1.一種彩膜基板的制造方法，其特征在于，包括：
在襯底基板的第一側(cè)制作形成金屬層以及第一對(duì)位標(biāo)記；
在所述襯底基板的第二側(cè)制作形成第二對(duì)位標(biāo)記，所述第一對(duì)位標(biāo)記在所述襯底基板上的垂直投影與所述第二對(duì)位標(biāo)記在所述襯底基板上的垂直投影完全重疊，所述第一側(cè)和所述第二側(cè)為所述襯底基板相對(duì)的兩側(cè)；
在所述襯底基板的第二側(cè)和所述第二對(duì)位標(biāo)記上沉積用于形成黑色矩陣層的膜層；
利用機(jī)臺(tái)檢測(cè)所述襯底基板的第二側(cè)上膜層的段差，并根據(jù)所述段差進(jìn)行對(duì)位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述金屬層包括觸控電極層。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，所述第二對(duì)位標(biāo)記的厚度大于或者等于1um。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的制造方法，其特征在于，在襯底基板的第一側(cè)制作形成金屬層以及第一對(duì)位標(biāo)記，包括：
在所述襯底基板的一側(cè)沉積一層金屬層；
對(duì)所述金屬層執(zhí)行一次圖案化處理，在所述襯底基板上形成所述觸控電極層和所述第一對(duì)位標(biāo)記。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，在所述襯底基板的第二側(cè)制作形成第二對(duì)位標(biāo)記，包括：
在所述襯底基板的第二側(cè)沉積一層透明膜層；
利用機(jī)臺(tái)確定所述第一對(duì)位標(biāo)記在所述襯底基板上的垂直投影的區(qū)域，以作為目標(biāo)區(qū)域，所述機(jī)臺(tái)根據(jù)所述目標(biāo)區(qū)域的中心點(diǎn)進(jìn)行對(duì)位，并在完成對(duì)位后對(duì)所述透明膜層執(zhí)行一次圖案化處理，在所述襯底基板上所述目標(biāo)區(qū)域的位置形成所述第二對(duì)位標(biāo)記。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的制造方法，其特征在于，利用機(jī)臺(tái)確定所述第一對(duì)位標(biāo)記在所述襯底基板上的垂直投影的區(qū)域，包括：
利用機(jī)臺(tái)在所述襯底基板的第二側(cè)上指定的坐標(biāo)范圍內(nèi)移動(dòng)，并在移動(dòng)過(guò)程中采集圖像，以及，根據(jù)采集到的圖像確定所述第一對(duì)位標(biāo)記在所述襯底基板上的垂直投影的區(qū)域。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，利用機(jī)臺(tái)檢測(cè)所述襯底基板的第二側(cè)上膜層的段差，并根據(jù)所述段差進(jìn)行對(duì)位，包括：
利用機(jī)臺(tái)在所述襯底基板的第二側(cè)上指定的坐標(biāo)范圍內(nèi)移動(dòng)，并在移動(dòng)過(guò)程中檢測(cè)并記錄下所述第二側(cè)上膜層的段差，并根據(jù)檢測(cè)并記錄下的段差確定所述第二對(duì)位標(biāo)記與所述用于形成黑色矩陣層的膜層的重疊區(qū)域的中心點(diǎn)；
所述機(jī)臺(tái)根據(jù)所述中心點(diǎn)進(jìn)行對(duì)位。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造方法，其特征在于，還包括：
對(duì)用于形成黑色矩陣的膜層執(zhí)行一次圖案化處理，在所述襯底基板的第二側(cè)形成所述黑色矩陣層。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的制造方法，其特征在于，還包括：在所述襯底基板的所述第二側(cè)形成彩色色阻層。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的制造方法，其特征在于，所述襯底基板為透明基板。
11.一種彩膜基板，其特征在于，包括：
在襯底基板的第一側(cè)的金屬層以及第一對(duì)位標(biāo)記；
在所述襯底基板的第二側(cè)的第二對(duì)位標(biāo)記，所述第一對(duì)位標(biāo)記在所述襯底基板上的垂直投影與所述第二對(duì)位標(biāo)記在所述襯底基板上的垂直投影完全重疊，所述第一側(cè)和所述第二側(cè)為所述襯底基板相對(duì)的兩側(cè)；
在所述襯底基板的第二側(cè)和所述第二對(duì)位標(biāo)記上設(shè)置的黑色矩陣層。
12.一種顯示裝置，其特征在于，包括：
如權(quán)利要求11所述的彩膜基板；
陣列基板；
位于所述彩膜基板與所述陣列基板之間的液晶。
13.一種顯示裝置的制造方法，其特征在于，包括：
利用權(quán)利要求1至10中任一所述的彩膜基板的制造方法制造彩膜基板；
制造陣列基板；
采用液晶注入工藝在所述彩膜基板和所述陣列基板之間注入液晶并成盒。
14.根據(jù)權(quán)利要求13所述的制造方法，其特征在于，還包括：
對(duì)所述第一對(duì)位標(biāo)記和所述第二對(duì)位標(biāo)記的切割工藝。