12a的一部分不接觸地重疊、即較高位置的槽12a的較低側(cè)的端部b1非接觸地覆蓋較低位置的槽12a的較高側(cè)的端部b2。該端部b1與端部b2之間的鉛垂分離距離，例如被設(shè)定為1cm程度。

在基板處理工序中，由于來自基板w的液體飛濺、霧等，有時液滴會附著于各槽12a的下面。附著于槽12a的下面的液滴，當(dāng)為某個程度的大小以上時、或者變成為某個程度的大小以上時，通過重力而開始移動。該液滴根據(jù)重力而沿著槽12a的下面移動，并從該槽12a的端部b1的下面向其相鄰的槽12a的端部b2的上面(內(nèi)面)轉(zhuǎn)移。然后，轉(zhuǎn)移到端部b2的上面的液滴，沿著槽12a的上面流去。此外，在槽12為沿著搬運(yùn)方向a1的槽的情況下，附著于最下游的槽12a的下面的液滴，沿著其下面移動，并直接向其他槽12a流入。此外，在槽12為沿著與搬運(yùn)方向a1水平地正交的方向的槽的情況下，附著于最下游的槽12a的下面的液滴，沿著其下面到達(dá)處理室10的內(nèi)側(cè)面，并沿著其內(nèi)側(cè)面流動并落下。

如此，附著于槽12a的下面的液滴，在由于重力而落下之前到達(dá)相鄰的槽12a的上面，并在其上面流動而變得不會向基板w側(cè)落下。由此，附著于槽12a的下面的液滴，不向基板w側(cè)落下，而沿著各槽12a流到處理室10的端部，因此能夠抑制液滴向基板w上落下，能夠可靠地抑制由于液體向基板w附著而引起的污漬的產(chǎn)生。

如以上說明的那樣，根據(jù)第二實(shí)施方式，能夠得到與第一實(shí)施方式同樣的作用效果。并且，各槽12a被設(shè)置為，層疊為瓦狀而傾斜，在傾斜方向上相鄰接的兩個槽12a中，較高位置的槽12a的較低側(cè)的端部b1非接觸地覆蓋較低位置的槽12a的較高側(cè)的端部b2。因此，在傾斜方向上相鄰接的兩個槽12a中，附著于較高位置的槽12a的下面的液滴沿著其下面移動，在由于重力而落下之前向較低位置的槽12a的上面轉(zhuǎn)移，并沿著其上面移動。由此，液滴不會向基板w側(cè)落下，而沿著各槽12a流到處理室10的端部，因此能夠更可靠地抑制由于液體向基板w附著而引起的污漬的產(chǎn)生。

(在傾斜方向上相鄰接的兩個槽的鉛垂分離距離)

此外，在傾斜方向上相鄰接的兩個槽12a中，較高位置(上方)的槽12a的端部b1與較低位置(下方)的槽12a的端部b2之間的鉛垂分離距離，被設(shè)定為1cm程度，這些的端部b1與端部b2平行，但是不限定于此。只要水滴從較高位置的槽12a的端部b1向較低位置的槽12a的端部b2轉(zhuǎn)移的部分為1cm程度即可。

詳細(xì)地說，如圖7的左側(cè)所示那樣，在傾斜方向上相鄰接的兩個槽12a中，液滴流出的流出路徑(由端部b1和端部b2形成的流出路徑)的第一鉛垂分離距離c1的高度方向的尺寸、以及該流出路徑的第二鉛垂分離距離c2的高度方向的尺寸，相同為1cm程度。但是，并不限定于此，例如，能夠如圖7的右側(cè)所示那樣，將第一鉛垂分離距離c1的高度方向的尺寸維持為1cm程度，并使第二鉛垂分離距離c2的高度方向的尺寸小于第一鉛垂分離距離c1的高度方向的尺寸。在該情況下，端部b1與端部b2之間的鉛垂分離距離，沿著傾斜方向朝向處理室10的外部、即沿著液滴的流動方向逐漸變短，流出路徑在液滴的流動方向上逐漸變窄。

如此，在使第二鉛垂分離距離c2小于第一鉛垂分離距離c1的情況下，能夠使由多個槽12a構(gòu)成的槽12在處理室10內(nèi)的高度變低。如此，通過使槽12在處理室10內(nèi)的高度盡量變低，能夠防止由于槽12的高度而不得不將頂棚11的設(shè)置高度設(shè)定得較高的情況，進(jìn)而能夠防止基板處理裝置1本身的高度變高。

此外，在圖7的右側(cè)，在傾斜方向上相鄰接的兩個槽12a中，較低位置的槽12a在中途折彎，并具有兩個傾斜角度(例如，10、20度)。在該較低位置的槽12a中，當(dāng)將傾斜角度較大的部分設(shè)為第一部分、將傾斜角度較小的部分設(shè)為第二部分時，第二部分比第一部分更接近于水平，因此在該第二部分中容易產(chǎn)生滴液。

