的構(gòu)造的情況。
[0111]如圖1所示，該實(shí)施方式的裝置在一個移動路徑中具備兩個工作臺21、22。由于移動路徑為一個，因此一方的工作臺無法超越另一方的工作臺，雙方的工作臺不會交錯。以下，將兩個工作臺21、22設(shè)為第一工作臺21、第二工作臺22。圖2中將圖1所示的工作臺移動機(jī)構(gòu)3與其控制系統(tǒng)一并不出。
[0112]工作臺移動機(jī)構(gòu)3能夠采用各種機(jī)構(gòu)，能夠與專利文獻(xiàn)I同樣采用由滾珠絲杠和線性引導(dǎo)件構(gòu)成的機(jī)構(gòu)，但在該實(shí)施方式中，采用由線性引導(dǎo)件31和線性馬達(dá)工作臺32構(gòu)成的機(jī)構(gòu)。線性馬達(dá)工作臺存在各種類型，但在實(shí)施方式中采用分類器(sorter)型的線性馬達(dá)工作臺。對于這種線性馬達(dá)工作臺，作為驅(qū)動側(cè)的構(gòu)造，被稱為臺板的基盤33以沿著移動方向延伸的狀態(tài)設(shè)置。雖然省略詳細(xì)圖示，但臺板33形成為在平板狀的部件的表面以呈棋盤的網(wǎng)格狀的方式設(shè)置有由小塊狀(例如長方體狀)的強(qiáng)磁性體構(gòu)成的凸極的構(gòu)造。被驅(qū)動側(cè)即工作臺21、22相對于臺板33以借助氣體稍許間隙浮起的狀態(tài)配置，且在下表面設(shè)置有包含電磁鐵的線性馬達(dá)工作臺32。通過電磁鐵的控制來切換磁極，由此，工作臺21、22在臺板33上浮起并沿線性引導(dǎo)件31的方向以任意速度移動。另外，如圖1所示，在各工作臺21、22的下表面的兩側(cè)固定有滑動件211、221，該滑動件211、221與線性引導(dǎo)件31嵌合而在線性引導(dǎo)件31上滑動。
[0113]此外，也可以采用如下類型的線性馬達(dá)工作臺:在磁軌道(不同磁極沿移動方向交替存在的軌道)上配置工作臺，并在其下表面設(shè)置電磁鐵而進(jìn)行驅(qū)動，由此使工作臺沿著磁軌道移動。
[0114]此外，各工作臺21、22在上表面具備對基板S進(jìn)行真空吸附的未圖示的真空吸附機(jī)構(gòu)。真空吸附機(jī)構(gòu)是從形成于各工作臺21、22的上表面的多個吸附孔進(jìn)行吸引(形成負(fù)壓)從而對基板S進(jìn)行保持以免其移動的機(jī)構(gòu)。
[0115]如圖2所示，實(shí)施方式的光取向裝置具備對裝置整體進(jìn)行控制的控制單元4?？刂茊卧?具有:存儲對工作臺移動機(jī)構(gòu)3等各部分的動作進(jìn)行控制的順序程序的存儲部41、執(zhí)行順序程序的運(yùn)算處理部42等。來自控制單元4的控制信號被朝包括工作臺移動機(jī)構(gòu)3的驅(qū)動部的裝置的各部分輸送。
[0116]對于實(shí)施方式的裝置，利用工作臺移動機(jī)構(gòu)3使第一、第二工作臺21、22移動，并使其交替通過照射區(qū)域R，由此對各工作臺21、22上的基板S交替地照射偏振光。由此，能夠?qū)崿F(xiàn)基于生產(chǎn)間隔時間縮短的高生產(chǎn)率工序。此時，實(shí)施方式的裝置與專利文獻(xiàn)I的裝置相比能夠?qū)崿F(xiàn)進(jìn)一步的生產(chǎn)間隔時間縮短，從而能夠?qū)崿F(xiàn)進(jìn)一步的高生產(chǎn)率工序，并且能夠?qū)崿F(xiàn)光取向處理的面內(nèi)均勻性的進(jìn)一步提高。以下，對該點(diǎn)進(jìn)行說明。
[0117]在該實(shí)施方式的裝置中也與專利文獻(xiàn)I同樣，基板S朝第一工作臺21的搭載在照射區(qū)域R的一側(cè)進(jìn)行，在使第一工作臺21移動至照射區(qū)域R的另一側(cè)后使其掉頭而返回一側(cè)(即往復(fù)移動)，由此來進(jìn)行光取向處理?；錝朝第二工作臺22的搭載在照射區(qū)域R的另一側(cè)進(jìn)行，在使第二工作臺22移動至照射區(qū)域R的一側(cè)后使其掉頭而返回另一側(cè)，由此來進(jìn)行光取向處理。在各側(cè)，進(jìn)行基板搭載動作的位置和進(jìn)行基板回收動作的位置不需要相同，但在該實(shí)施方式中形成為相同位置(以下，稱為基板搭載回收位置)。
