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      黑矩陣基板的制作方法_2

      文檔序號:9308458閱讀:來源:國知局
      另外,本段落所示的上述微粒均是白度為30%以上的微 粒。
      [0067] 作為微粒的形狀,并無特別限定,可舉出例如球狀、橢球體狀、針狀、多角形狀、星 形狀或者表面有凹凸或細(xì)孔的形狀、或者中空的形狀。
      [0068] 微粒的粒徑優(yōu)選1ym以下的粒徑,優(yōu)選5~500nm,更優(yōu)選10~100nm。如果微 粒的粒徑過小,有分散穩(wěn)定化變得困難的趨勢。另一方面,如果過大,光的散射變大,反射率 有變高的趨勢。這里微粒的粒徑是指微粒的一次粒徑。微粒的一次粒徑可以如下算出:用 電子顯微鏡分別觀察隨機地選擇的100個微粒的一次粒徑,求得它們的平均值,來算出。形 狀為球形以外的情況下,可以如下算出:對于某1個粒子將用電子顯微鏡觀察到的最大寬 度和最小寬度的平均值算作該粒子的一次粒徑,求得100個的一次粒徑的平均值,來算出。 優(yōu)選上述那樣的粒徑的微粒在包含于低光密度層的微粒中包含90質(zhì)量%以上。
      [0069] 作為微粒的制造方法,可舉出例如,將成為原料的礦物等物質(zhì)粉碎并微細(xì)化的粉 碎法、氣相、液相或者固層中的化學(xué)方法或者物理方法。作為粉碎法,可舉出例如噴射法、錘 法或者磨機法。作為氣相中的化學(xué)方法,可舉出例如化學(xué)蒸鍍法(CVD法)、電爐法、化學(xué)火 焰法或者等離子體法。作為液相中的化學(xué)方法,可舉出例如沉淀法、醇鹽法或者水熱法。作 為固相中的化學(xué)方法,可舉出例如晶析法。作為物理方法,可舉出例如噴霧法、溶液燃燒法 或冷凍干燥法。其中,為了能夠容易地控制微粒的粒徑,優(yōu)選沉淀法。
      [0070]〈遮光層⑷的組成〉
      [0071] 本發(fā)明的黑矩陣基板中的遮光層(A)含有遮光材料、折射率1. 4~1. 8的微粒,優(yōu) 選還含有樹脂。
      [0072] 作為遮光材料,可舉出例如黑色有機顏料、混色有機顏料和無機顏料。作為黑色有 機顏料,可舉出例如炭黑、樹脂被覆炭黑、茈黑或者苯胺黑。作為混色有機顏料,可舉出例如 將紅、藍、綠、紫、黃色、洋紅或者青色等的顏料混合制成擬黑色化的顏料。作為無機顏料,可 舉出例如石墨。作為其他的例子,可舉出鈦、銅、鐵、錳、鈷、鉻、鎳、鋅、鈣或者銀等的金屬微 粒。還可舉出前面所示的金屬的氧化物、復(fù)合氧化物、硫化物、氮化物和碳化物。優(yōu)選選自 氧化鈦被氮還原的氮氧化鈦即鈦黑、氮化鈦、碳化鈦和炭黑中的1種以上。其中,更優(yōu)選氮 氧化鈦。
      [0073] 這里所說的氮氧化鈦是指用TiNx0y(0〈x〈2. 0,0.l〈y〈2. 0)表示的化合物,由于如 果氧的含量多則黑度下降,所以,x/y優(yōu)選為〇. 1~10,更優(yōu)選1~3。
      [0074] 遮光材料的粒徑優(yōu)選10~300nm,更優(yōu)選30~100nm。這里所說的遮光材料的粒 徑是指遮光材料的一次粒徑。遮光材料的一次粒徑可以通過與微粒的情況同樣的方法算 出。如果遮光材料的粒徑過大,有微細(xì)的圖案加工變得困難的趨勢。另一方面,如果粒徑過 小,遮光材料的粒子有凝集,反射率變高的趨勢。
