40彼此呈對(duì)角設(shè)置。計(jì)量圖案布局100還可包括劃線區(qū)150。劃線區(qū)150可為如圖所示的方形，且可部分形成計(jì)量圖案布局100的邊界，以使該多個(gè)象限設(shè)于該劃線區(qū)內(nèi)。除了位于該多個(gè)象限中的所述計(jì)量圖案外，劃線區(qū)150可具有容置一個(gè)或多個(gè)額外計(jì)量圖案所需的任意寬度。這些額外計(jì)量圖案可用于圖案識(shí)別、對(duì)準(zhǔn)金屬層、對(duì)準(zhǔn)雙重圖案化制程的曝光層等等，下面將作進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。計(jì)量圖案布局100還可具有由該布局的總長(zhǎng)度及總寬度確定的光罩或晶圓上的表面積，包括該多個(gè)象限及該劃線區(qū)，且該表面積可足夠小，以允許在該光罩或晶圓的主動(dòng)圖案區(qū)內(nèi)設(shè)置計(jì)量圖案布局100。在光罩或晶圓圖案的主動(dòng)區(qū)內(nèi)設(shè)置計(jì)量圖案布局(以及所包括的計(jì)量圖案)比在非主動(dòng)區(qū)中(例如靠近該光罩或晶圓的邊緣)設(shè)置有優(yōu)勢(shì)，因?yàn)樗商峁└鼫?zhǔn)確的計(jì)量數(shù)據(jù)。另外，有可能在主動(dòng)圖案區(qū)的數(shù)個(gè)預(yù)定區(qū)中設(shè)置多個(gè)計(jì)量圖案布局。這可有利于獲得多個(gè)局部計(jì)量數(shù)據(jù)組，而與自非主動(dòng)區(qū)中設(shè)置的計(jì)量圖案獲得數(shù)據(jù)相反。在一個(gè)例子中，計(jì)量圖案100的表面積可小于約25um2。
[0029]圖1B顯示圖1A的計(jì)量圖案布局100并示例布置設(shè)于象限內(nèi)的計(jì)量圖案。在該示例實(shí)施例中未呈現(xiàn)圖1A中所示的劃線區(qū)。第一象限110內(nèi)的第一晶圓測(cè)量圖案115可例如為單個(gè)結(jié)構(gòu)元件，例如如圖所示的單個(gè)線段。在其它例子中，第一晶圓測(cè)量圖案115可包括多個(gè)結(jié)構(gòu)元件。第三象限130內(nèi)的光罩測(cè)量圖案135也可為單個(gè)結(jié)構(gòu)元件，例如如圖所示的單個(gè)十字元件。第二象限120內(nèi)的第二晶圓測(cè)量圖案125可為與該該第一晶圓測(cè)量圖案類(lèi)似的圖案，或者可包括如圖所示的多個(gè)結(jié)構(gòu)元件。如該示例實(shí)施例所示，第二晶圓測(cè)量圖案125的所述結(jié)構(gòu)元件中的一個(gè)或多個(gè)可與第一晶圓測(cè)量圖案115的該一個(gè)或多個(gè)結(jié)構(gòu)元件類(lèi)似。盡管該第一晶圓測(cè)量圖案與第二晶圓測(cè)量圖案可能具有不同的結(jié)構(gòu)元件，但如這里所示，通過(guò)該第一及第二晶圓測(cè)量圖案共用類(lèi)似的結(jié)構(gòu)元件通?？筛玫赜欣趫?zhí)行晶圓層的計(jì)量。第四象限140內(nèi)的光罩測(cè)量圖案145可為與第二晶圓測(cè)量圖案125類(lèi)似的圖案。光罩測(cè)量圖案145可包括未呈現(xiàn)于第二晶圓測(cè)量圖案125中的額外結(jié)構(gòu)元件，如下文在其它實(shí)施例中所述。盡管該光罩測(cè)量圖案與第二晶圓測(cè)量圖案可具有不同的圖案及結(jié)構(gòu)元件，但一般來(lái)說(shuō)，當(dāng)該光罩測(cè)量圖案與第二晶圓測(cè)量圖案類(lèi)似時(shí)，可能最有利于光罩測(cè)量的計(jì)量數(shù)據(jù)與晶圓測(cè)量的計(jì)量數(shù)據(jù)的關(guān)聯(lián)。
