0235](實(shí)施例2~7)
[0236] 除了分別使用白色微粒分散液WD2~WD7來代替WD1作為使用的白色微粒分散液 以外，其余與實(shí)施例1同樣地操作，得到黑色樹脂組合物L(fēng)L2~LL7。除了使用這些黑色樹 脂組合物L(fēng)L2~LL7以外，其余與實(shí)施例1同樣地操作，得到0D值1.2的遮光層（A)和0D 值2. 8的遮光層（B)層疊了的0D值4. 0的黑矩陣基板。
[0237](實(shí)施例8)
[0238] 將遮光材料分散液Bk2 (364g)和白色微粒分散液WD3 (364g)混合后，添加聚酰胺 酸A-l(63g)、y- 丁內(nèi)酯（82g)、N-甲基-2-吡咯烷酮（87g)、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯 (39g)和表面活性劑LC951 (lg)(楠本化成制），得到全固體成分濃度10質(zhì)量％、遮光材料 /白色微粒/樹脂（質(zhì)量比）= 35/35/30的黑色樹脂組合物L(fēng)L8。除了使用該黑色樹脂組 合物L(fēng)L8以外，其余與實(shí)施例1同樣地操作，得到0D值1. 4的遮光層㈧和0D值2. 8的遮 光層（B)層疊了的0D值4. 2的黑矩陣基板。
[0239](實(shí)施例9)
[0240]將遮光材料分散液Bk3 (364g)和白色微粒分散液WD5 (364g)混合后，添加聚酰胺 酸A-l(63g)、y- 丁內(nèi)酯（82g)、N-甲基-2-吡咯烷酮（87g)、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯 (39g)和表面活性劑LC951 (lg)，得到全固體成分濃度10質(zhì)量％、遮光材料/白色微粒/樹 脂（質(zhì)量比）=35/35/30的黑色樹脂組合物L(fēng)L9。除了使用該黑色樹脂組合物L(fēng)L9以外， 其余與實(shí)施例1同樣地操作，得到OD值1. 0的遮光層（A)和OD值2. 8的遮光層（B)層疊 了的、OD值3. 8的黑矩陣基板。
[0241](實(shí)施例 10)
[0242] 用旋涂機(jī)將樹脂組合物L(fēng)L3以固化后的膜厚變?yōu)?. 7ym的方式涂布于作為透明 基板的無堿玻璃（1737)基板上，在120°C下進(jìn)行半固化20分鐘，得到0D值1. 2的遮光層 (A)的半硬化膜。然后，用旋涂機(jī)涂布正型光致抗蝕劑（SRC-100r>7°U-社制），在90°C 下進(jìn)行預(yù)烘烤10分鐘。對于該涂布膜，使用掩模套準(zhǔn)器PEM-6M，經(jīng)由正用的光掩模以紫外 線200mJ/cm2的曝光量曝光。用氫氧化四甲銨的2. 38質(zhì)量％水溶液同時(shí)進(jìn)行正型抗蝕劑 的顯影和聚酰亞胺前體的蝕刻后，用甲基溶纖劑乙酸酯剝離正型抗蝕劑。然后，在230°C下 固化30分鐘，制作厚度0. 7ym、0D值1. 2的遮光層（A)。
[0243] 向遮光材料分散液Bk2(728g)中，添加聚酰胺酸A_l(63g)、y-丁內(nèi)酯（82g)、 N-甲基-2-吡咯烷酮（87g)、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯（39g)和表面活性劑LC951 (lg)， 得到全固體成分濃度10質(zhì)量％、遮光材料/樹脂（質(zhì)量比）=70/30的非感光黑色樹脂組 合物UL2。
