噴嘴出口下 游的護(hù)罩的末端附近融合，則燃料液滴生成器的工作參數(shù)可以被相應(yīng)地調(diào)整。
[0069] 圖5(a)和（b)示出本發(fā)明的一實(shí)施例，其中電磁感應(yīng)用于檢測(cè)伴生液滴的存在。 如圖5 (a)所示，其示出了穿過(guò)管狀護(hù)罩5的一個(gè)截面，在本發(fā)明的該實(shí)施例中，兩個(gè)電磁傳 感器20、21被設(shè)置成相互成90度定向（但該特定角度不是必需的，也可以選擇其它角度）。 在傳感器20、21之間存在燃料液滴改變所檢測(cè)到的電磁場(chǎng)，因此，傳感器20、21的信號(hào)輸出 可以用于檢測(cè)燃料液滴的存在。應(yīng)當(dāng)理解，傳感器20、21可以被設(shè)置在沿著護(hù)罩的任意點(diǎn) 上，或者事實(shí)上，多對(duì)傳感器可以設(shè)置在沿著護(hù)罩的不同的部位處。該實(shí)施例的特殊的優(yōu)點(diǎn) 在于，除去提供關(guān)于燃料液滴融合的信息之外，傳感器還可以提供關(guān)于燃料液滴和任何零 碎的伴生液滴（如由圖5(b)中示出的示例性檢測(cè)信號(hào)所示出的）的位置的信息。從圖的 左手側(cè)，四個(gè)示例性信號(hào)分別示出：具有良好融合的燃料液滴；在Z方向或Y方向上偏移的 平行的碎片；具有在X方向上的伴生液滴的燃料液滴；以及在Y方向上偏移的液滴。
[0070] 應(yīng)當(dāng)理解，盡管在圖4和圖5的實(shí)施例中用于檢測(cè)燃料液滴融合的設(shè)備被形成為 護(hù)罩的一部分，但是這可能不是必需的，尤其是在護(hù)罩至少部分地開(kāi)口的情況下（例如護(hù) 罩具有C形橫截面），在該情況下，液滴檢測(cè)模塊可以被用于檢測(cè)燃料液滴融合所在的沿著 護(hù)罩的位置。
[0071 ] 應(yīng)當(dāng)理解，將伴生液滴遠(yuǎn)離燃料液滴流偏轉(zhuǎn)和確定燃料液滴融合在燃料液滴流中 何時(shí)出現(xiàn)是可以組合或獨(dú)立采用的構(gòu)思。
[0072] 雖然在本文中詳述了光刻設(shè)備用在制造IC(集成電路），但是應(yīng)該理解到這里所 述的光刻設(shè)備可以有其他的應(yīng)用，例如制造集成光學(xué)系統(tǒng)、磁疇存儲(chǔ)器的引導(dǎo)和檢測(cè)圖案、 平板顯示器、液晶顯示器（LCD)、薄膜磁頭等。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，在這種替代應(yīng)用 的情況中，可以將這里使用的任何術(shù)語(yǔ)"晶片"或"管芯"分別認(rèn)為是與更上位的術(shù)語(yǔ)"襯底" 或"目標(biāo)部分"同義。這里所指的襯底可以在曝光之前或之后進(jìn)行處理，例如在軌道（一種 典型地將抗蝕劑層涂到襯底上并且對(duì)已曝光的抗蝕劑進(jìn)行顯影的工具）、量測(cè)工具和/或 檢驗(yàn)工具中。在可應(yīng)用的情況下，可以將此處的公開(kāi)內(nèi)容應(yīng)用于這種和其他襯底處理工具 中。另外，所述襯底可以處理一次以上，例如為產(chǎn)生多層1C，使得這里使用的所述術(shù)語(yǔ)"襯 底"也可以表示已經(jīng)包含多個(gè)已處理層的襯底。
[0073] 盡管以上對(duì)在光學(xué)光刻術(shù)的情況中使用本發(fā)明的實(shí)施例已經(jīng)做出了具體的參考， 但應(yīng)該理解的是，本發(fā)明可以用于其它應(yīng)用中，例如壓印光刻術(shù)，并且只要情況允許，不局 限于光學(xué)光刻術(shù)。在壓印光刻術(shù)中，圖案形成裝置中的拓?fù)湎薅嗽谝r底上產(chǎn)生的圖案?？?以將所述圖案形成裝置的拓?fù)溆∷⒌教峁┙o所述襯底的抗蝕劑層中，在其上通過(guò)施加電磁 輻射、熱、壓力或其組合來(lái)使所述抗蝕劑固化。在所述抗蝕劑固化之后，所述圖案形成裝置 從所述抗蝕劑上移走，并在抗蝕劑中留下圖案。
[0074] 雖然在本文中詳述了將靜電夾具用在光刻設(shè)備中，但是應(yīng)當(dāng)理解，本文中所述的 靜電夾具可以具有其它的應(yīng)用，例如用于掩模檢驗(yàn)設(shè)備中、晶片檢驗(yàn)設(shè)備中、空間圖像量測(cè) 設(shè)備中以及更普遍地用在用于在真空中或在環(huán)境（非真空）條件下測(cè)量或處理物體（例如 晶片（或其它襯底）或掩模（或其它圖案形成裝置））的任何設(shè)備中，例如，用在諸如等離 子體蝕刻設(shè)備或沉積設(shè)備中。
[0075] 在本文中所使用的術(shù)語(yǔ)"輻射"和"束"包括所有類(lèi)型的電磁輻射，包括紫外（UV) 輻射（例如具有約365、355、248、193、157或12611111的波長(zhǎng)）和極紫外伍群）輻射（例如具 有在5-20nm的范圍內(nèi)的波長(zhǎng)），以及帶電粒子束，如離子束或電子束。
[0076] 在允許的情況下，術(shù)語(yǔ)"透鏡"可以表示各種類(lèi)型的光學(xué)部件中的任何一種或其組 合，包括折射式的、反射式的、磁性的、電磁的和靜電的光學(xué)部件。
