UV光源43例如是固態(tài)激光器。通過(guò)驅(qū)動(dòng)光 源驅(qū)動(dòng)部44,從UV光源43出射紫外光，經(jīng)由光源光學(xué)系統(tǒng)42傳導(dǎo)至光學(xué)頭41。
[0101] 各光學(xué)頭41具有：導(dǎo)光部45,光學(xué)系統(tǒng)451、47,空間光調(diào)制設(shè)備46。導(dǎo)光部45將 來(lái)自UV光源43的光傳導(dǎo)至下方。光學(xué)系統(tǒng)451反射來(lái)自導(dǎo)光部45的光再傳導(dǎo)至空間光 調(diào)制設(shè)備46?？臻g光調(diào)制設(shè)備46對(duì)經(jīng)由光學(xué)系統(tǒng)451照射的來(lái)自光出射部48的光束進(jìn)行 空間調(diào)制并反射。光學(xué)系統(tǒng)47將來(lái)自空間光調(diào)制設(shè)備46的調(diào)制的光傳導(dǎo)至設(shè)于基板9的 上表面91的感光材料上。
[0102] 例如，空間光調(diào)制設(shè)備46具有多個(gè)光調(diào)制元件。例如，使用GLV(GratingLight Valve:光柵光閥）（硅光機(jī)（桑尼維爾，加利福尼亞）的注冊(cè)商標(biāo)）作為光調(diào)制元件。另 外，也可以使用DMD(數(shù)字微鏡設(shè)備）作為光調(diào)制元件?；趤?lái)自控制部6的信號(hào)，控制這 些光調(diào)制元件，通過(guò)這樣，分別向在基板9的上表面91上沿著X方向（即，副掃描方向）排 列的多個(gè)照射位置照射空間調(diào)制的光束。
[0103] 在圖1以及圖2所示的繪制裝置1中，對(duì)使用保持部移動(dòng)機(jī)構(gòu)2移動(dòng)的基板9,照 射來(lái)自繪制頭4的空間光調(diào)制設(shè)備46的調(diào)制的光束。換言之，保持部移動(dòng)機(jī)構(gòu)2是如下的 照射位置移動(dòng)機(jī)構(gòu)，該機(jī)構(gòu)將從空間光調(diào)制設(shè)備46傳導(dǎo)至基板9的光束在基板9上的照射 位置，相對(duì)于基板9移動(dòng)。此外，在繪制裝置1中，例如，也可以不必移動(dòng)基板9,而通過(guò)空間 光調(diào)制設(shè)備46移動(dòng)，移動(dòng)基板9上的光束的照射位置。在繪制裝置1中，通過(guò)使用圖1所 示的控制部6,控制繪制頭4以及保持部移動(dòng)機(jī)構(gòu)2,在基板9上繪制圖案。
[0104] 圖1所示的光學(xué)特性取得裝置8是一般的計(jì)算機(jī)系統(tǒng)，具有進(jìn)行各種運(yùn)算處理的 CPU、存儲(chǔ)基本程序的ROM以及存儲(chǔ)各種信息的RAM等。圖4是示出光學(xué)特性取得裝置8的 功能的框圖。光學(xué)特性取得裝置8具有：圖像存儲(chǔ)部81、運(yùn)算部82、光學(xué)特性取得部83。圖 像存儲(chǔ)部81存儲(chǔ)使用攝像裝置5取得的圖像。運(yùn)算部82取得該圖像中的像素值分布。光 學(xué)特性取得部83基于由運(yùn)算部82取得的像素值分布，取得攝像裝置5的光學(xué)特性。