[0244] 然后，用旋涂機(jī)將非感光性樹脂組合物UL2以固化后的膜厚變?yōu)?. 7ym的方式涂 布于制作了遮光層（A)的基板上，在120°C下進(jìn)行半固化20分鐘。然后，用旋涂機(jī)涂布正 型光致抗蝕劑（SRC-100)，在90°C下進(jìn)行預(yù)烘烤10分鐘。對于該涂布膜，使用掩模套準(zhǔn)器 PEM-6M，經(jīng)由正用的光掩模以紫外線200mJ/cm2的曝光量曝光，使用氫氧化四甲銨的2. 38 質(zhì)量％水溶液同時(shí)進(jìn)行正型抗蝕劑的顯影和聚酰亞胺前體的蝕刻后，用甲基溶纖劑乙酸酯 剝離正型抗蝕劑。然后，在230°C下固化30分鐘，得到厚度0. 7ym、0D值1. 2的遮光層（A) 和厚度0.7ym、0D值2. 8的遮光層（B)層疊了的樹脂黑矩陣基板。
[0245](實(shí)施例11)
[0246] 除了使用微粒分散液WD8代替WD1作為使用的微粒分散液以外，其余與實(shí)施例1 同樣地操作，得到黑色樹脂組合物L(fēng)L8。除了使用該黑色樹脂組合物L(fēng)L8以外，其余與實(shí)施 例1同樣地操作，得到0D值1. 2的遮光層㈧和0D值2. 8的遮光層⑶層疊了的0D值 4.0的黑矩陣基板。
[0247](比較例1)
[0248] 向遮光材料分散液Bkl(728g)中添加聚酰胺酸A-l(63g)、y- 丁內(nèi)酯（82g)、N_甲 基-2-吡咯烷酮（87g)、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯（39g)和表面活性劑LC951 (lg)，得到 全固體成分濃度10質(zhì)量％、不包含折射率為1. 4~1. 8的白色微粒的遮光材料/樹脂（質(zhì) 量比）=70/30的黑色樹脂組合物L(fēng)L21。
[0249] 用旋涂機(jī)將黑色樹脂組合物L(fēng)L21以固化后的膜厚變?yōu)?. 7ym的方式涂布于作為 透明基板的無堿玻璃（1737)基板上，在120°C下進(jìn)行半固化20分鐘，得到0D值為2. 5的遮 光層（A)的半硬化膜。然后，用旋涂機(jī)將感光性黑色樹脂組合物UL1以固化后的膜厚變?yōu)?0. 7ym的方式涂布，在90 °C下進(jìn)行預(yù)烘烤10分鐘。對于該涂布膜，使用掩模套準(zhǔn)器PEM-6M， 經(jīng)由光掩模以紫外線200mJ/cm2的曝光量曝光。
[0250] 接著，用氫氧化四甲銨的0. 5質(zhì)量％水溶液的堿性顯影液來顯影，接著通過純水 洗滌，得到圖案形成基板。通過將得到的圖案形成基板在熱風(fēng)烘箱中在230°C下保持30分 鐘進(jìn)行固化，得到了 0D值2. 5的遮光層（A)和0D值2. 8的遮光層（B)層疊了的0D值5. 3 的黑矩陣基板。
[0251](比較例2)
[0252] 遮光材料分散液Bkl(364g)和白色微粒分散液WD22 (364g)混合后，添加聚酰胺 酸A-l(63g)、y- 丁內(nèi)酯（82g)、N-甲基-2-吡咯烷酮（87g)、乙酸3-甲基-3-甲氧基丁酯 (39g)和表面活性劑LC951 (lg)，制作黑色樹脂組合物L(fēng)L22,但粒子發(fā)生凝集，粘度明顯上 升，不可能用旋涂機(jī)涂布。
[0253](比較例3)
[0254] 除了使用白色微粒分散液WD23以外，其余與實(shí)施例1同樣地操作，得到黑色樹脂 組合物L(fēng)L23。除了使用該黑色樹脂組合物L(fēng)L23以外，其余與實(shí)施例1同樣地操作，得到0D 值1. 2的遮光層㈧和0D值2. 8的遮光層⑶層疊了的0D值4. 0的樹脂黑矩陣基板。
[0255]〈評價(jià)結(jié)果〉
[0256] 表1和表2中顯示實(shí)施例1~11和比較例1~3制作的黑色樹脂組合物的組成 和制作的BM基板的評價(jià)結(jié)果。
[0257] 從表1和表2的結(jié)果明確了，實(shí)施例1~11制作的BM基板都是反射色度和反射 率低，因此，適合抑制外光的影響，且0D值和體積電阻值充分高，因此，是高性能的黑矩陣 基板。
[0258]表1
[0259]
[0260] 表 2
[0261]
[0262](濾色器基板的制作）
