一種基板及陣列基板的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種基板及陣列基板。
【背景技術(shù)】
[0002]液晶顯示裝置包括陣列基板，陣列基板包括顯示區(qū)域和位于顯示區(qū)域邊緣的驅(qū)動區(qū)域，其中，顯示區(qū)域內(nèi)設(shè)置有交叉的柵線和數(shù)據(jù)線；驅(qū)動區(qū)域內(nèi)設(shè)置有位于數(shù)據(jù)線的延伸方向上的數(shù)據(jù)信號綁定區(qū)、連接數(shù)據(jù)線和數(shù)據(jù)信號綁定區(qū)的數(shù)據(jù)線引線、位于柵線的延伸方向上或位于數(shù)據(jù)線的延伸方向上的柵極信號綁定區(qū)、連接?xùn)啪€和柵極信號綁定區(qū)的柵線引線、位于驅(qū)動區(qū)域兩端的電學(xué)檢測區(qū)以及沒有設(shè)置任何部件的空白區(qū)。
[0003]另外，在陣列基板的顯示區(qū)域內(nèi)還設(shè)置有取向膜，取向膜與液晶分子相接觸，并使液晶分子產(chǎn)生一定角度的預(yù)取向。取向膜的表面需要經(jīng)過設(shè)置在滾筒表面的布料的摩擦，且取向摩擦方向與數(shù)據(jù)線的延伸方向平行或者成45°角，該過程使取向膜的表面產(chǎn)生走向一致的溝槽，從而使液晶分子產(chǎn)生預(yù)取向。
[0004]發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，驅(qū)動區(qū)域內(nèi)的不同區(qū)域的厚度互不相同，例如，電學(xué)檢測區(qū)在電學(xué)檢測過程中需要插入探針，其厚度較大，空白區(qū)的厚度最小，其它區(qū)域的厚度介于電學(xué)檢測區(qū)和空白區(qū)之間，從而使得驅(qū)動區(qū)域的表面高低不平，取向摩擦過程中，當(dāng)布料多次經(jīng)過驅(qū)動區(qū)域后，布料表面就會受到損傷，例如，布料表面的纖維走向不一致；由于取向摩擦方向與數(shù)據(jù)線的延伸方向平行或者成45°角，因此，布料中纖維走向不一致的部分也會經(jīng)過顯示區(qū)域，從而導(dǎo)致取向摩擦后的取向膜的表面的溝槽的走向不一致，進(jìn)而影響液晶顯示裝置的顯示效果。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的實(shí)施例提供一種基板及陣列基板，能夠改善取向摩擦后的取向膜的表面溝槽的走向不一致的問題。
[0006]為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
[0007]一種基板，該基板包括至少一個陣列基板，所述基板上的每個陣列基板周邊均設(shè)置有間隔區(qū)域，且每個所述陣列基板包括顯示區(qū)域和位于顯示區(qū)域邊緣的驅(qū)動區(qū)域，所述間隔區(qū)域包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域位于所述驅(qū)動區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上，所述第二區(qū)域位于所述顯示區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上，在所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域的交疊區(qū)域內(nèi)分布有多個過孔，所述過孔的內(nèi)部尺寸大于取向摩擦布料的纖維的直徑。
[0008]關(guān)于所述過孔的排列方式為矩陣式，可以有多種選擇，一種選擇是在與取向摩擦方向垂直的方向上的每排所述過孔與相鄰排的所述過孔一一對應(yīng)，或者另一種選擇是在與取向摩擦方向垂直的方向上的每排所述過孔與相鄰排的所述過孔之間的間隙--對應(yīng)。
[0009]優(yōu)選地，對所述過孔的直徑和相鄰過孔之間的間距都有特殊的限定。優(yōu)選地，所述過孔的直徑為d，其中，ΙΟμ??彡d彡15μπι。并且，在與取向摩擦方向垂直的方向上，相鄰兩個所述過孔的間距為W，其中，10 μ?? < w < 15 μ m。
[0010]對于過孔的深度而言，將其深度定義為h，并且h優(yōu)選地滿足以下要求:0.8μ??彡h彡1.3μπι。為了滿足這一要求，可以選擇以下三種方案中的任一種方案:
[0011]第一，所述基板包括依次形成在襯底基板上的柵極絕緣層和鈍化層；所述柵極絕緣層和所述鈍化層均覆蓋所述間隔區(qū)域中所述過孔所在的區(qū)域，所述過孔貫穿所述柵極絕緣層和所述鈍化層。
[0012]第二，所述基板包括依次形成在襯底基板上的柵極金屬層、柵極絕緣層和鈍化層；所述柵極金屬層、所述柵極絕緣層和所述鈍化層均覆蓋所述間隔區(qū)域中所述過孔所在的區(qū)域，所述過孔貫穿所述柵極金屬層、所述柵極絕緣層和所述鈍化層。