[0105] 在繪制裝置1中，在對(duì)基板9進(jìn)行圖案繪制之前，使用光學(xué)特性取得裝置8取得攝 像裝置5的光學(xué)特性。以下，一邊參照?qǐng)D5, 一邊針對(duì)使用光學(xué)特性取得裝置8取得攝像裝 置5的光學(xué)特性進(jìn)行說(shuō)明。在以下的說(shuō)明中，說(shuō)明使用光學(xué)特性取得裝置8,取得作為攝像 裝置5的光學(xué)特性之一的失真特性（即，視野范圍內(nèi)的失真的分布特性）。
[0106] 在光學(xué)特性的取得過(guò)程中，首先，準(zhǔn)備圖6所示的大致矩形的標(biāo)準(zhǔn)化板93。標(biāo)準(zhǔn) 化板93是用于取得攝像裝置5的光學(xué)特性的參照物。在標(biāo)準(zhǔn)化板93的上表面94上，相同 形狀的多個(gè)圖形元素941規(guī)則地分布。圖6所示的例子中的各圖形元素941是大致圓形 的。另外，多個(gè)圖形元素941，在標(biāo)準(zhǔn)化板93的上表面94的大致整個(gè)表面上被配置為格子 狀（即，矩陣狀）。例如，標(biāo)準(zhǔn)化板93是由石英或者玻璃形成的板狀構(gòu)件。例如，多個(gè)圖形 元素941是通過(guò)光刻，在標(biāo)準(zhǔn)化板93上以較高的位置精度形成的。
[0107] 接下來(lái)，取代圖1所示的基板9,而由基板保持部3保持標(biāo)準(zhǔn)化板93,使標(biāo)準(zhǔn)化板 93被保持部移動(dòng)機(jī)構(gòu)2保持而通過(guò)攝像裝置5的下方。而且，使用攝像裝置5,取得標(biāo)準(zhǔn)化 板93的上表面94的圖像（以下，稱(chēng)為"參照?qǐng)D像"。）。將參照?qǐng)D像發(fā)送至光學(xué)特性取得裝 置8的圖像存儲(chǔ)部81，存儲(chǔ)于圖像存儲(chǔ)部81來(lái)做準(zhǔn)備（步驟S11)。在參照?qǐng)D像中，例如， 多個(gè)圖形元素941顯示得較暗，除了該多個(gè)圖形元素941以外的背景顯示得較亮。
[0108] 如圖6所示，由于各圖形元素941相對(duì)于標(biāo)準(zhǔn)化板93足夠小，所以在上述參照?qǐng)D 像中，構(gòu)成與各圖形元素941相對(duì)應(yīng)的像素群（組）的像素的數(shù)量很少。例如，當(dāng)使用參照 圖像的背景像素值與圖形元素941的中心部像素值的平均值，將參照?qǐng)D像二進(jìn)制化時(shí)，進(jìn) 行二進(jìn)制化得到的與各圖形元素941相對(duì)應(yīng)的像素群全部被包含于一個(gè)正方形區(qū)域中，該 正方形區(qū)域的一條邊小于或等于10像素。上述背景像素值是參照?qǐng)D像中的除了多個(gè)圖形 元素941以外的背景的像素值；例如，在背景的像素值存在波動(dòng)（不均、偏差）的情況下，上 述背景像素值是背景的像素值的平均值或者眾數(shù)。背景像素值也可以理解為作為在參照?qǐng)D 像中出現(xiàn)頻率最高的像素值的最高頻率像素值。上述中心部像素值是多個(gè)圖形元素941的 中心部的像素值；例如，在各個(gè)圖形元素941的該中心部的像素值存在波動(dòng)的情況下，上述 中心部像素值是多個(gè)圖形元素941中的中心部的像素值的平均值或者眾數(shù)。
[0109] 接下來(lái)，使用運(yùn)算部82,在圖像存儲(chǔ)部81中存儲(chǔ)的參照?qǐng)D像中，針對(duì)多個(gè)圖形元 素941的各自的像素值分布（S卩，以各圖形元素941為大致中心的各圖形元素941附近的 像素值的分布），使用可偏微分的模型函數(shù)進(jìn)行模型化（步驟S12)。該模型函數(shù)是表示從 XY平面向Z軸方向突出的大致吊鐘形的面的二維函數(shù)。
