隔區(qū)域2，且每個(gè)陣列基板I包括顯示區(qū)域11和位于顯示區(qū)域11邊緣的驅(qū)動(dòng)區(qū)域12，間隔區(qū)域2包括第一區(qū)域和第二區(qū)域(圖中未示出)，第一區(qū)域位于驅(qū)動(dòng)區(qū)域12沿取向摩擦方向00’的延伸方向上，第二區(qū)域位于顯示區(qū)域11沿取向摩擦方向00’的延伸方向上，在第一區(qū)域與第二區(qū)域的交疊區(qū)域21內(nèi)分布有多個(gè)過(guò)孔22，過(guò)孔22的內(nèi)部尺寸大于取向摩擦布料的纖維的直徑。
[0027]需要說(shuō)明的是，本發(fā)明實(shí)施例提供的基板能夠切割成至少一個(gè)陣列基板，該陣列基板可以制造以下顯示裝置:液晶面板、電子紙、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。
[0028]為了便于本領(lǐng)域技術(shù)人員理解本發(fā)明實(shí)施例提供的基板，本發(fā)明實(shí)施例具體提供了如圖1-4所示的四種基板，該四種基板的區(qū)別點(diǎn)在于驅(qū)動(dòng)區(qū)域12的位置以及取向摩擦方向00’不同。
[0029]第一種基板，如圖1所示，取向摩擦方向00’與數(shù)據(jù)線的延伸方向平行；驅(qū)動(dòng)區(qū)域12只位于數(shù)據(jù)線的一端。此時(shí)，對(duì)每個(gè)陣列基板I而言，其驅(qū)動(dòng)區(qū)域12所對(duì)應(yīng)的第一區(qū)域與其顯示區(qū)域11所對(duì)應(yīng)的第二區(qū)域的范圍相同，因此，該第一種基板上，交疊區(qū)域21、第一區(qū)域、第二區(qū)域三者的范圍相同，并且，交疊區(qū)域21沿取向摩擦方向00’依次排列。
[0030]第二種基板，如圖2所示，取向摩擦方向00’與數(shù)據(jù)線的延伸方向成45°角；驅(qū)動(dòng)區(qū)域12只位于數(shù)據(jù)線的一端。此時(shí)，對(duì)每個(gè)陣列基板I而言，其驅(qū)動(dòng)區(qū)域12所對(duì)應(yīng)的第一區(qū)域，位于包含該陣列基板I的相鄰的多個(gè)陣列基板I的顯示區(qū)域11所對(duì)應(yīng)的第二區(qū)域之內(nèi)，因此，該第二種基板上，交疊區(qū)域21與第一區(qū)域的范圍相同，并且，交疊區(qū)域21沿取向摩擦方向00’依次排列。
[0031]第三種基板，如圖3所示，取向摩擦方向00’與數(shù)據(jù)線的延伸方向平行；驅(qū)動(dòng)區(qū)域12的一部分位于數(shù)據(jù)線的一端，另一部分位于與數(shù)據(jù)線交叉的柵線的一端。此時(shí)，對(duì)每個(gè)陣列基板I而言，其顯示區(qū)域11所對(duì)應(yīng)的第二區(qū)域位于其驅(qū)動(dòng)區(qū)域12所對(duì)應(yīng)的第一區(qū)域的范圍之內(nèi)，因此，該第三種基板上，交疊區(qū)域21與第二區(qū)域的范圍相同，并且交疊區(qū)域21沿取向摩擦方向00’依次排列。
[0032]第四種基板，如圖4所示，取向摩擦方向00’與數(shù)據(jù)線的延伸方向成45°角；驅(qū)動(dòng)區(qū)域12的一部分位于數(shù)據(jù)線的一端，另一部分位于與數(shù)據(jù)線交叉的柵線的一端，且該兩部分沿取向摩擦方向00’對(duì)稱設(shè)置。此時(shí)，對(duì)每個(gè)陣列基板I而言，其顯示區(qū)域11所對(duì)應(yīng)的第二區(qū)域，位于其驅(qū)動(dòng)區(qū)域12所對(duì)應(yīng)的第一區(qū)域之內(nèi)，并且其驅(qū)動(dòng)區(qū)域12所對(duì)應(yīng)的第一區(qū)域，位于包含該陣列基板I的相鄰的多個(gè)陣列基板I的顯示區(qū)域11所對(duì)應(yīng)的第二區(qū)域之內(nèi)，因此，該第四種基板上，交疊區(qū)域21、第一區(qū)域、第二區(qū)域三者的范圍相同，并且，交疊區(qū)域21相互連接形成一個(gè)整體。
[0033]需要說(shuō)明地是，本領(lǐng)域技術(shù)人員在基于上述四種【具體實(shí)施方式】的基礎(chǔ)上，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下還可以獲得其他可能的【具體實(shí)施方式】，本發(fā)明實(shí)施例不再一一贅述。
