計(jì)量圖案布局及其使用方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明通常涉及電路結(jié)構(gòu)的制造，尤其涉及用于電路結(jié)構(gòu)的計(jì)量圖案布局。
【背景技術(shù)】
[0002]制造集成電路通常需要在晶圓上或晶圓上方的一個(gè)或多個(gè)層上形成多個(gè)集成電路結(jié)構(gòu)。這些結(jié)構(gòu)常常通過(guò)光刻制程形成。該光刻制程可包括光罩(reticle)(也被稱為掩膜或光掩膜)，紫外光透過(guò)該光罩傳輸至晶圓。該光罩阻擋在要保持不被蝕刻的晶圓區(qū)域中的光線，并允許光線通過(guò)將要被蝕刻的區(qū)域。光刻制程可能還需要計(jì)量(metoology)步驟，以確保層內(nèi)或?qū)娱g結(jié)構(gòu)的適當(dāng)尺寸設(shè)定及對(duì)準(zhǔn)。不僅在晶圓上測(cè)量對(duì)準(zhǔn)需要計(jì)量，而且在光罩上需要計(jì)量。一般來(lái)說(shuō)，可獨(dú)立于晶圓計(jì)量來(lái)執(zhí)行光罩計(jì)量。不過(guò)，可能難以或者不可能使光罩計(jì)量數(shù)據(jù)與晶圓計(jì)量數(shù)據(jù)準(zhǔn)確關(guān)聯(lián)。因此，仍需要工具來(lái)使光罩計(jì)量與晶圓計(jì)量關(guān)聯(lián)，以進(jìn)行更精確的電路結(jié)構(gòu)制造。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為克服現(xiàn)有技術(shù)的缺點(diǎn)并提供額外的優(yōu)點(diǎn)，在一個(gè)態(tài)樣中提供一種結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)包括:用于電路結(jié)構(gòu)的計(jì)量圖案布局，包括有利于布置多個(gè)計(jì)量圖案的多個(gè)象限，包括:用于第一晶圓測(cè)量圖案的第一象限；用于第二晶圓測(cè)量圖案的第二象限；用于光罩對(duì)位圖案的第三象限；用于光罩測(cè)量圖案的第四象限；其中，該多個(gè)象限的布置有利于將自該第一及第二晶圓測(cè)量圖案獲得的數(shù)據(jù)與自該光罩測(cè)量圖案及該光罩對(duì)位圖案獲得的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)。
[0004]在另一個(gè)態(tài)樣中，這里還提供一種方法。該方法包括:將要應(yīng)用于光罩的光學(xué)鄰近校正過(guò)程，包括:提供輸入圖形數(shù)據(jù)；提供光學(xué)鄰近校正及圖案保護(hù)的一個(gè)或多個(gè)規(guī)則，其中，該一個(gè)或多個(gè)規(guī)則適用于該光罩的設(shè)計(jì)圖案；自計(jì)量圖案布局獲得光罩測(cè)量圖案；分類(lèi)該光罩測(cè)量圖案；將偏置補(bǔ)償表應(yīng)用于該一個(gè)或多個(gè)規(guī)則，該偏置補(bǔ)償表是依據(jù)該光罩測(cè)量圖案的該分類(lèi)來(lái)選擇的；以及提供輸出圖形數(shù)據(jù)。
[0005]通過(guò)本發(fā)明的技術(shù)實(shí)現(xiàn)額外的特征及優(yōu)點(diǎn)。這里詳細(xì)說(shuō)明本發(fā)明的其它實(shí)施例及態(tài)樣，作為請(qǐng)求保護(hù)的發(fā)明的一部分。
【附圖說(shuō)明】
[0006]本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣被特別指出并在說(shuō)明書(shū)的結(jié)束處的聲明中被明確稱為示例。結(jié)合附圖參照下面的詳細(xì)說(shuō)明可清楚本發(fā)明的上述及其它目的、特征以及優(yōu)點(diǎn)，其中:
[0007]圖1A顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的計(jì)量圖案布局的一個(gè)示例實(shí)施例；
[0008]圖1B顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的圖1A的計(jì)量圖案布局，在該計(jì)量圖案布局中布置有示例計(jì)量圖案；
[0009]圖2A顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的計(jì)量圖案布局的另一個(gè)示例實(shí)施例；
[0010]圖2B顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的圖2A的計(jì)量圖案布局，在該計(jì)量圖案布局中設(shè)置有示例計(jì)量圖案；
[0011]圖2C顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的圖2B的計(jì)量圖案布局以及計(jì)量圖案，其中，光罩測(cè)量圖案包括最外結(jié)構(gòu)元件，以在光學(xué)鄰近校正過(guò)程中保護(hù)該圖案免受修改；
[0012]圖2D顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣旋轉(zhuǎn)90°以后的圖2C的計(jì)量圖案布局；
[0013]圖2E顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的圖2A的計(jì)量圖案布局，在該計(jì)量圖案布局內(nèi)布置有另一組計(jì)量圖案；
[0014]圖3A顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的計(jì)量圖案布局的一個(gè)實(shí)施例，其中，該計(jì)量圖案布局包括用于額外計(jì)量圖案的十字形劃線區(qū)；