[0110] 如上述，在圖6所示的例子中，由于各圖形元素941是大致圓形的，所以運(yùn)算部82 根據(jù)圓狀的二維高斯函數(shù)來(lái)表現(xiàn)各圖形元素941。此處，"圓狀的二維高斯函數(shù)"是指從XY平面向Z軸方向突出的吊鐘形的二維高斯函數(shù)，S卩，與XY平面平行的剖面的形狀是圓形的 意思。運(yùn)算部82根據(jù)式3-1來(lái)表現(xiàn)坐標(biāo)（x，y)的像素中的圖形元素941的像素值的分布。
[0111]【式3-1】
[0112]F(x,y) =aXexp(~b((x~c)2+ (y-d)2))+e
[0113] 式3-1所示的二維高斯函數(shù)具有多個(gè)系數(shù)a、b、c、d、e。該二維高斯函數(shù)是可以分 別對(duì)作為未知數(shù)的系數(shù)a、b、c、d、e進(jìn)行偏微分的函數(shù)。多個(gè)系數(shù)a、b、c、d、e中的系數(shù)a 表示二維高斯函數(shù)的振幅，即，表示各圖形元素941的中心部的像素值（峰值）。另外，系數(shù) b表示與各圖形元素941相對(duì)應(yīng)的像素的擴(kuò)散的程度。系數(shù)c以及系數(shù)d分別表示各圖形 元素941的重心的X坐標(biāo)以及y坐標(biāo)。系數(shù)e表示參照?qǐng)D像中除了各圖形元素941以外的 區(qū)域的像素值（即，參照?qǐng)D像的背景的偏移，與上述的背景像素值相對(duì)應(yīng)。）。
[0114]當(dāng)圖形元素941的模型化結(jié)束時(shí)，使用運(yùn)算部82,通過(guò)使用參照?qǐng)D像的像素值，以 最優(yōu)化法進(jìn)行決定的方式，來(lái)取得上述模型函數(shù)中包含的多個(gè)系數(shù)（即，式3-1中的系數(shù) a~e)(步驟S13)。在步驟S13中，用于決定系數(shù)a~e的最優(yōu)化法例如是高斯-牛頓法 (Gauss-Newton法）或者列文伯格-馬夸爾特法（Levenberg-Marquardt法）。以下，首先， 針對(duì)通過(guò)高斯-牛頓法決定系數(shù)a~e的情況進(jìn)行說(shuō)明，然后，針對(duì)通過(guò)列文伯格-馬夸爾 特法決定系數(shù)a~e的情況進(jìn)行說(shuō)明。
[0115] 在高斯-牛頓法中，分別針對(duì)多個(gè)圖形元素941，通過(guò)重復(fù)計(jì)算來(lái)求出在如下情況 下的系數(shù)a~e;在該情況下，根據(jù)式3-1進(jìn)行模型化的圖形元素941的像素值分布，最高精 度地符合參照?qǐng)D像中的圖形元素941的實(shí)際的像素值分布。在該重復(fù)計(jì)算中，針對(duì)參照?qǐng)D 像上的多個(gè)像素，一邊變更系數(shù)a~e，一邊重復(fù)計(jì)算剩余誤差的平方和，以使得根據(jù)式3-1 求出的像素值與參照?qǐng)D像的實(shí)際的像素值之差的平方的合計(jì)值（即，剩余誤差的平方和） 收斂于最小值。