[0013]第三，所述基板包括依次形成在襯底基板上的源漏極金屬層和鈍化層；所述源漏極金屬層和所述鈍化層均覆蓋所述間隔區(qū)域中所述過孔所在的區(qū)域，所述過孔貫穿所述源漏極金屬層和所述鈍化層。
[0014]進(jìn)一步地，所述基板包括形成在襯底基板上的透明電極層；所述透明電極層覆蓋所述過孔。
[0015]更進(jìn)一步地，所述基板包括形成在所述透明電極層上的取向膜層，所述取向膜層覆蓋所述過孔。
[0016]在本發(fā)明實(shí)施例提供的基板中，由于在間隔區(qū)域中，且位于驅(qū)動區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上的第一區(qū)域和位于顯示區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上的第二區(qū)域的的交疊區(qū)域內(nèi)分布有多個過孔，因此，取向摩擦布料中既經(jīng)過驅(qū)動區(qū)域又經(jīng)過顯示區(qū)域的部分也會經(jīng)過過孔所在的區(qū)域，又由于過孔的直徑大于取向摩擦布料的纖維的直徑，使得纖維可以進(jìn)入到過孔內(nèi)部，從而使得纖維得到梳理，使得纖維的走向趨于一致，從而改善了顯示區(qū)域中取向摩擦后的取向膜的表面的溝槽的走向不一致的問題，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0017]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種陣列基板，該陣列基板包括位于所述陣列基板中心的顯示區(qū)域和位于顯示區(qū)域邊緣的驅(qū)動區(qū)域，在所述陣列基板的周邊設(shè)有間隔區(qū)域，所述間隔區(qū)域包括第一區(qū)域和第二區(qū)域，所述第一區(qū)域位于所述驅(qū)動區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上，所述第二區(qū)域位于所述顯示區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上，在所述第一區(qū)域與所述第二區(qū)域的交疊區(qū)域內(nèi)分布有多個過孔，所述過孔的內(nèi)部尺寸大于取向摩擦布料的纖維的直徑。
[0018]在本發(fā)明實(shí)施例提供的陣列基板中，由于在間隔區(qū)域中，且位于驅(qū)動區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上的第一區(qū)域和位于顯示區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上的第二區(qū)域的的交疊區(qū)域內(nèi)分布有多個過孔，因此，取向摩擦布料中既經(jīng)過驅(qū)動區(qū)域又經(jīng)過顯示區(qū)域的部分也會經(jīng)過過孔所在的間隔區(qū)域，又由于過孔的直徑大于取向摩擦布料的纖維的直徑，使得纖維的一部分可以進(jìn)入到過孔內(nèi)部，從而使得纖維得到梳理，使得纖維的走向趨于一致，從而改善了顯示區(qū)域中取向摩擦后的取向膜的表面的溝槽的走向不一致的問題，提尚了顯不裝置的顯不效果。
【附圖說明】
[0019]為了更清楚地說明本發(fā)明實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0020]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的第一種基板的平面示意圖；
[0021]圖2為本發(fā)明實(shí)施例提供的第二種基板的平面示意圖；
[0022]圖3為本發(fā)明實(shí)施例提供的第三種基板的平面示意圖；
[0023]圖4為本發(fā)明實(shí)施例提供的第四種基板的平面示意圖；
[0024]圖5為本發(fā)明實(shí)施例提供的第五種基板的平面示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0025]下面將結(jié)合本發(fā)明實(shí)施例中的附圖，對本發(fā)明實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本發(fā)明一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本發(fā)明中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本發(fā)明保護(hù)的范圍。
[0026]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種基板，如圖1-4所示，該基板包括至少一個陣列基板1，基板上的每個陣列基板I周邊均設(shè)置有間