因此，第二部分的長度為，與圖4所示的數(shù)據(jù)同樣地預(yù)先通過實(shí)驗(yàn)等求出，并基于該數(shù)據(jù)決定為不產(chǎn)生滴液，但是優(yōu)選為盡量短。此外，較低位置的槽12a在中途折彎，但并不限定于此，例如也可以以彎曲的方式形成。

此外，也可以將槽12a設(shè)置為，第二鉛垂分離距離c2為1cm程度，第一鉛垂分離距離c1為1cm以上。如此，通過使第一鉛垂分離距離c1成為1cm以上，由此即使流動比假定更大的水滴，該水滴也不會在第一鉛垂分離距離c1部分與位于下方的槽12a的端部b2接觸而向基板w上落下，能夠使其可靠地向端部b2側(cè)轉(zhuǎn)移。

(其他實(shí)施方式)

在上述各實(shí)施方式中，例示了在通過藥液、清洗液等處理液對基板w(例如，形成有圖案膜的基板w)進(jìn)行處理的處理室10中應(yīng)用上述構(gòu)造的頂棚罩11的情況，但并不限定于此，例如，也能夠應(yīng)用于使基板w干燥的干燥室等各種處理室。此外，例如，在連續(xù)地設(shè)置有通過藥液進(jìn)行處理的藥液室、通過清洗液進(jìn)行清洗處理的清洗室、以及通過噴吹氣體來進(jìn)行干燥的干燥室的情況下，還能夠作為這些室共通的頂棚罩，而設(shè)置上述構(gòu)造的頂棚罩11。

此外，在上述各實(shí)施方式中，例示了在處理室10的搬運(yùn)方向a1兩側(cè)的壁上固定頂棚板11a的情況，但并不限定于此，例如，在不存在該兩側(cè)的壁的情況等下，也能夠設(shè)置對頂棚板11a進(jìn)行支撐的支撐部。此外，在存在兩側(cè)的壁的情況下，這些壁作為支撐部起作用。

此外，在上述各實(shí)施方式中，例示了使用與搬運(yùn)方向a1正交的截面為三角波形狀的頂棚罩11的情況，但并不限定于此，能夠使用具有山部t和谷部b的各種形狀的頂棚罩。例如，能夠使用與搬運(yùn)方向a1平行的截面為三角波形狀的頂棚罩、山部t以及谷部b的某一方或者雙方為彎曲形狀的頂棚罩、或者山部t、谷部b以點(diǎn)狀存在那樣的頂棚罩。此外，在使用山部t、谷部b以點(diǎn)狀存在那樣的頂棚罩的情況下，沿著槽12的延伸方向排列地設(shè)置。

此外，在上述各實(shí)施方式中，例示了頂棚罩11的各山部t的高度為一定的情況，但并不限定于此，例如，也能夠使頂棚罩11的各山部t的高度不均勻，能夠使各山部t的一部分的高度不同、或者各山部t的全部的高度不同。此外，例示了在一個方向上延伸的山部t的上端、谷部b的下端為水平的情況，但并不限定于此，其也可以傾斜。此外，各頂棚板11a的尺寸也可以不同。

此外，在上述各實(shí)施方式中，例示了由多個頂棚板11a構(gòu)成頂棚罩11的情況，但并不限定于此，例如，也能夠由一個板來構(gòu)成頂棚罩11。作為一個例子，能夠向模具等中流入樹脂、金屬等材料，并形成無連接位置的一體的頂棚罩11。

此外，在頂棚板11a、槽12a的兩面(上面以及下面)上，還能夠形成使?jié)櫇裥蕴岣叩哪ぁＭㄟ^使頂棚板11a、槽12a的潤濕性提高，由此能夠使不滴液的距離變長，能夠減少應(yīng)使用的頂棚板11a、槽12a的數(shù)量。此外，能夠減小頂棚、槽的設(shè)置角度，能夠成為全高更低的裝置。

此外，在上述各實(shí)施方式中，例示了通過回收槽13接受來自槽12的處理液的情況，但并不限定于此，例如，也可以使處理液在槽12的端部沿著處理室10的壁面流動?；蛘撸部梢詫⒉?2本身以折彎的方式形成，并兼具有回收槽的作用?；蛘?，形成使多個槽12的端部連結(jié)的部分，并將其作為回收槽。由此，能夠減少構(gòu)成裝置的部件。

此外，在上述各實(shí)施方式中，說明了在液晶顯示裝置的制造工序中使用本發(fā)明的實(shí)施方式的情況，但并不限定于此，也能夠應(yīng)用于半導(dǎo)體制造裝置等其他的在處理室內(nèi)中使用處理液進(jìn)行處理的裝置。

以上，對本發(fā)明的幾個實(shí)施方式進(jìn)行了說明，但這些實(shí)施方式是作為例子提示的，不意圖限定發(fā)明的范圍。這些新的實(shí)施方式能夠以其他各種方式來實(shí)施，在不脫離發(fā)明的主旨的范圍內(nèi)能夠進(jìn)行各種省略、置換、變更。這些實(shí)施方式、其應(yīng)變包含于發(fā)明的范圍、主旨，并且包含于專利請求的范圍記載的發(fā)明和其等同的范圍。