[0116] 在步驟S13中，首先，如圖7所示，決定多個(gè)系數(shù)a~e的初始值a0~e0 (步驟 S131)。例如，基于參照?qǐng)D像中的各圖形元素941內(nèi)的像素值與上述的背景像素值之差，決 定系數(shù)a的初始值a0。例如，基于標(biāo)準(zhǔn)化板93上的各圖形元素941的實(shí)際的大小，決定系 數(shù)b的初始值b0。例如，基于標(biāo)準(zhǔn)化板93上的各圖形元素941的中心的實(shí)際的X坐標(biāo)，決 定系數(shù)c的初始值c0?；跇?biāo)準(zhǔn)化板93上的各圖形元素941的中心的實(shí)際的y坐標(biāo)，決定 系數(shù)d的初始值d0?；谏鲜龅谋尘跋袼刂担瑳Q定系數(shù)e的初始值e0。
[0117] 例如，如以下這樣決定系數(shù)a~e的初始值a0~e0。系數(shù)a的初始值a0是圖形 元素941的中心部像素值與背景像素值之差。在使用位于設(shè)計(jì)上的攝像位置的攝像裝置5， 拍攝實(shí)際的各圖形元素941的情況下，系數(shù)b的初始值b0,是基于在參照?qǐng)D像上顯示的預(yù)定 的圖形元素941(以下，稱(chēng)為"圖形元素941的設(shè)計(jì)上的像"。）的直徑而求出的。系數(shù)c、d 各自的初始值cO、dO是上述的圖形元素941的設(shè)計(jì)上的像的重心的x坐標(biāo)以及y坐標(biāo)。系 數(shù)e的初始值e〇是背景像素值。
[0118] 接下來(lái)，通過(guò)將式3-1分別對(duì)系數(shù)a~e進(jìn)行偏微分得到式3-2~式3-6,使用式 3-2~式3-6求出式3-7,來(lái)求出差分值Δa~Δe，該差分值Δa~Δe是在上述重復(fù)計(jì)算 中的系數(shù)a~e第一次變更時(shí)的變更量（步驟S132)。
[0119] 【式3-2】
[0131] 在式3-7中，將公式中的X以及y作為xi以及yi處理，該xi以及yi表示第"i" 個(gè)像素的X坐標(biāo)以及y坐標(biāo)（在后述的式3-14也是同樣的）。由于在式3-7中"i= 1~ m"，所以在步驟S13中，重復(fù)進(jìn)行計(jì)算，以使得針對(duì)m個(gè)像素的剩余誤差的平方和達(dá)到最小 值。式3-7的左邊表示針對(duì)m個(gè)像素合計(jì)如下的兩個(gè)矩陣之積，這兩個(gè)矩陣分別是：由式 3-2~式3-6這5個(gè)偏微分構(gòu)成的5次方陣、由5個(gè)差分值Δa~Δe構(gòu)成的5行1列的矩 陣。式3-7的右邊表示針對(duì)m個(gè)像素合計(jì)如下的5行1列的矩陣；該矩陣表示：將式3-1分 別對(duì)系數(shù)a~e進(jìn)行偏微分得到的值，與從式3-1中減去實(shí)際的像素值Bi得到的值之積。
[0132]當(dāng)求出第一次的差分值Δa~Δe時(shí)，在將系數(shù)a~e的初始值a〇~e〇減去差分 值A(chǔ)a~Ae，求出下一個(gè)系數(shù)a~e之后（步驟S133、S134)，返回步驟S132。而且，通過(guò) 式3-7使用在步驟S134中求出的系數(shù)a~e，并求出該式3-7,來(lái)求出下一個(gè)差分值△a~ Ae，將現(xiàn)在的系數(shù)a~e減去該下一個(gè)差分值A(chǔ)a~Ae，來(lái)求出新的系數(shù)a~e(步驟 S132~S134)。運(yùn)算部82重復(fù)步驟S132~S134,直到滿(mǎn)足規(guī)定的結(jié)束條件為止。例如， 該結(jié)束條件是指，在步驟S132中求出的差分值A(chǔ)a~Ae的各個(gè)值達(dá)到小于或等于規(guī)定大 小的狀態(tài)。或者，例如，結(jié)束條件是上述的步驟S132~S134的重復(fù)次數(shù)達(dá)到規(guī)定次數(shù)的狀 ??τ〇