[0015]圖3B顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的計(jì)量圖案布局的另一個(gè)實(shí)施例，其中，該計(jì)量圖案布局包括方形劃線區(qū)，其形成該計(jì)量圖案布局的其余部分的邊界，該劃線區(qū)包括一個(gè)或多個(gè)額外計(jì)量圖案；
[0016]圖4A顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的計(jì)量圖案布局的一個(gè)實(shí)施例，其中，該計(jì)量圖案布局容置多個(gè)計(jì)量圖案，以測(cè)量雙重圖案化制程的曝光層的對(duì)準(zhǔn)；
[0017]圖4B顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的圖4A的計(jì)量圖案布局，其僅包括與雙重圖案化制程的第一曝光層對(duì)應(yīng)的計(jì)量圖案；
[0018]圖4C顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的圖4A的計(jì)量圖案布局，其僅包括與雙重圖案化制程的第二曝光層對(duì)應(yīng)的計(jì)量圖案；
[0019]圖5A顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的計(jì)量圖案布局的一個(gè)實(shí)施例，在該計(jì)量圖案布局的劃線區(qū)內(nèi)布置有額外計(jì)量圖案示例組；
[0020]圖5B顯示依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的圖5A的計(jì)量圖案布局，該計(jì)量圖案布局的劃線區(qū)內(nèi)布置有額外計(jì)量圖案替代示例組；以及
[0021]圖6總結(jié)依據(jù)本發(fā)明的一個(gè)或多個(gè)態(tài)樣的包括光學(xué)鄰近校正過(guò)程的方法，其中，使用光罩測(cè)量圖案來(lái)提供該光學(xué)鄰近校正過(guò)程的一個(gè)或多個(gè)規(guī)則。
【具體實(shí)施方式】
[0022]通過(guò)參照附圖中所示的非限制例子來(lái)更加充分地解釋本發(fā)明的態(tài)樣及其特定的特征、優(yōu)點(diǎn)以及細(xì)節(jié)。省略對(duì)已知材料、制造工具、制程技術(shù)等的說(shuō)明，以免在細(xì)節(jié)上不必要地模糊本發(fā)明。不過(guò)，應(yīng)當(dāng)理解，用以說(shuō)明本發(fā)明態(tài)樣的詳細(xì)說(shuō)明及具體例子僅作為示例，而非限制。本領(lǐng)域的技術(shù)人員將會(huì)從本揭露中了解在基礎(chǔ)的發(fā)明概念的精神和/或范圍內(nèi)的各種替代、修改、添加和/或布局。
[0023]在一個(gè)或多個(gè)實(shí)施例中，為克服先前計(jì)量結(jié)構(gòu)的缺點(diǎn)，這里所提供的結(jié)構(gòu)提供一種用于電路結(jié)構(gòu)的計(jì)量圖案布局，其包括有利于布置多個(gè)計(jì)量圖案的多個(gè)象限，包括:用于第一晶圓測(cè)量圖案的第一象限；用于第二晶圓測(cè)量圖案的第二象限；用于光罩對(duì)位圖案的第三象限；用于光罩測(cè)量圖案的第四象限；其中，該多個(gè)象限的布置有利于將自該第一及第二晶圓測(cè)量圖案獲得的數(shù)據(jù)與自該光罩測(cè)量圖案及該光罩對(duì)位圖案獲得的數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)。
[0024]在額外的實(shí)施例中，該第四象限可包括光罩測(cè)量圖案，該光罩測(cè)量圖案包括多個(gè)結(jié)構(gòu)元件，其中，該多個(gè)結(jié)構(gòu)元件的至少其中一個(gè)為最外元件，該最外元件經(jīng)設(shè)計(jì)以在光學(xué)鄰近校正(optical proximity correct1n)過(guò)程中保護(hù)該多個(gè)結(jié)構(gòu)元件免受修改。
[0025]在其它實(shí)施例中，該計(jì)量圖案布局還可包括劃線區(qū)(scribe area)，該劃線區(qū)可包含額外計(jì)量圖案，例如圖案識(shí)別計(jì)量圖案或雙重圖案化計(jì)量圖案。例如，該劃線區(qū)可形成圍繞該多個(gè)象限的邊界，或者它可位于計(jì)量圖案的中心、形成隔開(kāi)該多個(gè)象限的十字形劃線區(qū)。
[0026]在另一個(gè)態(tài)樣中，這里提供一種包括將要應(yīng)用于光罩的光學(xué)鄰近校正過(guò)程的方法。該過(guò)程包括:提供輸入圖形數(shù)據(jù)；提供光學(xué)鄰近校正及圖案保護(hù)的一個(gè)或多個(gè)規(guī)則，其中，該一個(gè)或多個(gè)規(guī)則適用于該光罩的設(shè)計(jì)圖案；自計(jì)量圖案布局獲得光罩測(cè)量圖案；分類(lèi)該光罩測(cè)量圖案；將偏置補(bǔ)償表應(yīng)用于該一個(gè)或多個(gè)規(guī)則，該偏置補(bǔ)償表是依據(jù)該光罩測(cè)量圖案的該分類(lèi)來(lái)選擇的；以及提供輸出圖形數(shù)據(jù)。
[0027]下面參照附圖。為有利于理解，這些附圖并非按比例繪制，其中，不同附圖中所使用的相同附圖標(biāo)記表示相同或類(lèi)似的組件。
[0028]圖1A顯示具有多個(gè)象限的計(jì)量圖案布局100的一個(gè)實(shí)施例，它可包括于光罩或晶圓上。圖案布局100包括用于第一晶圓計(jì)量圖案的第一象限110、用于第二晶圓計(jì)量圖案的第二象限120、用于光罩對(duì)位圖案的第三象限130、以及用于光罩測(cè)量圖案的第四象限140。在該所示例子中，第一象限110與第二象限120彼此呈對(duì)角設(shè)置，且類(lèi)似地，第三象限130與第四象限1