[0030]與現(xiàn)有計(jì)量圖案布局相比，圖1A及IB中所示的計(jì)量圖案布局100可實(shí)現(xiàn)數(shù)個(gè)優(yōu)點(diǎn)。通過(guò)布置如圖1A及IB中所示的第二象限120及第四象限140，可布置光罩測(cè)量圖案145及第二晶圓測(cè)量圖案125，以使從各該圖案獲得的計(jì)量數(shù)據(jù)能夠關(guān)聯(lián)，因而有利于光罩計(jì)量數(shù)據(jù)與晶圓計(jì)量數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)，如期望的那樣。另外，第三象限130可布置光罩對(duì)位圖案135，以使光罩對(duì)位圖案135與計(jì)量圖案布局100內(nèi)的其它計(jì)量圖案有效隔離。于計(jì)量工具掃描時(shí)，這可有利于最大限度地降低光罩對(duì)位圖案135的失真。
[0031]圖2A顯示計(jì)量圖案布局200的另一個(gè)實(shí)施例。計(jì)量圖案布局200具有多個(gè)象限，包括用于第一晶圓計(jì)量圖案的第一象限210、用于第二晶圓計(jì)量圖案的第二象限220、用于光罩對(duì)位圖案的第三象限230、以及用于光罩測(cè)量圖案的第四象限240。在該所示例子中，第一象限210與第二象限220彼此呈對(duì)角設(shè)置，且類(lèi)似地，第三象限230與第四象限240彼此呈對(duì)角設(shè)置。計(jì)量圖案布局200還可包括劃線區(qū)250。在該示例實(shí)施例中，劃線區(qū)250為在計(jì)量圖案布局200內(nèi)居中設(shè)置的十字形劃線區(qū)，以使劃線區(qū)250隔開(kāi)該多個(gè)象限。與圖1A中所示的劃線區(qū)類(lèi)似，劃線區(qū)250可容置一個(gè)或多個(gè)額外計(jì)量圖案。劃線區(qū)250還可具有中心區(qū)255，其可容置額外的計(jì)量圖案。如下文進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明，這些額外計(jì)量圖案可用于圖案識(shí)別、對(duì)準(zhǔn)金屬層、對(duì)準(zhǔn)雙重圖案化制程的曝光層等等。如上面圖1A中所述，計(jì)量圖案布局200可具有由該多個(gè)象限及劃線區(qū)的總長(zhǎng)度及總寬度確定的表面積，且該表面積可足夠小，以有利于在光罩或晶圓圖案的主動(dòng)區(qū)內(nèi)設(shè)置計(jì)量圖案200。
[0032]圖2B顯示圖2A的計(jì)量圖案布局200并示例布置設(shè)于象限內(nèi)的計(jì)量圖案，這些計(jì)量圖案與如上所述的圖1A的計(jì)量圖案類(lèi)似。第一象限210包括第一晶圓測(cè)量圖案215，第二象限220包括第二晶圓測(cè)量圖案225，第三象限230包括光罩對(duì)位圖案，以及第四象限240包括光罩測(cè)量圖案。與現(xiàn)有計(jì)量圖案布局相比，計(jì)量圖案200可實(shí)現(xiàn)與計(jì)量圖案100類(lèi)似的優(yōu)點(diǎn)。在第二象限220及第四象限240如圖2A及2B中所示布置的情況下，可布置光罩測(cè)量圖案245及第二晶圓測(cè)量圖案225，以使從各該圖案獲得的計(jì)量數(shù)據(jù)能夠關(guān)聯(lián)，因而有利于光罩計(jì)量數(shù)據(jù)與晶圓計(jì)量數(shù)據(jù)關(guān)聯(lián)，如期望的那樣。另外，第三象限230可布置光罩對(duì)位圖案235，以使光罩對(duì)位圖案235與計(jì)量圖案布局200內(nèi)的其它計(jì)量圖案有效隔離。于計(jì)量工具掃描時(shí)，這可有利于最大限度地降低光罩對(duì)位圖案235的失真。