[0133]當(dāng)滿(mǎn)足結(jié)束條件時(shí)，通過(guò)在圖5所示的步驟S13中，將使用運(yùn)算部82求出的系數(shù) a~e代入式3-1，來(lái)取得根據(jù)式3-1所示的模型函數(shù)（即，圓狀的二維高斯函數(shù)）進(jìn)行模 型化的各圖形元素941的像素值分布（步驟S14)。
[0134] 在步驟S13中，在通過(guò)列文伯格-馬夸爾特法來(lái)決定系數(shù)a~e的情況下，與高 斯-牛頓法同樣地，分別針對(duì)多個(gè)圖形元素941，通過(guò)重復(fù)計(jì)算來(lái)求出在如下的情況下的系 數(shù)a~e，在該情況下，根據(jù)式3-1進(jìn)行模型化的圖形元素941的像素值分布，最高精度地符 合在參照?qǐng)D像中的實(shí)際的圖形元素941的像素值分布。在列文伯格-馬夸爾特法中，在通 過(guò)高斯-牛頓法沒(méi)有求出適當(dāng)?shù)南禂?shù)a~e的情況下，通過(guò)使用最速下降法等梯度法嘗試 系數(shù)a~e的粗略收斂，隨著收斂度提高，慢慢地過(guò)渡至高斯-牛頓法，來(lái)求出適當(dāng)?shù)南禂?shù) a~e〇
[0135] 具體地，當(dāng)重復(fù)步驟S132~S134時(shí)，在僅對(duì)式3-7的左邊的5次方陣中的對(duì)角線(xiàn) 元素計(jì)算權(quán)重系數(shù)的積分之后，求出差分值△a~△e;在求出的差分值△a~△e小于上 一次求出的差分值A(chǔ)a~Ae的情況下，減小上述權(quán)重系數(shù)；在大于上一次求出的差分值 Aa~Ae的情況下，增大上述權(quán)重系數(shù)。通過(guò)這樣，與通過(guò)高斯-牛頓法求出系數(shù)a~e 的情況相比，能夠縮短系數(shù)a~e的收斂所需要的時(shí)間。另外，即使在初始值a0~eO與最 終求出的系數(shù)a~e有比較大的差距的情況下，也能夠適當(dāng)?shù)厍蟪鱿禂?shù)a~e。
[0136]當(dāng)步驟S14結(jié)束時(shí)，基于由運(yùn)算部82取得的多個(gè)圖形元素941的各個(gè)像素值分 布，使用光學(xué)特性取得部83取得攝像裝置5的光學(xué)特性（步驟S15)。如上述，在該說(shuō)明中， 使用光學(xué)特性取得部83取得攝像裝置5的失真特性。具體地，根據(jù)由運(yùn)算部82取得的各 圖形元素941的像的像素值分布，求出各圖形元素941的像的重心位置（以下，稱(chēng)為"模型 化重心位置"。），求出模型化重心位置相對(duì)于各圖形元素941的上述設(shè)計(jì)上的像的重心位 置的偏離（以下，稱(chēng)為"重心偏離"。）。然后，取得參照?qǐng)D像上的多個(gè)圖形元素941的重心 偏離的分布，作為攝像裝置5的失真特性。