      [0075] 遮光層(A)中遮光材料占有的比例,優(yōu)選5質(zhì)量%以上,更優(yōu)選10質(zhì)量%以上。 且其比例優(yōu)選80質(zhì)量%以下,更優(yōu)選50質(zhì)量%以下。如果遮光材料的比例少,得到充分的 光密度變得困難。另一方面,如果遮光材料的比例多,遮光層(A)的圖案形成有時會變得困 難。
      [0076] 遮光層(A)中微粒占有的比例,優(yōu)選1質(zhì)量%以上,更優(yōu)選10質(zhì)量%以上。且其 比例優(yōu)選60質(zhì)量%以下,進一步更優(yōu)選50質(zhì)量%以下。如果微粒的比例過小,本發(fā)明的效 果有時會不充分。另一方面,如果微粒的比例過大,有圖案形成變得困難的趨勢。
      [0077] 遮光層(A)能夠含有的樹脂的比例優(yōu)選10質(zhì)量%以上,更優(yōu)選30質(zhì)量%以上。且 其比例優(yōu)選90質(zhì)量%以下,更優(yōu)選70質(zhì)量%以下。
      [0078] 樹脂優(yōu)選在波長589nm處折射率為1. 4~1. 8,更優(yōu)選1. 5~1. 7??膳e出例如環(huán) 氧樹脂、丙烯酸樹脂、硅氧烷聚合物類樹脂或者聚酰亞胺樹脂。上述樹脂中,從涂膜的耐熱 性高考慮,優(yōu)選丙烯酸樹脂或者聚酰亞胺樹脂,更優(yōu)選聚酰亞胺樹脂。這里所說的聚酰亞胺 樹脂,除了具有完全已閉環(huán)結(jié)構(gòu)的聚酰亞胺樹脂以外,還包含作為聚酰亞胺樹脂的前體的 聚酰胺酸和聚酰胺酸一部分閉環(huán)了的聚酰亞胺樹脂。
      [0079] 聚酰亞胺樹脂是通過將作為前體的聚酰胺酸加熱閉環(huán)酰亞胺化而形成的。一般 地,聚酰胺酸是通過使具有酸酐基的化合物和二胺化合物在40~KKTC下加成聚合得到 的。具有用下述通式(1)表示的重復(fù)結(jié)構(gòu)單元。聚酰胺酸一部分閉環(huán)了的聚酰亞胺樹脂具 有下述通式(2)表示的酰胺酸結(jié)構(gòu)、酰胺酸結(jié)構(gòu)一部分酰亞胺閉環(huán)而成的下述通式(3)表 示的結(jié)構(gòu)、和酰胺酸結(jié)構(gòu)全部酰亞胺閉環(huán)而成的下述通式(4)表示的酰亞胺結(jié)構(gòu)。
      [0080]
      v ? ,
      [0081] 上述通式⑴~⑷中,R1表示碳原子數(shù)2~22的3價或者4價的有機基,R2表 示碳原子數(shù)1~22的2價的有機基,n表示1或者2的整數(shù)。
      [0082] 為了提高聚酰亞胺樹脂的耐熱性和絕緣性,作為為了得到聚酰胺酸而使用的二胺 化合物,優(yōu)選芳香族系二胺化合物,作為具有酸酐基的化合物,優(yōu)選酸二酐。