[0034]在本發(fā)明實(shí)施例提供的基板中，由于在間隔區(qū)域中，且位于驅(qū)動(dòng)區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上的第一區(qū)域和位于顯示區(qū)域沿取向摩擦方向的延伸方向上的第二區(qū)域的的交疊區(qū)域內(nèi)分布有多個(gè)過(guò)孔，因此，取向摩擦布料中既經(jīng)過(guò)驅(qū)動(dòng)區(qū)域又經(jīng)過(guò)顯示區(qū)域的部分也會(huì)經(jīng)過(guò)過(guò)孔所在的間隔區(qū)域，又由于過(guò)孔的直徑大于取向摩擦布料的纖維的直徑，使得纖維的一部分可以進(jìn)入到過(guò)孔內(nèi)部，從而使得纖維得到梳理，使得纖維的走向趨于一致，從而改善了顯示區(qū)域中取向摩擦后的取向膜的表面的溝槽的走向不一致的問(wèn)題，提高了顯示裝置的顯示效果。
[0035]具體地，為了提高對(duì)取向摩擦布料中的纖維的梳理效果，從而提高纖維的走向的一致性，本發(fā)明實(shí)施例優(yōu)選過(guò)孔規(guī)律性的排列，并具體提供了以下兩種過(guò)孔的排列方式。
[0036]第一種排列方式，如圖1和圖3所示，過(guò)孔22的排列方式為矩陣式，且在與取向摩擦方向00’垂直的方向PP’上的每排過(guò)孔22與相鄰排的過(guò)孔22--對(duì)應(yīng)。該種過(guò)孔22
的排列方式較簡(jiǎn)單，使得掩膜板中與過(guò)孔相對(duì)應(yīng)的區(qū)域的排列方式也較簡(jiǎn)單，從而降低了陣列基板的制造難度。
[0037]第二種排列方式，如圖2、圖4和圖5所示，過(guò)孔22的排列方式為矩陣式，且在與取向摩擦方向00’垂直的方向PP’上的每排過(guò)孔22與相鄰排的過(guò)孔22之間的間隙--對(duì)應(yīng)。該種過(guò)孔22的排列方式增大了取向摩擦布料的梳理面積，從而提高了纖維的走向的一致性。
[0038]通常，取向摩擦布料的纖維的直徑在ΙΟμπι和13 μm之間，過(guò)孔22的直徑d在保證大于纖維的直徑的同時(shí)，為了提高對(duì)纖維的梳理效果，從而提高纖維的走向的一致性，過(guò)孔22的直徑d與取向摩擦布料的纖維的直徑接近，優(yōu)選地，10 μ m彡d彡15 μ m。
[0039]進(jìn)一步地，為了提高對(duì)纖維的梳理效果，從而提高纖維的走向的一致性，在與取向摩擦方向00’垂直的方向PP’上，相鄰兩個(gè)過(guò)孔22的間距W與取向摩擦布料的纖維的直徑接近，優(yōu)選地，1ymSwS 15 μ m。
[0040]更進(jìn)一步地，為了提高對(duì)纖維的梳理效果，從而提高纖維的走向的一致性，優(yōu)選地，過(guò)孔22的深度為h，其中，0.8 μπι彡h彡1.3 μπι。
[0041]為了形成上述深度的過(guò)孔，本發(fā)明實(shí)施例針對(duì)過(guò)孔所在的交疊區(qū)域具體提供了以下三種結(jié)構(gòu)，在這三種結(jié)構(gòu)的區(qū)別點(diǎn)在于交疊區(qū)域的層結(jié)構(gòu)不同。
[0042]第一種結(jié)構(gòu)，該基板包括依次形成在襯底基板上的柵極絕緣層和鈍化層；柵極絕緣層和鈍化層均覆蓋間隔區(qū)域中過(guò)孔所在的區(qū)域，過(guò)孔貫穿柵極絕緣層和鈍化層。通常，柵極絕緣層的厚度為0.4 μ m，鈍化層的厚度為0.6 μ m，因此，過(guò)孔的深度為1.0 μ m。在過(guò)孔的制作過(guò)程中，在襯底地板上依次沉積柵極絕緣層和鈍化層后，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，并在刻蝕時(shí)連續(xù)刻蝕鈍化層和柵極絕緣層，從而形成貫穿柵極絕緣層和鈍化層的過(guò)孔的圖形。
[0043]需要說(shuō)明的是，本發(fā)明所有實(shí)施例中描述的構(gòu)圖工藝包括:涂敷光刻膠，使用掩膜板遮蓋，曝光、顯影之后，進(jìn)行刻蝕，最后剝離光刻膠。
[0044]第二種結(jié)構(gòu)，該基板包括依次形成在襯底基板上的柵極金屬層、柵極絕緣層和鈍化層；柵極金屬層、柵極絕緣層和鈍化層均覆蓋間隔區(qū)域中過(guò)孔所在的區(qū)域，過(guò)孔貫穿柵極金屬層、柵極絕緣層和鈍化層。通常，柵極金屬層的厚度為0.3 μπι，柵極絕緣層的厚度為0.4 μ m，鈍化層的厚度為0.6 μ m，因此，過(guò)孔的深度為1.3 μ m。在過(guò)孔的制作過(guò)程中，首先在襯底地板上形成柵極金屬層，之后通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成包括柵線、薄膜晶體管的柵極和貫穿柵極金屬層的過(guò)孔的圖形；再在形成有柵線、柵極和貫穿柵極金屬層的過(guò)孔的圖形的襯底基板上形成柵極絕緣層和鈍化層，之后通過(guò)一次構(gòu)圖工藝，并在刻蝕時(shí)連續(xù)刻蝕鈍化層和柵極絕緣層，從而形成貫穿柵極金屬層、柵極絕緣層和鈍化層的過(guò)孔的圖形。
[0045]第三種結(jié)構(gòu)，該基板包括依次形成在襯底基板上的源漏極金屬層和鈍化層；源漏極金屬層和鈍化層均覆蓋間隔區(qū)域中過(guò)孔所在的區(qū)域，過(guò)孔貫穿源漏極金屬層和鈍化層。