[0077] 盡管以上已經(jīng)描述了本發(fā)明的具體實(shí)施例，但應(yīng)該認(rèn)識(shí)到，本發(fā)明可以以與上述 不同的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)。上文的描述不是要限制本發(fā)明。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種源收集器設(shè)備，包括：燃料液滴生成器，配置成生成從所述燃料液滴生成器的 出口朝向等離子體形成部位引導(dǎo)的燃料液滴流；以及氣體供給裝置，配置成提供朝向所述 燃料液滴流引導(dǎo)的氣體流，借助于該氣體流，伴生液滴被偏轉(zhuǎn)出所述燃料液滴流。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的源收集器設(shè)備，還包括護(hù)罩，所述護(hù)罩基本上平行于所述燃 料液滴流延伸，且其中所述氣體流從設(shè)置在所述護(hù)罩中或所述護(hù)罩附近的出口延伸。3. 根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的源收集器設(shè)備，其中所述氣體流由多個(gè)獨(dú)立氣體流形成。4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的源收集器設(shè)備，其中所述氣體流位于一平面中，且其中所述 燃料液滴流基本上垂直于所述平面。5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的源收集器設(shè)備，其中所述氣體流被配置成使得在使用中，任 何伴生液滴被偏轉(zhuǎn)成使得在使用中它們不穿過(guò)用于從燃料液滴生成等離子體的激光束。6. 根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的源收集器設(shè)備，還包括檢測(cè)設(shè)備，所述檢測(cè)設(shè)備 被構(gòu)造和布置用于檢測(cè)燃料液滴在燃料液滴流中的融合。7. -種源收集器設(shè)備，包括：燃料液滴生成器，配置成生成從所述燃料液滴生成器的 出口朝向等離子體形成部位引導(dǎo)的燃料液滴流；護(hù)罩，所述護(hù)罩構(gòu)造和布置用于保護(hù)燃料 液滴流，所述源收集器設(shè)備還包括檢測(cè)設(shè)備，所述檢測(cè)設(shè)備被構(gòu)造和布置用于在燃料液滴 流沿著所述護(hù)罩通過(guò)時(shí)檢測(cè)燃料液滴在燃料液滴流中的融合。8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的源收集器設(shè)備，其中所述檢測(cè)設(shè)備容納在所述護(hù)罩中。9. 根據(jù)權(quán)利要求7或8所述的源收集器設(shè)備，其中所述檢測(cè)設(shè)備是光學(xué)檢測(cè)設(shè)備或電 磁檢測(cè)設(shè)備。10. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的源收集器設(shè)備，其中所述檢測(cè)設(shè)備包括布置在燃料流的第 一側(cè)上的多個(gè)光源和布置在燃料流的相反的第二側(cè)上的多個(gè)對(duì)應(yīng)的檢測(cè)器。11. 根據(jù)權(quán)利要求9所述的源收集器設(shè)備，其中所述檢測(cè)設(shè)備包括布置在燃料流周?chē)?的第一電磁傳感器和第二電磁傳感器。12. -種光刻設(shè)備，包括根據(jù)前述權(quán)利要求中任一項(xiàng)所述的源收集器設(shè)備。13. -種從源收集器設(shè)備的燃料液滴流中去除伴生液滴的方法，所述燃料液滴流沿著 第一方向延伸，所述方法包括：將氣體流朝向所述燃料液滴流引導(dǎo)以將在第二方向上相對(duì) 于燃料液滴的差異速度賦予所述伴生液滴。14. 一種用于檢測(cè)在源收集器設(shè)備的燃料液滴流中的伴生液滴的形成的方法，其中所 述燃料液滴流由燃料液滴生成器生成，且其中所述燃料液滴流由護(hù)罩保護(hù)，所述方法包括 提供用于檢測(cè)在所述護(hù)罩中燃料液滴的融合出現(xiàn)所在的位置的設(shè)備。
【專(zhuān)利摘要】一種用在光刻設(shè)備中的源收集器設(shè)備，所述源收集器設(shè)備包括：燃料液滴生成器(4)，配置成在使用中生成從所述燃料液滴生成器的出口朝向等離子體形成部位(7)引導(dǎo)的燃料液滴流(6)。為了防止液滴伴生對(duì)等離子體形成的干擾，氣體供給裝置被提供以在使用中提供氣體流(A)，例如氫氣流，該氣體流將任何伴生液滴偏轉(zhuǎn)出所述燃料液滴流。另外，檢測(cè)設(shè)備可以設(shè)置為護(hù)罩(5)的一部分，以確定燃料液滴融合所出現(xiàn)的點(diǎn)，由此提供對(duì)于在燃料液滴流中存在伴生液滴的可能性的指示。
【IPC分類(lèi)】H05G2/00, G03F7/20
【公開(kāi)號(hào)】CN105074577
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201480019323
【發(fā)明人】N·克里曼斯, D·格盧什科夫, R·豪特曼, B·倫肯斯, G·斯溫克爾斯, C·沃斯比克
【申請(qǐng)人】Asml荷蘭有限公司
【公開(kāi)日】2015年11月18日
【申請(qǐng)日】2014年3月5日
【公告號(hào)】WO2014161698A1