      [0083] 作為芳香族系二胺化合物,可以舉出例如對苯二胺、間苯二胺、3, 3' -二氨基二苯 釀、4, 4' -二氨基二苯釀、3, 4' -二氨基二苯釀、4, 4' -二氨基二苯甲燒、3, 3' -二氨基二苯 砜、4, 4' -二氨基二苯砜、3, 3' -二氨基二苯硫醚、4, 4' -二氨基二苯硫醚、1,3-雙(4-氨基 苯氧基)苯、1,4-雙(4-氨基苯氧基)苯、2, 2-雙(三氟甲基)聯(lián)苯胺、9, 9'-雙(4-氨基 苯基)荷4, 4' -二氨基二苯胺、3, 4' -二氨基二苯胺、3, 3' -二氨基二苯胺、2, 4' -二氨基 二苯胺、4, 4' -二氨基二節(jié)胺、2, 2' -二氨基二節(jié)胺、3, 4' -二氨基二節(jié)胺、3, 3' -二氨基二 節(jié)胺、N,N' -雙- (4-氨基-3-甲基苯基)乙二胺、4, 4' -二氨基苯甲酰苯胺、3, 4' -二氨基 苯甲酰苯胺、3, 3' -二氨基苯甲酰苯胺、4, 3' -二氨基苯甲酰苯胺、2, 4' -二氨基苯甲酰苯 胺、N,N' -對苯撐雙(對氨基苯甲酰胺)、N,N' -對苯撐雙(間氨基苯甲酰胺)、N,N' -間苯 撐雙(對氨基苯甲酰胺)、N,N' -間苯撐雙(間氨基苯甲酰胺)、N,N' -二甲基-N,N' -對苯 撐雙(對氨基苯甲酰胺)、N,N' -二甲基-N,N' -對苯撐雙(間氨基苯甲酰胺)、N,N' -二 苯基-N,N' -對苯撐雙(對氨基苯甲酰胺)、或N,N' -二苯基-N,N' -對苯撐雙(間氨基苯 甲酰胺),優(yōu)選對苯二胺、間苯二胺、3, 3' -二氨基二苯醚、4, 4' -二氨基二苯醚、3, 4' -二 氨基二苯醚、3, 3' -二氨基二苯砜、4, 4' -二氨基二苯砜、9, 9' -雙(4-氨基苯基)芴或者 4, 4' -二氨基苯甲酰苯胺。
      [0084] 作為芳香族四羧酸,可以列舉出例如4, 4' -氧二鄰苯二甲酸二酐、3, 3',4, 4' -二 苯甲酮四甲酸二酐、均苯四甲酸二酐、3, 4, 9, 10-茈四甲酸二酐、3, 3',4, 4' -二苯砜四甲酸 二酐、3, 3',4, 4' -聯(lián)苯四甲酸二酐、1,2, 5, 6-萘四甲酸二酐、3, 3',4, 4' -對三聯(lián)苯四甲酸 二酐或3, 3',4, 4' -間三聯(lián)苯四甲酸二酐等,優(yōu)選為4, 4' -聯(lián)苯四甲酸二酐、4, 4' -二苯甲 酮四甲酸二酐、或均苯四甲酸二酐。另外,如果使用如4, 4'-(六氟異丙叉基)二鄰苯二甲 酸二酐這樣的氟系的四羧酸二酐,能夠得到短波長區(qū)域的透明性良好的聚酰亞胺。
      [0085] 在為了得到聚酰胺酸的、具有酸酐基的化合物和二胺化合物的加成聚合中,也可 以根據(jù)需要添加馬來酸酐或者鄰苯二甲酸酐等酸酐作為封端劑。另外,為了提高與玻璃 板或者硅片等無機物的粘接性,也可以使用具有硅原子的酸酐或者具有硅原子的二胺化合 物。作為具有硅原子的二胺,優(yōu)選雙_3_(氨基丙基)四甲基硅氧烷等硅氧烷二胺化合物。 具有硅原子的二胺在全部二胺化合物中所占的比例優(yōu)選1~20摩爾%。如果硅氧烷二胺化 合物少,不能得到提高粘接性的效果。另一方面,如果過大,有膜的耐熱性降低的趨勢。另 外,遮光層的圖案形成中有以堿性溶液顯影的情況,如果量過多,由于附著性過度高,因此 在堿顯影時,有時會產(chǎn)生殘留膜這樣的問題。
