位置傳感器PSl 用于相對于所述輻射束B的路徑精確地定位圖案形成裝置（例如，掩模）MA。可以使用掩模 對準(zhǔn)標(biāo)記Ml、M2和襯底對準(zhǔn)標(biāo)記PUP2來對準(zhǔn)圖案形成裝置（例如，掩模）MA和襯底W。
[0052] 示出的設(shè)備可以用于下列模式中的至少一種：
[0053] 1.在步進(jìn)模式中，在將支撐結(jié)構(gòu)（例如掩模臺）MT和襯底臺WT保持為基本靜止的 同時，將賦予所述輻射束的整個圖案一次投影到目標(biāo)部分C上（即，單一的靜態(tài)曝光）。然 后將所述襯底臺WT沿X和/或Y方向移動，使得可以對不同目標(biāo)部分C曝光。
[0054] 2.在掃描模式中，在對支撐結(jié)構(gòu)（例如掩模臺）MT和襯底臺WT同步地進(jìn)行掃描 的同時，將賦予所述輻射束的圖案投影到目標(biāo)部分C上（S卩，單一的動態(tài)曝光）。襯底臺WT 相對于支撐結(jié)構(gòu)（例如掩模臺）MT的速度和方向可以通過所述投影系統(tǒng)PS的（縮?。┓?大率和圖像反轉(zhuǎn)特征來確定。
[0055] 3.在另一模式中，將用于保持可編程圖案形成裝置的支撐結(jié)構(gòu)（例如掩模臺）MT 保持為基本靜止，并且在對所述襯底臺WT進(jìn)行移動或掃描的同時，將賦予所述輻射束的圖 案投影到目標(biāo)部分C上。在這種模式中，通常采用脈沖輻射源，并且在所述襯底臺WT的每一 次移動之后、或在掃描期間的連續(xù)輻射脈沖之間，根據(jù)需要更新所述可編程圖案形成裝置。 這種操作模式可易于應(yīng)用于利用可編程圖案形成裝置（例如，如上所述類型的可編程反射 鏡陣列）的無掩模光刻術(shù)中。
[0056] 也可以采用上述使用模式的組合和/或變體，或完全不同的使用模式。
[0057] 圖2更詳細(xì)地示出設(shè)備100,包括源收集器模塊S0、照射系統(tǒng)IL以及投影系統(tǒng)PS。 源收集器模塊SO被構(gòu)造和布置成使得真空環(huán)境可以保持在源收集器模塊SO的包圍結(jié)構(gòu) 220中。用于發(fā)射EUV輻射的等離子體210可以通過激光產(chǎn)生的等離子體（LPP)源形成。 EUV輻射可以由氣體或蒸汽（例如Xe氣體、鋰蒸汽或Sn蒸汽）產(chǎn)生，在所述氣體或蒸汽中， 非常熱的等離子體210被形成以發(fā)出在電磁光譜的EUV范圍中的輻射。如下文將更詳細(xì)地 討論的，在激光產(chǎn)生等離子體（LPP)源的情況下，該非常熱的等離子體210通過配置激光器 LA以發(fā)出激光輻射束205而形成，所述激光輻射束205被聚焦到第一燃料（例如錫（Sn)的 液滴）從第一燃料供給裝置所供給至的目標(biāo)區(qū)域211上。該激光生成Sn蒸汽的等離子體， 該等離子體發(fā)射EUV輻射，這是本領(lǐng)域所已知的。
[0058] 源模塊SO還包括輻射收集器C0,該輻射收集器CO收集所生成的EUV輻射并將EUV 輻射聚焦在虛源點IF處。虛源點IF通常被稱為中間焦點，并且源收集器模塊被布置成使 得中間焦點IF位于包圍結(jié)構(gòu)220內(nèi)的開口 221處或該開口 221附近。虛源點IF是用于發(fā) 射輻射的等離子體210的像。
[0059] 隨后，輻射穿過照射系統(tǒng)IL，該照射系統(tǒng)IL可以包括琢面場反射鏡裝置22和琢面 光瞳反射鏡裝置24,其布置成在圖案形成裝置M處提供輻射束21的期望的角分布以及在 圖案形成裝置MA處提供輻射束強(qiáng)度的期望的均勻性。在輻射束21在被支撐結(jié)構(gòu)MT所保 持的圖案形成裝置MA處被反射時，形成圖案化的束26,并且所述圖案化的束26通過投影系 統(tǒng)PS經(jīng)由反射元件28、30成像到由襯底臺WT或晶片臺所保持的襯底W上。
[0060] 在此參照圖3,其更詳細(xì)地示出輻射源SO的包括燃料液滴生成器4和護(hù)罩5的一 部分。燃料液滴生成器4配置成生成朝向等離子體形成點7引導(dǎo)的燃料液滴6 (例如熔融 的錫的液滴）的流，該等離子體形成點7處于脈沖激光束8的焦點處，在該位置處，燃料液 滴由脈沖激光束8蒸發(fā)以形成用于生成EUV的等離子體。