[0263] 將綠顏料（PG36 ;44g)、黃顏料（PY138 ;19g)、聚酰胺酸A-2 (47g)和y- 丁內(nèi)酯 (890g)裝入罐中，用均質(zhì)機(jī)（特殊機(jī)化制）攪拌1小時(shí)，得到G顏料預(yù)備分散液G1。然后， 向填充了 85%的0? 40臟巾二氧化鋯珠（卜U七7A珠；東レ（株）制）的戴諾磨KDL(シ yV少工y夕一7° 7 4七' 只制）供給預(yù)備分散液G1，以旋轉(zhuǎn)速度1lm/s進(jìn)行分散3小時(shí)，得 到固體成分濃度7質(zhì)量％、顏料/聚合物（質(zhì)量比）=90/10的G顏料分散液G1。將G顏 料分散液G1以聚酰胺酸A-2和溶劑稀釋，得到綠色樹脂組合物。
[0264] 裝入紅顏料（PR254 ;63g)代替綠顏料和黃顏料，同樣地操作，得到固體成分濃度7 質(zhì)量％、顏料/聚合物（質(zhì)量比）=90/10的R顏料分散液R1。將R顏料分散液R1以聚酰 胺酸A-2和溶劑稀釋，得到紅色樹脂組合物。
[0265] 裝入藍(lán)顏料（PR15:6 ;63g)代替綠顏料和黃顏料，同樣地操作，得到固體成分濃度 7質(zhì)量％、顏料/聚合物（質(zhì)量比）=90/10的B顏料分散液B1。將B顏料分散液B1以聚 酰胺酸A-2和溶劑稀釋，得到藍(lán)色樹脂組合物。
[0266] 分別在實(shí)施例1~11以及比較例1和3中制作的黑矩陣基板上，以干燥后膜厚為 2. 0ym的方式涂布紅色糊料進(jìn)行預(yù)烘烤，形成聚酰亞胺前體紅色著色膜。使用正型光致抗 蝕劑，通過與上述同樣的手段，形成紅色像素，加熱到290°C進(jìn)行熱硬化。同樣地操作，涂布 綠色糊料形成綠像素，加熱到290°C進(jìn)行熱硬化。同樣地操作，涂布藍(lán)色糊料形成藍(lán)像素，加 熱到290°C進(jìn)行熱硬化。
[0267](液晶顯示裝置的制作）
[0268] 將得到的各個(gè)濾色器基板用中性洗劑洗滌后，通過印刷法涂布由聚酰亞胺樹脂形 成的取向膜，使用加熱板在250°C下加熱10分鐘。加熱后的聚酰亞胺樹脂取向膜的膜厚為 0. 07ym。然后，摩擦處理各個(gè)濾色器基板，通過分散法涂布密封劑，使用加熱板在90°C下 加熱10分鐘。另一方面，同樣地用中性洗劑洗滌在玻璃基板上形成了TFT陣列的基板后， 涂布取向膜，進(jìn)行加熱。然后，散布直徑5. 5ym的球狀間隔物，將涂布了密封劑的各個(gè)濾色 器基板和TFT基板疊放在一起，一邊在烘箱中加壓一邊在160°C下加熱90分鐘，使密封劑 硬化，得到單元（cell)。將各個(gè)單元在120°C的溫度、13. 3Pa的壓力下放置4小時(shí)，然后， 在氮中放置〇. 5小時(shí)后，再次在真空下填充液晶化合物。液晶化合物的填充以以下方式進(jìn) 行：將單元放入到室中，在室溫下減壓到13. 3Pa的壓力后，使液晶注入口浸漬在液晶中，使 用氮?dú)饣謴?fù)到常壓。填充液晶后，通過紫外線固化樹脂，使液晶注入口封口。接著將偏光片 粘貼在單元的2張玻璃基板的外側(cè)，就完成了單元。進(jìn)而將得到的單元模塊化，就完成了液 晶顯示裝置。
[0269] 觀察得到的液晶顯示裝置的結(jié)果是，具備實(shí)施例1~9和實(shí)施例11得到的黑矩陣 基板的液晶顯示裝置中，反射色度和反射率均低，因此，即使照射外光的情況下，顯示特性 也良好。關(guān)于具備實(shí)施例10中得到的黑矩陣基板的液晶顯示裝置，大體上良好，但是黑矩 陣的圖案發(fā)生偏移，因此感到有些暗。另一方面，具備比較例1和比較例3得到的黑矩陣基 板的液晶顯示裝置中，由于反射色度和反射率均高，因此照射外光的情況下，觀察到黑顯示 浮起，顯不品質(zhì)差。
[0270] 符號的說明
[0271] 10:透明基板
[0272] 11 :樹脂BM(樹脂黑矩陣）
[0273] 21:遮光層⑷
[0274] 22 :遮光層（B)