[0118]基于控制單元4的控制如上所述也包括工作臺移動機(jī)構(gòu)3的控制，但在控制單元4中作為各工作臺21、22的移動速度設(shè)定有兩個速度。一個是通過照射區(qū)域R時的速度(以下，稱為設(shè)定通過速度)。另一個是基板搭載回收位置與照射區(qū)域R之間的移動速度，與基板搭載回收位置和照射區(qū)域R之間的基板S的搬運(yùn)速度相當(dāng)(以下，稱為設(shè)定搬運(yùn)速度)。
[0119]在實(shí)施方式的裝置中，設(shè)定搬運(yùn)速度設(shè)定成比設(shè)定通過速度高的速度。S卩，構(gòu)成為:與通過照射區(qū)域R時的速度相比，以快速的速度使各工作臺21、22到達(dá)照射區(qū)域R，以快速的速度從照射區(qū)域R返回基板搭載回收位置。
[0120]基板S的通過速度根據(jù)與光取向處理所需的累計(jì)照射量之間的關(guān)系設(shè)定。對于基板S上的一點(diǎn)處的累計(jì)照射量，在將照射區(qū)域R中的偏振光的照度設(shè)為I，將通過速度(嚴(yán)格來說為平均通過速度)設(shè)為V，將從移動方向觀察的照射區(qū)域R的長度設(shè)為L時，累計(jì)照射量Q以Q = 1-L/V表示。因而，根據(jù)與所需的累計(jì)照射量Q之間的關(guān)系預(yù)先計(jì)算并設(shè)定通過速度V。
[0121]發(fā)明人最初始終以恒定的設(shè)定通過速度進(jìn)行工作臺21、22的移動，但發(fā)現(xiàn)即便以比該速度快的速度使工作臺21、22移動也不會產(chǎn)生基板S在工作臺21、22上偏移等的問題，從而想到了以比設(shè)定通過速度快的速度進(jìn)行照射區(qū)域R—基板搭載回收位置之間的移動的結(jié)構(gòu)。
[0122]在如上所述以兩個不同的速度進(jìn)行工作臺21、22的移動的情況下，雖然在移動的過程中伴隨著加速以及減速，但從此時的要點(diǎn)在于使基板S上的各點(diǎn)處的照射量均勻從而使光取向處理的面內(nèi)均勻性更高的觀點(diǎn)出發(fā)，形成為:關(guān)于基板S的表面內(nèi)的所有的點(diǎn)，在通過照射區(qū)域R時，使其保持恒定的設(shè)定通過速度，在此基礎(chǔ)上進(jìn)行加速、減速。關(guān)于該點(diǎn)，使用圖3以及圖4進(jìn)行說明。
[0123]圖3以及圖4是示出第一實(shí)施方式的裝置中的工作臺21、22的位置與移動速度之間的關(guān)系的概略圖。其中，圖3示出從基板搭載回收位置去往照射區(qū)域R的情況，圖4示出從照射區(qū)域R返回基板搭載回收位置的情況。在圖3以及圖4中，作為一個例子示出第一工作臺21的情況。在圖3以及圖4中，對于附加描繪的圖表，縱軸表示速度，橫軸表示在基板的移動方向上的位置(移動距離)。為了理解，橫軸是移動的基板的移動方向前方邊緣的位置，因此圖表示出基板的移動方向前方邊緣處的速度的變化。
[0124]如圖3的(I)、(2)所示，在從基板搭載回收位置去往照射區(qū)域R時，第一工作臺21以設(shè)定搬運(yùn)速度移動。而且，在照射區(qū)域R的近前開始減速，在通過照射區(qū)域R的過程中，以恒定的設(shè)定通過速度移動。