[0033]圖2C顯示圖2B的計(jì)量圖案200，其包括額外的結(jié)構(gòu)元件260作為第四象限240中的光罩測(cè)量圖案245的部分。額外元件260可為光罩測(cè)量圖案245的一個(gè)或多個(gè)最外結(jié)構(gòu)元件，且可經(jīng)設(shè)計(jì)以在光學(xué)鄰近校正過(guò)程中保護(hù)光罩測(cè)量圖案245的其它結(jié)構(gòu)元件免受修改。一般來(lái)說(shuō)，在圖案化光罩中可能需要光學(xué)鄰近校正(OPC;Optical ProximityCorrect1n)過(guò)程，以在晶圓上獲得想要的輸出圖案。在設(shè)計(jì)光罩的理想圖案以后，通?？稍谠摴庹稚蠄?zhí)行OPC過(guò)程；在考慮光衍射及干射以及透過(guò)光罩的光傳輸?shù)钠渌阎锢硇?yīng)的情況下，該過(guò)程可分析該圖案以確定經(jīng)歷光刻制程時(shí)該理想圖案會(huì)如何實(shí)際印刷在晶圓上，并增加或減少對(duì)該圖案的結(jié)構(gòu)元件的小校正。這些校正意圖補(bǔ)償上述效應(yīng)，以獲得盡可能符合理想圖案的印刷晶圓圖案。不過(guò)，一般來(lái)說(shuō)，可能不希望允許OPC過(guò)程類(lèi)似地修改光罩內(nèi)的光罩計(jì)量圖案，因?yàn)閳D案內(nèi)的結(jié)構(gòu)元件通常需要形成特定的長(zhǎng)度、寬度以及間距，以提供準(zhǔn)確的計(jì)量數(shù)據(jù)。OPC過(guò)程可能使這些參數(shù)失真。不過(guò)，在沒(méi)有OPC校正的情況下，計(jì)量圖案內(nèi)的一些結(jié)構(gòu)元件卻可能因影響圖案外部的元件的印刷的光衍射或干射而失真。為補(bǔ)償這些效應(yīng)并避免修改或損害光罩測(cè)量圖案，可向光罩測(cè)量圖案245添加一個(gè)或多個(gè)額外的最外元件260。最外結(jié)構(gòu)元件260可具有至少一個(gè)尺寸維數(shù)大于其它結(jié)構(gòu)元件的相應(yīng)尺寸維數(shù)。在一個(gè)示例實(shí)施例中，最外結(jié)構(gòu)元件260的該至少一個(gè)尺寸維數(shù)可為光罩的預(yù)定義臨界維數(shù)(critical dimens1n)的兩倍大。因此，當(dāng)從該光罩測(cè)量圖案收集計(jì)量數(shù)據(jù)時(shí)，通常不考慮最外結(jié)構(gòu)元件260，因?yàn)樗鼈兛赡懿环从诚鄳?yīng)層的電路結(jié)構(gòu)特征的維數(shù)。以這樣的維數(shù)，最外結(jié)構(gòu)元件260可足以校正例如光衍射及干射效應(yīng)，以使分析圖案的OPC過(guò)程不會(huì)修改光罩測(cè)量圖案245中較小的多個(gè)結(jié)構(gòu)元件。另外，或者在替代中，最外結(jié)構(gòu)元件260可添加或更改基于規(guī)則的OPC過(guò)程中所使用的“規(guī)則”。該OPC過(guò)程可經(jīng)配置以自計(jì)量圖案布局200獲得光罩測(cè)量圖案245并依據(jù)最外結(jié)構(gòu)元件260分類(lèi)該圖案。該分類(lèi)可添加或更改應(yīng)用于該OPC過(guò)程中的規(guī)則，以使該OPC過(guò)程經(jīng)配置而忽略光罩測(cè)量圖案245，但仍修改該光罩的其它圖案區(qū)域。
[0034]圖2D顯示圖2C的計(jì)量圖案布局200以及計(jì)量圖案215、225、235、245，旋轉(zhuǎn)90°以說(shuō)明同一計(jì)量圖案如何用于電路結(jié)構(gòu)