[0275] 20:濾色器基板
[0276] 23 :像素
[0277] 24 :像素
[0278] 25 :像素
[0279] 26 :外覆膜
[0280] 28:透明電極
[0281] 29:有機(jī)EL層
[0282] 30:背面電極層
[0283] 31 :絕緣膜
[0284] 32 :基板
[0285] 33:取出電極
[0286] 40:有機(jī)EL元件
[0287] 產(chǎn)業(yè)上的利用可能性
[0288] 本發(fā)明的黑矩陣基板可以利用到使用冷陰極管或者LED等光源的顯示裝置或者 液晶顯示裝置用濾色器基板、或者液晶顯示裝置。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種黑矩陣基板，依次具有透明基板、遮光層（A)和遮光層（B)，遮光層（A)的每單 位厚度的光密度比遮光層（B)的每單位厚度的光密度低，遮光層（A)含有遮光材料和折射 率1. 4~1. 8的微粒。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的黑矩陣基板，折射率1. 4~1. 8的微粒是選自氧化鋁、氧化 硅、硫酸鋇、硫酸鈣、碳酸鋇、碳酸鈣、碳酸鎂、碳酸鍶以及偏硅酸鈉中的1種以上的微粒。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的黑矩陣基板，折射率1. 4~1. 8的微粒的通過依照J(rèn)IS P8148 (2001)的方法測定得到的白度為30 %以上。4. 根據(jù)權(quán)利要求1~3中任一項(xiàng)所述的黑矩陣基板，其特征在于，透明基板由聚酰亞胺 樹脂形成。5. -種濾色器基板，權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的黑矩陣基板的遮光層（A)和遮光 層（B)具有圖案形狀，在不存在圖案的部分存在著色了的像素。6. -種發(fā)光器件，具有權(quán)利要求5所述的濾色器基板和發(fā)光元件。7. 根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光器件，發(fā)光元件為有機(jī)EL元件。8. -種液晶顯示裝置，依次具有權(quán)利要求5所述的濾色器基板、液晶化合物和對置基 板。9. 權(quán)利要求1~4中任一項(xiàng)所述的黑矩陣基板的制造方法，具有下述工序： 在透明基板的上方形成含有遮光材料、和折射率1. 4~1. 8的微粒的組合物的層的工 序； 在該組合物的層的上方形成含有遮光材料的感光性樹脂組合物的層的工序； 進(jìn)行圖案曝光，通過顯影液或者溶劑對上述2種層進(jìn)行圖案加工的工序。10. -種濾色器的制造方法，具有通過權(quán)利要求9所述的方法制造了黑矩陣基板后，在 不存在圖案的部分設(shè)置像素的工序。
【專利摘要】本發(fā)明的課題在于提供一種雖然具有充分的光密度，但是反射率低的形成有樹脂黑矩陣的樹脂黑矩陣基板。本發(fā)明是一種黑矩陣基板，依次具有透明基板、遮光層(A)及遮光層(B)，遮光層(A)的每單位厚度的光密度比遮光層(B)的每單位厚度的光密度低，遮光層(A)包含遮光材料和折射率1.4～1.8的微粒。本發(fā)明的黑矩陣基板因?yàn)槠涮卣鞫鴮τ跒V色器、液晶顯示裝置有用。
【IPC分類】C08F2/44, H05B33/12, G02F1/1335, G02B5/20, C08F2/50, H01L51/50, G03F7/004
【公開號】CN105026963
【申請?zhí)枴緾N201480010592
【發(fā)明人】西山雅仁, 的羽良典, 野中晴支, 井上欣彥
【申請人】東麗株式會(huì)社
【公開日】2015年11月4日
【申請日】2014年3月4日
【公告號】WO2014136738A1