[0125]此時要點(diǎn)在于:如圖3的(I)所示，在第一工作臺21上的基板S的移動方向前方邊緣到達(dá)照射區(qū)域R之前，結(jié)束朝設(shè)定通過速度的減速。假設(shè)若進(jìn)行例如基板的移動方向中央的點(diǎn)處的速度控制，在中央的點(diǎn)到達(dá)照射區(qū)域R之前減速至設(shè)定通過速度即可，則如圖3的(2)所示，基板S的移動方向前方邊緣及其附近的表面區(qū)域在稍稍進(jìn)入照射區(qū)域R之后減速至設(shè)定通過速度。即，基板S的移動方向前方邊緣及其附近表面區(qū)域在以比設(shè)定通過速度快的速度在照射區(qū)域R內(nèi)稍稍移動之后降低至設(shè)定通過速度并以該速度移動。在該情況下，在基板S的移動方向前方邊緣附近的表面區(qū)域，與其他區(qū)域相比累計(jì)照射量減少，會產(chǎn)生光取向處理的不足(處理的不均勻化)。另一方面，如圖3的(I)所示，若在基板S的移動方向前方邊緣到達(dá)照射區(qū)域R之前減速至設(shè)定通過速度，則不存在這樣的問題。
[0126]并且，如圖4的(I)所示，在從照射區(qū)域R朝基板搭載回收位置返回時，第一工作臺21從設(shè)定通過速度加速至設(shè)定搬運(yùn)速度，以設(shè)定搬運(yùn)速度到達(dá)基板搭載回收位置。此時要點(diǎn)在于:在第一工作臺21上的基板S的移動方向后方邊緣通過照射區(qū)域R后開始加速。假設(shè)若如圖4的(2)所示在基板S的移動方向后方邊緣通過照射區(qū)域R之前開始加速，則在基板S的移動方向后方邊緣附近的表面區(qū)域，以比設(shè)定通過速度快的速度在照射區(qū)域R內(nèi)稍稍移動，同樣，會產(chǎn)生因累計(jì)照射量的減少而導(dǎo)致的光取向不足。另一方面，如圖4的
(2)所示，若在基板S的移動方向后方邊緣通過照射區(qū)域R后開始加速，則不存在這樣的問題。
[0127]并且，實(shí)施方式的裝置如上所述使各工作臺21、22往復(fù)移動。在往復(fù)移動中的掉頭的位置(以下，僅稱為掉頭位置)，當(dāng)然速度為零，因此，存在朝向掉頭位置的減速(去路)、從掉頭位置的加速(歸路)的控制。這些控制也與上述圖3以及圖4的情況同樣，實(shí)現(xiàn)各工作臺21、22上的基板S的表面區(qū)域中的光取向處理的均勻性的提高。其中，與上述圖3以及圖4所示的情況不同，對于照射區(qū)域R與掉頭位置之間的移動，不僅存在速度控制的問題，而且還存在照射區(qū)域R與掉頭位置之間的空間上的問題。
[0128]使用圖5以及圖6對上述點(diǎn)進(jìn)行說明。圖5以及圖6是示出照射區(qū)域R與掉頭位置之間的空間以及該空間中的移動速度的控制的概略圖。其中，圖5示出從照射區(qū)域R去往掉頭位置的情況下的速度控制，圖6示出從掉頭位置去往照射區(qū)域R的情況下的速度控制。同樣，圖5以及圖6作為一個例子示出第一工作臺21的情況。
[0129]在實(shí)施方式的裝置中，在位于第一基板搭載回收位置的第一工作臺21與照射區(qū)域R之間，確保第二工作臺22上的基板S通過照射區(qū)域R的量以上的空間，在位于第二基板搭載回收位置的第二工作臺22與照射區(qū)域R之間，確保第一工作臺21上的基板S通過照射區(qū)域R的量以上的空間。該點(diǎn)與專利文獻(xiàn)I的裝置同樣。以下，將用于通過照射區(qū)域R的空間稱為退避空間。
[0130]“通過照射區(qū)域R的量以上的空間”的情況也包括確保工作臺21、22的移動方向的長度量的空間和防止碰撞用的稍許空間的情況。即，是位于第一基板搭載回收位置的第一工作臺21與照射區(qū)域R之間的空間與第二工作臺22的長度大致一致，位于第二基板搭載回收位置的第二工作臺22與照射區(qū)域R之間的空間與第一工作臺21的長度大致一致的情況。該情況也在各工作臺21、22上的基板S能夠通過照射區(qū)域R且省空間化這點(diǎn)上是優(yōu)選的。然而，在該配置中，無法確保用于進(jìn)行去往掉頭位置的減速的移動路徑以及用于進(jìn)行從掉頭位置去往照射區(qū)域R的加速的移動路徑，因此存在無法實(shí)現(xiàn)光取向處理的面內(nèi)均勻性的提高的問題。
[0131]如圖5的⑵所示，例如關(guān)于第一工作臺21，位于第二基板搭載回收位置的第二工作臺22的照射區(qū)域R側(cè)的邊緣與照射區(qū)域R之間的距離成為第一退避空間的長度。在該情況下，若第一退避空間的長度僅為第一工作臺21的長度和碰撞避免用的稍許空間的量，則第一工作臺21上的基板S必須在完全通過照射區(qū)域