[0137] 圖8是示出由光學(xué)特性取得裝置8取得的攝像裝置5的失真特性（S卩，重心偏離的 分布）的圖。圖8所示的失真特性是通過(guò)列文伯格-馬夸爾特法來(lái)求出系數(shù)a~e取得的。 在圖8中，在多個(gè)圖形元素941中，從圖中的右上角部分附近以及右邊附近的圖形元素941， 向遠(yuǎn)離圖的中心部的方向延伸出直線(xiàn)。該直線(xiàn)是表示圖形元素941的重心偏離的矢量，該 直線(xiàn)的延伸方向表示圖形元素941的重心的偏離方向，該直線(xiàn)的長(zhǎng)度表示圖形元素941的 重心的偏離量。在圖8中，除了圖中的右上角部分附近以及右邊附近以外，圖形元素941的 重心位置不產(chǎn)生偏離。即，使用光學(xué)特性取得裝置8取得如下的攝像裝置5的失真特性，該 失真特性是在從視野的右上角部分附近到右邊附近的整個(gè)區(qū)域產(chǎn)生失真。此外，在光學(xué)特 性取得裝置8中，通過(guò)高斯-牛頓法求出系數(shù)a~e而取得的失真特性與圖8所示的失真 特性大致相同。
[0138] 此處，作為比較例的光學(xué)特性取得裝置假定是如下的一種裝置，該裝置利用規(guī)定 的閾值對(duì)上述的參照?qǐng)D像進(jìn)行二進(jìn)制化，取得與各圖形元素941相對(duì)應(yīng)的像（以下，稱(chēng)為 "二進(jìn)制化像"。），進(jìn)而取得各二進(jìn)制化像的重心位置相對(duì)于各圖形元素941的上述設(shè)計(jì)上 的像的重心位置的偏離的分布，將該偏離的分布作為攝像裝置5的失真特性。圖9是示出 由比較例的光學(xué)特性取得裝置取得的比較例的失真特性的圖。如圖9所示，就比較例的失 真特性而言，在圖中的除了右上角部分附近以及右邊附近以外的其他區(qū)域，也存在表示圖 形元素941的重心位置的偏離的矢量。在該其他區(qū)域中，相互接近的圖形元素941群的矢 量指向的方向也不一致，而是指向隨機(jī)方向。因此，該矢量的產(chǎn)生原因被認(rèn)為并不是攝像裝 置5在實(shí)際的視野范圍內(nèi)的失真，而是如上述，是由于形成圖形元素941的像的像素較少而 產(chǎn)生重心位置的變動(dòng)，進(jìn)而導(dǎo)致的計(jì)算誤差。這樣，在比較例的光學(xué)特性取得裝置中，偶然 誤差的影響比較大，難以高精度地取得攝像裝置5的光學(xué)特性。
[0139]與此相對(duì)，在上述的光學(xué)特性取得裝置8中，使用圖像存儲(chǔ)部81存儲(chǔ)標(biāo)準(zhǔn)化板93 的參照?qǐng)D像（步驟S11)，通過(guò)運(yùn)算部82,利用可偏微分的模型函數(shù)進(jìn)行模型化之后，利用最 優(yōu)化法來(lái)決定模型函數(shù)所包含的多個(gè)系數(shù)，取得參照?qǐng)D像中的各圖形元素941的像素值分 布（步驟S12~S14)。然后，使用光學(xué)特性取得部83,基于各圖形元素941的像素值分布 來(lái)取得攝像裝置5的光學(xué)特性（步驟S15)。通過(guò)這樣，即使在形成各圖形元素941的像的 像素值較少的情況下，也能夠高精度地求出各圖形元素941的像的像素值分布（S卩，各圖形 元素941的重心位置或者形狀等）。因此，能夠高精度地取得圖8所示的失真特性等攝像裝 置5的光學(xué)特性。
[0140] 另外，如上述，在光學(xué)特性取得裝置8中，在步驟S13中決定模型函數(shù)包含的多個(gè) 系數(shù)a~e的最優(yōu)化法是高斯-牛頓法或者列文伯格-馬夸爾特法。通過(guò)這樣，能夠抑制 攝像裝置5的攝像元件（CCD元件等）的白色噪聲等影響，高精度地求出各圖形元素941的 像素值分布。