      [0086] 作為為了得到聚酰胺酸的、具有酸酐基的化合物和二胺化合物,也可以使用脂 環(huán)式的酸二酐或脂環(huán)式的二胺。作為脂環(huán)式的酸二酐或脂環(huán)式的二胺,可以舉出例如, 1,2, 4, 5-環(huán)己烷四甲酸二酐、雙環(huán)[2. 2. 2]辛-7-烯-2, 3, 5, 6-四甲酸二酐、雙環(huán)[2. 2. 1] 庚烷-2-內(nèi)型-3-內(nèi)型-5-外型-6-外型-2, 3, 5, 6-四甲酸二酐、雙環(huán)[2. 2. 1]庚烷-2-外 型-3-外型-5-外型-6-外型-2, 3, 5, 6-四甲酸二酐、雙環(huán)[2. 2. 1]庚烷-2, 3, 5, 6-四甲酸 二酐、或十氫-二甲橋萘四甲酸二酐、或雙[2-(3-氨基丙氧基)乙基]醚、1,4-丁二醇-雙 (3-氨基丙基)醚、3, 9-雙(3-氨基丙基)-2, 4, 8, 10-四螺-5, 5-^烷、1,2-雙(2-氨 基乙氧基)乙烷、1,2-雙(3-氨基丙氧基)乙烷、三甘醇-雙(3-氨基丙基)醚、聚乙二 醇-雙(3-氨基丙基)醚、3, 9-雙(3-氨基丙基)-2, 4, 8, 10-四螺-5, 5-^烷或1,4_ 丁 二醇-雙(3-氨基丙基)醚。
      [0087]遮光層(A)也可以含有作為其他的添加劑的附著性改良劑、高分子分散劑或者表 面活性劑等。作為附著改良劑,可舉出例如硅烷偶聯(lián)劑或者鈦偶聯(lián)劑。優(yōu)選附著性改良劑相 對于聚酰亞胺樹脂、丙烯酸樹脂等樹脂添加0. 2~20質(zhì)量%。作為高分子分散劑,可舉出例 如聚乙烯亞胺類高分子分散劑、聚氨酯類高分子分散劑或者聚烯丙胺類高分子分散劑。通 常,高分子分散劑相對于遮光材料添加1~40質(zhì)量%。作為表面活性劑,可以舉出例如月 桂基硫酸銨或聚氧乙烯烷基醚硫酸三乙醇胺等陰離子表面活性劑、硬脂基胺乙酸酯或月桂 基三甲基氯化銨等陽離子表面活性劑、月桂基二甲基氧化胺或月桂基羧甲基羥基乙基咪唑 眢|甜菜堿等兩性表面活性劑、聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯硬脂基醚或失水山梨糖醇單硬 脂酸酯等非離子表面活性劑、以聚二甲基硅氧烷等為主骨架的有機硅系表面活性劑或氟系 表面活性劑。通常,表面活性劑相對于顏料添加0. 001~10質(zhì)量%,優(yōu)選添加0. 01~1質(zhì) 量%。如果表面活性劑少,有時涂布性、著色被膜的平滑性或者防止貝納爾旋流窩(Benard Cells)的效果變得不充分。另一方面,如果表面活性劑過多,則有時涂膜物性變得不良。上 述各種添加劑包含于設(shè)置遮光層(A)時的組合物中,也可以在之后,通過加熱、光照射,與 樹脂發(fā)生化學(xué)反應(yīng),引入到樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)中。
      [0088]〈〈遮光層(B) >>
      [0089]〈遮光層⑶的組成〉
      [0090]本發(fā)明的黑矩陣基板中遮光層(B)含有遮光材料,更優(yōu)選含有樹脂。