[0061] 伴隨燃料液滴6,還可以生成非常小的燃料碎片，所述燃料碎片被稱為伴生液滴， 由燃料液滴的不完全的融合所導(dǎo)致。以示例方式，燃料液滴可以具有大約30微米的典型直 徑，而伴生液滴可以具有僅僅6微米的典型直徑。存在這種伴生液滴對于EUV生成具有負(fù) 面效應(yīng)，且盡管生成伴生液滴可以通過調(diào)整燃料液滴生成器4的工作參數(shù)而被最小化，但 是對于不得不調(diào)整該液滴生成器參數(shù)的要求可能帶來不便，如上所述。
[0062] 在本發(fā)明的一實施例中，氣體（例如氫氣）的供給被提供至護(hù)罩5,所述護(hù)罩5設(shè) 置有至少一個出口9,氣體被沿著由箭頭A所示的方向從所述至少一個出口9朝向液滴流 引導(dǎo)。在圖3的實施例中，氫氣被從護(hù)罩的末端沿著與激光束的軸線大致平行的z方向供 給。氫氣的效應(yīng)是如圖3所示偏轉(zhuǎn)燃料液滴流，尤其是，更小的伴生液滴將偏移比完全形成 的燃料液滴更大的距離，因為氫氣流將對于更低質(zhì)量的伴生液滴具有更大的位移效應(yīng)。于 是，應(yīng)當(dāng)理解，雖然伴生液滴仍然與激光束相交，但是它們在等離子體形成部位將不再相交 且將不干擾等離子體形成和EUV生成，或者將僅僅在小得多的程度上干擾等離子體形成和 EUV生成。還應(yīng)當(dāng)理解，氫可以被提供以便沿著不同的方向流動，例如與激光束的軸線成直 角的y軸方向，由此，伴生液滴的偏轉(zhuǎn)使得它們根本不通過激光束。
[0063] 在圖3的實施例中，氫氣被從設(shè)置在護(hù)罩的遠(yuǎn)離燃料液滴生成器的末端處的出口 供給。然而，應(yīng)當(dāng)理解，該出口可以被設(shè)置在沿著該護(hù)罩的長度的任何部位處，且事實上，可 以設(shè)置多于一個的出口，或者可以設(shè)置沿著護(hù)罩的長度延伸的細(xì)長的狹縫狀出口。
[0064] 氫氣流量應(yīng)當(dāng)例如是確保伴生液滴相對于燃料液滴以足以確保它們不干擾EUV 生成的程度偏移。該距離可以根據(jù)伴生液滴是否完全偏移出激光束（即在y方向上）或沿 著激光束（即在z方向上）偏移而變化，但通常200微米量級的距離可能是合適的。這可 以例如通過為伴生液滴相對于燃料液滴施加在20cm距離上大約lm/s的差異速度來實現(xiàn)。 當(dāng)然，應(yīng)當(dāng)理解，這些數(shù)字不是限制性的，而僅僅是示意性的數(shù)字。
[0065] 還應(yīng)當(dāng)注意，伴生液滴可以通過利用液滴照射模塊或液滴檢測模塊來檢測燃料液 滴流和伴生液滴之間的偏移作為下強(qiáng)度信號（或通過使用附加的象限檢測器）進(jìn)行檢測。 以這種方式，可以確認(rèn)，伴生液滴已經(jīng)被偏轉(zhuǎn)足夠的距離。
[0066] 在圖3的實施例中，通過施加差異速度而將伴生液滴從燃料液滴流偏移，任何伴 生液滴的效應(yīng)被最小化。然而，提供用于檢測伴生液滴的存在的設(shè)備可能也是優(yōu)選的，籍 此，燃料液滴生成器的工作參數(shù)可以被調(diào)整以最小化伴生液滴的形成。這種檢測設(shè)備可以 使用用于檢測和特征化燃料液滴流的任何合適的技術(shù)，包括例如光學(xué)技術(shù)和電磁技術(shù)。這 種實施例的一種示例在圖4中示出。
[0067] 在圖4的實施例中，設(shè)備被容納在護(hù)罩5中以監(jiān)測液滴沿著護(hù)罩5的長度的融合。 當(dāng)燃料液滴在較早階段融合時，燃料液滴流具有更好的穩(wěn)定性并且最小化生成伴生液滴， 而如果燃料液滴在后期融合，則形成伴生液滴的可能更大。因此，確定在沿著護(hù)罩的融合出 現(xiàn)點給出了形成伴生液滴的可能性的良好指示。
[0068] 在圖4的實施例中，護(hù)罩5具有兩個表面，這兩個表面設(shè)置成相互面對且在它們之 間具有燃料液滴流。該護(hù)罩5因此可以是管狀護(hù)罩，該管狀護(hù)罩完全圍繞燃料液滴流，或可 以是具有三側(cè)面的C形護(hù)罩。沿著護(hù)罩5的一側(cè)，設(shè)置有LED激光器10的陣列，而沿著與 之相反的一側(cè)，設(shè)置有對應(yīng)的檢測器11的陣列。應(yīng)當(dāng)理解，燃料液滴流的存在和特性可以 通過定時和燃料液滴流中斷從LED激光器發(fā)出的輻射的檢測的方式來檢測。"良好"的燃料 液滴流將是其中燃料液滴在流中早早融合（即在靠近燃料液滴生成器的出口噴嘴的位置 處融合）的燃料液滴流。"壞"的燃料液滴流將是其中燃料液滴僅在燃料液滴生成器的噴嘴 出口下游遠(yuǎn)得多的位置融合的燃料液滴流。如果檢測設(shè)備檢測燃料液滴僅僅在