[0141] 如上述，當(dāng)使用參照?qǐng)D像的背景像素值與圖形元素941的中心部像素值的平均 值，將參照?qǐng)D像二進(jìn)制化時(shí)，進(jìn)行二進(jìn)制化得到的與各圖形元素941相對(duì)應(yīng)的像素群全部 (整體）被包含于一個(gè)正方形區(qū)域中，該正方形區(qū)域的一條邊小于或等于10像素。即，參照 圖像的分辨率比較低，與參照?qǐng)D像中的各圖形元素941相對(duì)應(yīng)的像素群比較小。就光學(xué)特 性取得裝置8而言，即使在如這樣基于低分辨率的參照?qǐng)D像的情況下，也能夠如上所述，通 過(guò)根據(jù)可偏微分的模型函數(shù)，將標(biāo)準(zhǔn)化板93的參照?qǐng)D像中的各圖形元素941的像素值分布 進(jìn)行模型化之后，根據(jù)最優(yōu)化法來(lái)決定模型函數(shù)包含的多個(gè)系數(shù)，從而也能夠高精度地求 出各圖形元素941的像素值分布。
[0142] 在步驟S131中，如上所述，基于參照?qǐng)D像中的各圖形元素941內(nèi)的像素值與背景 像素值之差，決定系數(shù)a的初始值a0 ;基于各圖形元素941的大小，決定系數(shù)b的初始值b0。 另外，基于標(biāo)準(zhǔn)化板93上的各圖形元素941的中心的X坐標(biāo)以及y坐標(biāo)，分別決定系數(shù)c、 d的初始值cO、d0 ;基于背景像素值，決定系數(shù)e的初始值eO。通過(guò)這樣，在決定系數(shù)a~ e的步驟S13中，能夠容易且適當(dāng)?shù)貨Q定系數(shù)a~e的初始值aO~eO。因此，能夠高精度 地決定系數(shù)a~e，能夠高精度地求出各圖形元素941的像素值分布。
[0143] 如圖10所示，在繪制裝置1中，當(dāng)使用光學(xué)特性取得裝置8取得攝像裝置5的光 學(xué)特性時(shí)（步驟S21)，通過(guò)使用攝像裝置5取得設(shè)有上述的多個(gè)記號(hào)911 (參照?qǐng)D3)的基 板9的測(cè)定圖像，將該測(cè)定圖像存儲(chǔ)于位置取得部85(參照?qǐng)D1)，來(lái)準(zhǔn)備該測(cè)定圖像（步 驟S22)。在位置取得部85中，考慮在步驟S21中取得的攝像裝置5的光學(xué)特性（例如，圖 8所示的失真特性），從測(cè)定圖像中取得多個(gè)記號(hào)911的位置（步驟S23)。然后，基于多個(gè) 記號(hào)911的位置來(lái)求出基板9的位置，基于該基板9的位置，使用控制部6來(lái)控制繪制頭4 以及保持部移動(dòng)機(jī)構(gòu)2,從而在基板9上繪制圖案（步驟S24)。
[0144] 如上所述，光學(xué)特性取得裝置8能夠高精度地取得攝像裝置5的光學(xué)特性。因此， 位置取得部85能夠高精度地取得基板9的位置（即，基板9相對(duì)于攝像裝置5以及繪制頭 4的相對(duì)位置）。因此，繪制裝置1能夠在基板9上高精度地繪制圖案。
[0145] 圖11是示出與圖6所示的標(biāo)準(zhǔn)化板93不同的標(biāo)準(zhǔn)化板93a的俯視圖。標(biāo)準(zhǔn)化板 93a是大致矩形，與圖6所示的標(biāo)準(zhǔn)化板93同樣地，是用于取得攝像裝置5的光學(xué)特性的 參照物。在標(biāo)準(zhǔn)化板93a的上表面94a上，規(guī)則地分布有相同形狀的多個(gè)圖形元素941a。 在圖11所示的例子中，各圖形元素941a是大致矩形（詳細(xì)地講，是大致正方