      [0091]作為遮光層(B)含有的遮光材料,可舉出與遮光層(A)同樣的物質(zhì),但由于0D/T大,優(yōu)選選自炭黑、氮氧化鈦、氮化鈦和碳化鈦中的1種以上,更優(yōu)選氮化鈦或者鈦氮 化物。這里所說的鈦氮化物是指包含氮化鈦作為主成分,含有氧化鈦Ti02、低價氧化鈦 Tin02n "1fn5 20)或者氮氧化鈦作為副成分的物質(zhì)。鈦氮化物粒子含有氧原子,為得到 更高0D/T優(yōu)選氧原子少,更優(yōu)選氧原子的含量為12質(zhì)量%以下,進一步優(yōu)選8質(zhì)量%以 下。
      [0092] 作為鈦氮化物粒子的合成,可舉出例如電爐法或者熱等離子體法等氣相反應(yīng)法。 其中,熱等離子體法由于混入的雜質(zhì)少,粒徑容易集中,生產(chǎn)性也高,所以優(yōu)選。作為產(chǎn)生熱 等離子體的方法,可舉出例如直流電弧放電、多層電弧放電、高頻(RF)等離子體或混合等 離子體等。其中,高頻等離子體由于從電極混入的雜質(zhì)少而優(yōu)選。
      [0093] 遮光材料的粒徑優(yōu)選10~300nm,更優(yōu)選30~100nm。這里所說的遮光材料的粒 徑是指遮光材料的一次粒徑。遮光材料的一次粒徑可以通過與微粒的情況同樣的方法算 出。如果遮光材料的粒徑超過300nm,微細(xì)的圖案加工有時會變得困難。另一方面,如果小 于10nm,容易引起粒子的凝集,有反射率變高的趨勢。
      [0094] 遮光層⑶中遮光材料占有的比例,優(yōu)選10質(zhì)量%以上,進一步更優(yōu)選40質(zhì)量% 以上。且其比例優(yōu)選90質(zhì)量%以下,更優(yōu)選80質(zhì)量%。如果遮光材料的比例少,得到充分 的光密度變得困難。另一方面,如果過多,圖案形成變得困難。
      [0095] 遮光層⑶能夠含有的樹脂的比例優(yōu)選10質(zhì)量%以上,更優(yōu)選20質(zhì)量%以上。且 其比例優(yōu)選90質(zhì)量%以下,更優(yōu)選60質(zhì)量%以下。
      [0096] 作為遮光層(B)能夠含有的樹脂,可舉出與遮光層(A)含有的樹脂同樣的樹脂,其 中優(yōu)選丙烯酸樹脂。
      [0097]作為丙烯酸樹脂,優(yōu)選具有羧基的丙烯酸系聚合物,可以優(yōu)選使用不飽和羧酸和 烯屬不飽和化合物的共聚物。
      [0098] 作為成為共聚物的原料的不飽和羧酸,可以列舉出例如丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康 酸、巴豆酸、馬來酸、富馬酸或乙烯基乙酸。作為烯屬不飽和化合物,可以列舉出例如丙烯酸 甲酯、甲基丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸乙酯、丙烯酸正丙酯、丙烯酸異丙酯、甲基 丙烯酸正丙酯、甲基丙烯酸異丙酯、丙烯酸正丁酯、甲基丙烯酸正丁酯、丙烯酸仲丁酯、甲基 丙烯酸仲丁酯、丙烯酸異丁酯、甲基丙烯酸異丁酯、丙烯酸叔丁酯、甲基丙烯酸叔丁酯、丙烯 酸正戊酯、甲基丙烯酸正戊酯、丙烯酸2-羥基乙酯、甲基丙烯酸2-羥基乙酯、丙烯酸芐酯、 或甲基丙烯酸芐酯等不飽和羧酸烷基酯。此外作為其他的烯屬不飽和化合物,可以舉出苯 乙烯、對甲基苯乙烯、鄰甲基苯乙烯、間甲基苯乙烯或a-甲基苯乙烯等芳香族乙烯基化合 物。其他可以舉出丙烯酸氨基乙基酯等不飽和羧酸
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